【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［Ｚ^＋は有機カチオン；Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１〜６のフッ素化アルキル基；Ｘは−（ＣＨ_２）_ｍ１−；Ｙは単結合、−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−；Ｌ１、ｍ１は１〜６の整数；ＲｘはＣ＝Ｃ不飽和結合を有し、置換基を有していてもよい炭素数２〜３６の２価の脂肪族炭化水素基；Ｒｙは酸解離性基である。］。
［化１］
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【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：［Ａ−（ＣＨＲ^１）_ｐ］_ｋ−（Ｌ）−（ＣＨ_２）_ｍ−（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｎ−ＳＯ_３⁻Ｚ^＋（Ｉ）（式中、Ａは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、Ｒ^１はＨ、単結合または置換されているかもしくは非置換のＣ_１−３０アルキル基であり、Ｒ^２はＨ、Ｆ、もしくはＣ_１−４フルオロアルキルであり、Ｌはスルホナート基、スルホンアミド基またはＣ_１−３０スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Ｚは有機もしくは無機カチオンであり、ｐは０〜１０の整数であり、ｋは１もしくは２であり、ｍは０以上の整数であり、並びにｎは１以上の整数である）を有する光酸発生剤化合物。 （もっと読む）

【課題】
パターン形成後にラフネスが発生したり、パターン自体をうまく描けないなどの欠陥を防止するために、樹脂中に光酸発生機能を組み込んだレジスト樹脂であって、「酸の作用によって現像液への溶解性が変化する部位」と「光酸発生機能を有する部位」が規則正しく配置されたレジスト樹脂を提供する。
【解決手段】
下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する含フッ素スルホン酸塩樹脂。
【化１】


（式中、Ａはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは１〜１０の整数を表す。Ｗは２価の連結基を表す。Ｒ^１は酸不安定基を表す。M⁺は、１価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】感度、ラフネス特性及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する化合物であって、下記一般式（１−１）により表される化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】リビングカチオン重合の開始種に用いることができ、かつ、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル並びにそれを開始種としてリビングカチオン重合可能なビニル系モノマーを重合して得られ、可逆的付加開裂連鎖移動重合によるリビングラジカル重合が可能な重合体の提供。
【解決手段】次の式（１）



（式中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子である）で表わされるビニルエーテル及びこれを開始種としてビニル系モノマーをリビングカチオン重合して得られる重合体。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物の酸発生剤として好適な化合物、及び当該化合物を含有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式（Ｉ）中、Ａ^＋は、有機カチオンを表す。Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^ｂ１及びＬ^ｂ１‘は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族炭化水素基等を表す。Ｙ^ｂ１は、炭素数１〜５のアルキル基を有していてもよいフェニレン基を表す。Ｘ^ｂは、メトキシメトキシ基等を表す。］、および、式（Ｉ）で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】スルホニウムボレート錯体を効率的に得るために用いることができるスルホニウム化合物、並びにスルホニウム化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るスルホニウム化合物は、下記式（１）で表される化合物と、下記式（２）で表される化合物とを反応させることにより得られる。下記式（１）中、Ｒ１は、アリール基又はナフチル基を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。下記式（２）中、Ｒ２は、ヒドロキシ基又はＣＨ_３ＯＣＯＯ基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。
【化１】
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【課題】毒性金属を含まず、ＳｂＦ₆^-塩に匹敵するカチオン重合性能や架橋反応性能を有し、かつこのものを使用した硬化物は特に耐熱試験後に透明性が低下する問題がない酸発生剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるフッ素化アルキルリン酸オニウム塩であって、当該オニウム塩中のアルカリ金属成分の含有量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする酸発生剤。
【化１】


［式（１）中、ＡはＶＩＡ族〜ＶＩＩＡ族（ＣＡＳ表記）の原子価ｎの元素を表し、ｎは１または２である。Ｒ１はＡに結合している有機基であり、Ｒ１の個数はｎ＋１である。Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。ｂはその個数を示し、１〜５の整数である。］ （もっと読む）

【課題】［（４Ｒ，６Ｒ）−６−アミノエチル−１，３−ジオキサン−４−イル］アセテート誘導体を、効率よく且つ銅触媒などの安価に調製可能な触媒を用いて製造可能なチオアミド化合物、該チオアミド化合物の製造方法、前記チオアミド化合物を用いた［（４Ｒ，６Ｒ）−６−アミノエチル−１，３−ジオキサン−４−イル］アセテート誘導体の製造方法などの提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるチオアミド化合物。


ただし、前記一般式（１）中、Ｒ^１は、−ＯＲ^１１、及び−ＮＲ^１２Ｒ^１３のいずれかを表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、アミド基の保護基及び水素原子のいずれかを表す。前記Ｒ^１１は、水酸基の保護基及び水素原子のいずれかを表す。前記Ｒ^１２及び前記Ｒ^１３は、それぞれ独立に、アミノ基の保護基及び水素原子のいずれかを表す（なお、前記Ｒ^１２及び前記Ｒ^１３は、一緒になって環構造の保護基を形成していてもよい）。 （もっと読む）

【課題】 分子組成にフッ素原子が含まれず、潜在性カチオン重合開始剤として機能することができるスルホニウム塩錯体、及びこれを用いた樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 本発明は、下記一般式（１）で表されるスルホニウムベンゼンスルホネート錯体を提供する。



式（１）中、Ｒ^１は、置換基を有する若しくは無置換のアリール基、又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ^２は、アラルキル基、又は−ＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ^４（ただし、Ｒ^４は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は置換基を有する若しくは無置換のアリール基である）を示し、Ｒ^３は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｎは１又は２の整数である。 （もっと読む）

【課題】基質一般性の問題が克服できる水中での不斉アルドール反応用の触媒を開発し、ホルムアルデヒド以外のアルデヒド化合物を反応基質として用いることのできる反応系を提供する。
【解決手段】水中で下式で表される配位子とスカンジウムドデシルサルフェート等のルイス酸とを混合させて得られる触媒の存在下、１−ｔ−ブチルチオ−１−プロペニルオキシトリメチルシラン等のケイ素エノラートとホルムアルデヒド等のアルデヒド化合物とを反応させるβ−ヒドロキシカルボニル化合物の製法。


（式中、Ｒ^１及びＲ^２はイソプロピル基、ｔ−ブチル基等を表し、Ｒ^３及びＲ^４は水素原子等を表し、Ｘ^１及びＸ^２は水酸基等を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトリソグラフィー法を適用した場合に、ばらつきの少ない、三次元形状の再現性に優れた感光性ネガ型樹脂組成物を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】本発明は、（ａ）エポキシ基を有する化合物と、（ｂ）（ｂ１）で表わされるカチオン部構造および（ｂ２）で表されるアニオン部構造を含有する第１のオニウム塩と、（ｃ）（ｃ１）で表わされるカチオン部構造および（ｃ２）で表されるアニオン部構造を含有する第２のオニウム塩と、を含むことを特徴とする感光性ネガ型樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 ラフネス特性に優れ、且つ、膜減りや裾引きのない良好なパターン形状を形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み且つ活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩、及び（Ｃ）下記一般式（１−１）または（１−２）で表される、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（一般式（１−１）及び（１−２）中の各符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】
スルホンアミドからスルホンアミドアルカリ金属塩を経由してスルホンアミドオニウム塩を製造する方法は、スルホンアミドアルカリ金属塩の収率が低く、工業的なスルホンアミドオニウム塩の製造方法ではなかった。
【解決手段】
スルホンアミドを、水酸化アルカリ金属と反応させる第１工程を含む、一般式（２）
【化】


で表されるスルホンアミドアルカリ金属塩の製造方法。
（式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数５以上の脂環式基または置換基を有していてもよい炭素数２以上の末端に重合性不飽和基を有する基であり、Ｘは２価の連結基であり、Ｙは直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋はアルカリ金属イオンである。） （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状の向上や、パターン倒れの抑制を達成できるレジスト組成物の、クエンチャーとして有用である新規な化合物の提供。
【解決手段】一般式（ｃ１）で表される化合物［Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数５以上の脂環式基であり、Ｘは２価の連結基であり、Ｙは直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキレン基、又はアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
［化１］
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【課題】パターン倒れを抑制でき、且つ、パターン形状やＬＷＲ、ＥＬマージン等のリソグラフィー特性にも優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、下記一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし、前記化合物（Ｃ１）を除く）を含有することを特徴とするレジスト組成物［Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数５以上の脂環式基であり、Ｘは２価の連結基であり、Ｙは直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキレン基、又はアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れが改良され、良好なプロファイルのパターンを形成する感光性組成物に用いられる新規な化合物を提供する。
【解決手段】下式で示される多環環状炭化水素構造を有するアリールスルホニウム塩。


［式中、Ｘ₁及びＸ₂はそれぞれ独立にアリール基等を表し、Ａｒ₁はアリール基を表し、Ｙ₁は単結合又は２価の連結基を表し、Ｙ₂は多環環状炭化水素基を表し、ｍ₁及びｍ₂は０〜２の整数を表し、ｍ₃は１又は２を表し、ここでｍ₁＋ｍ₂＋ｍ₃＝３であり、ｍ₄は１〜３の整数を表し、Ｘ-は対アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、少なくとも１つのヒドロキシ基を有する２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＮＲ^４−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ^３は、環式基を表し、該環式基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基で置換されていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］
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【課題】Ｎａ^＋Ｋ^＋Ｃｌ⁻共輸送体が関与する疾患、障害、および状態の処置および／または予防のための、組成物および方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、ブメタニド、フロセミド、ピレタニド、アゾセミド、およびトルセミドのアナログ、およびこのようなアナログを含有する組成物を提供する。本発明はまた、これらのブメタニド、フロセミド、ピレタニド、アゾセミド、およびトルセミドのアナログを含有する薬学的組成物、ならびにこれらを使用する方法を提供する。これらのアナログの全ては、Ｎａ^＋Ｋ^＋Ｃｌ⁻共輸送体またはＧＡＢＡ_Ａレセプターが関与する状態の処置および／または予防のために特に有用である。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を備える触媒前駆体と特定の配位子とからなる触媒系の存在下に、求核原子であるＳ、Ｃ、Ｎ、特にＳを有する基質を脱水アリル化させるアリル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）及び式（２）から選ばれる触媒前駆体と、配位子とを混合し、又は触媒前駆体とアリルアルコールと配位子とを混合し、その後、アリルアルコール類と、基質とを配合し、反応させるアリル化合物類の製造方法であって、配位子は、キナルジン酸又はピコリン酸であり、基質は、チオール類、チオカルボン酸類等である。［Ｒｕ（Ｃ_５Ｈ_５）（ＣＨ_３ＣＮ）_３］ＰＦ_６（１）［Ｒｕ〔Ｃ_５（ＣＨ_３）_５〕（ＣＨ_３ＣＮ）_３］ＰＦ_６（２） （もっと読む）