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Fターム[4H048BC50]の内容

第1−3族元素を含む化合物及びその製造 (10,279) | 反応パラメーター (254) | 分離、精製、安定化におけるパラメーター (23)

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Fターム[4H048BC50]に分類される特許

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【課題】重合触媒や有機合成試薬およびMOCVD法等による酸化亜鉛薄膜製造原料や等に使用されるジエチル亜鉛の熱安定性を向上させ,長期間取り扱っても金属亜鉛粒子が析出しない熱安定性に優れたジエチル亜鉛組成物を提供する。
【解決の手段】ジエチル亜鉛に添加物としてアズレン構造を有する化合物が添加されたジエチル亜鉛組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】CVD前駆体として使用するための、超純粋有機金属化合物の新規な調製方法に対する継続的な要求が存在する。
【解決手段】例えば化学蒸着のようなプロセス用の超純粋アルキル金属化合物を製造するため金属ハロゲン化物をアルキル化剤反応させる合成のためのマイクロチャンネルデバイスを使用することを含む超純粋有機金属化合物の調製方法。 (もっと読む)


【解決手段】高級脂肪酸亜鉛を含み、周期律表第I族アルカリ金属及び周期律表第II族アルカリ土類金属が総量で0質量%を超えて0.12質量%以下である原料の加熱溶融物を冷却固化させることによって得られた高級脂肪酸亜鉛ブロック成形体。
【効果】本発明の高級脂肪酸亜鉛ブロック成形体は、従来の高級脂肪酸亜鉛ブロック成形体より高い耐久性と高度な平滑性を有する高級脂肪酸亜鉛ブロック成形体であり、静電複写機などの事務機の滑剤、研磨剤、クリーニング助剤、現像助剤などとして好適に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法によって、高純度トリアルキルガリウム及びその方法を提供すること。
【解決手段】トリアルキルガリウム(アルキル基の炭素数は1〜6)とトリアルキルアミンを反応させて錯体を形成させ、これを蒸留によって精製した後、トリアルキルアミンを解離させることにより、遊離のトリアルキルガリウムを回収する。これによりケイ素原子の含有量が0.1質量ppm以下であることを特徴とする、高純度トリアルキルガリウムが得られる。 (もっと読む)


【課題】特により低い駆動開始電圧で駆動可能な有機EL素子とそれを達成しうる有機EL材料が求められている。Inq3は、その類縁体であるAlq3より駆動開始電圧が低い材料であることは既に知られているが、本発明は、より低い駆動開始電圧を与え、安定かつ安価に工業的規模で製造できるInq3を提供することを目的とする。
【解決手段】常圧下、25℃にて、トルエンに対する溶解度が、0.05g/L以下であることを特徴とするトリス(8-オキシキノリノラト)インジウムからなる有機エレクトロルミネッセンス材料。
原料として、常圧下、25℃にて、トルエンに対する溶解度が、0.5g/Lより大であるトリス(8-オキシキノリノラト)インジウムを、窒素もしくはアルゴン雰囲気下、360℃以上、420℃未満の温度にて5分間以上保持する第1工程、その後昇華する第2工程からなることを特徴とする上記有機エレクトロルミネッセンス材料の製造方法。 (もっと読む)


本発明は置換テトラヒドロフランエーテルを有する新規のボラン錯体、および置換テトラヒドロフランエーテルを有する新規のボラン錯体の有機反応への使用方法に関する。 (もっと読む)


【課題】従来の硫酸系光沢銅電解液と比べ、同等の光沢を有していながら均一な電析銅皮膜を安定して得ることの出来る硫酸系銅電解液を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するために、ビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド成分を含むことを特徴とする硫酸系銅電解液であり、当該ビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド成分はビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド銅水和物を用いて添加されたことを特徴とする硫酸系銅電解液を用いる。そして、ビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド銅水和物は3−メルカプト−1−プロパンスルホン酸ナトリウム水溶液に塩化第二銅を加えた混合溶液から有機溶剤を用いて晶析させるプロセスにより製造する。 (もっと読む)


【課題】 カールフィッシャー滴定による水分測定値が小さく、モノオール化合物やホウ酸トリメチルなどの未反応物や反応時に生成するメタノールなどの不純物が少ない高純度ホウ酸エステル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】 式(1)で示されるモノオール化合物1モルに対し、ホウ酸トリメチルを0.4〜2.0モル用いて、メタノールを吸着するモレキュラシーブの存在下に反応させる工程と、続いて未反応のホウ酸トリメチル、及びホウ酸エステル交換反応に伴って生成するメタノールを除去することにより、ホウ酸エステル化合物を高純度化する工程とを含むことを特徴とするホウ酸エステル化合物の製造方法である。
X−(AO)n−H (1)
(Xは1個の水酸基を持つ化合物の脱水素残基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、nはAOの平均付加モル数であり、n=1〜600である)。 (もっと読む)


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