【課題】可視域から近赤外域での感度や、繰り返し疲労における帯電安定性、温湿度変動に対して安定性に優れた電子写真感光体に用いられる有機光導電体として有用な新規チタニルポルフィラジン誘導体混合物、その製造法を提供する。
【解決手段】フタロニトリル、ジシアノピリジン、ヒドロキシ置換フタロニトリル、及びチタン化合物を反応させることにより得られた、下記一般式（１）で表される複数のチタニルポルフィラジン誘導体からなるチタニルポルフィラジン誘導体混合物。
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【課題】半導体素子等として有用なチタン酸化物膜及びケイ素酸化物膜を、低温で作製可能な方法、その原料錯体を提供する。
【解決手段】


（式中、Ｍはチタン原子又はケイ素原子を表す。Ｒ^１及びＲ^４はＣ_１〜Ｃ_１２アルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は水素原子又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を表す。Ｒ^５は、Ｃ_１〜Ｃ_６アルコキシ基又はジ（Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル）アミノ基を表し、ＱはＣ_１〜Ｃ_３アルキル基で置換されていてもよいＣ_２〜Ｃ_６メチレン基を表す。）で示される錯体（１）と、酸素ガス、空気、オゾン、水、過酸化水素の一種類以上とを反応させて得られる製膜用材料。 （もっと読む）

【課題】 ポリウレタン樹脂の製造方法において、低温領域での反応性に優れ、なおかつ環境的負荷の高い重金属を含まない触媒が望まれていた。
【解決手段】 下記式（１）で示されるヒドロキシルアミンのアルコール残基が、チタニウムと結合した構造を有するチタニウム化合物をポリウレタン製造用触媒として用いる。
【化１】


［上記式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_３は各々独立して、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。また、Ｒ_４は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】チタン−シリコン分子ふるいとその製造方法、及びその分子ふるいを用いたシクロヘキサノンオキシムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のチタン−シリコン分子ふるいの製造方法は、チタン源と、シリコン源と、遷移金属源と、テンプレート剤と、水と、を混合する工程と、前記混合物を加熱してゲル混合物を形成する工程と、水熱処理を行う工程と、前記水熱処理を経たゲル混合物を焼成し、チタン−シリコン分子ふるいを得る工程を含む。又、本発明のシクロヘキサノンオキシムの製造方法は、本発明のチタン−シリコン分子ふるいを触媒としてシクロヘキサノンオキシムを製造することで、高い転化率と選択率、並びに過酸化水素の高い使用率が得られる利点を有する。 （もっと読む）

【課題】エチレンの三量化反応において、反応器の壁や攪拌機への副生ポリマーの付着を抑制することができ、１−ヘキセンを効率的に製造することが可能なエチレン三量化用触媒を提供すること。
【解決手段】チタン原子を含むエチレン三量化用錯体と、周期律表第１２族の元素を含む活性化助触媒成分とを接触させて得られるエチレン三量化用触媒。 （もっと読む）

【課題】エチレンより１−ヘキセンを製造する場合に、副生ポリマー量を低減する製造方法を提供する。
【解決手段】下記工程を有する１−ヘキセンの製造方法。工程１：式（１−３）に代表される遷移金属錯体と有機アルミニウム化合物とを接触させる触媒成分の調製工程工程２：更に、ホウ素化合物とを接触させて得られる触媒の存在下、エチレンを三量化させる工程


Ｒ^１〜Ｒ^４はメチル基、Ｒ^５〜Ｒ^２１は水素又はメチル基、Ｘ^１〜Ｘ^３は塩素又はメチル基、Ｊはケイ素、Ｍはチタン （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる新規なケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ遷移金属錯体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される遷移金属錯体。


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【課題】エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる新規なケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ遷移金属錯体の提供。
【解決手段】一般式（１）で表される遷移金属錯体およびその製造方法の提供。更に、当該三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させる１−ヘキセンの製造方法の提供。
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【課題】エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる新規なケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ遷移金属錯体、その製造方法、及び１−ヘキセンの製造方法の提供。
【解決手段】式（１）で表される遷移金属錯体、その製造方法。


１−ヘキセンは、式（１）の触媒存在下、エチレンの三量化反応により製造する。 （もっと読む）

【課題】エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒となる遷移金属イオン錯体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１−１）等で例示される遷移金属イオン錯体。一般式（１−１）


[式中、Ｍは元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ａは対アニオンを表し、Ｒ^１−Ｒ^１０はＨ等、Ｘ^１，Ｘ^２はハロゲン等を表す] （もっと読む）

【課題】エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを製造することが可能な触媒成分となる新規な遷移金属錯体を提供する。
【解決手段】式（１）で表される遷移金属錯体。


（Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、及び、Ｒ^１、からＲ^１４は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリール基、アリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、アラルキルオキシ基等である。） （もっと読む）

【課題】エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを製造することが可能な触媒成分となる新規な遷移金属錯体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される遷移金属錯体等。


（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｘ^１〜Ｘ^３及びＲ^１〜^１９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲン原子を有しても炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数６〜２０のアリール基等である。） （もっと読む）

【課題】工業的に有利な重合温度かつ重合条件において、従来の錯体触媒よりも、共重合性を低下させることなく高分子量のオレフィン共重合体を製造できる錯体、それを含むオレフィン重合用触媒、さらにはそれを用いたオレフィン又はエチレンの重合方法の提供
【解決手段】下記の一般式［Ｉ］式で表されることを特徴とするハーフメタロセン錯体等。


（例えば、ジメチル［ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）｛２−（５−メチル−２−フリル）インデニル｝］チタニウム） （もっと読む）

【課題】金属含有薄膜を形成させる際に使用可能な金属テトラ（１−アルキルイソブチルアルコキシド）を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】金属ハロゲン化物（金属は、ジルコニウム、ハフニウム又はチタニウムから選ばれる）と１−アルキルイソブチルアルコールとを、アミン化合物の存在下、炭化水素溶媒中で反応させることを特徴とする、金属テトラ（１−アルキルイソブチルアルコキシド）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】機械的強度が高いパターン化酸化チタン膜を形成できる感光性金属アルコキシド、塗布液、パターン化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】金属アルコキシドと、前記金属アルコキシドに配位した、化学式１で表される配位子等から成る感光性金属アルコキシド。


化学式１におけるＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、炭化水素又は水素である。前記感光性金属アルコキシドを含むことを特徴とする塗布液。その塗布液は、表面を有機物で修飾された金属化合物から成る粒子を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】カルボン酸アンモニウムの製造方法において、カルボン酸アンモニウム水溶液中の反応の副生成物が効率よく低減でき、高純度なカルボン酸アンモニウムを製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ニトリラーゼ活性を有する酵素（Ｂ）の存在下で、ニトリル化合物（Ｃ）を加水分解してなるカルボン酸アンモニウムの製造方法であって、酵素（Ｂ）が界面活性剤（Ａ）の存在下で細菌を用いて分泌生産された酵素であるカルボン酸アンモニウムの製造方法。界面活性剤（Ａ）が、両性界面活性剤、アニオン性界面活性剤及びＨＬＢが０〜１３のノニオン性界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高収率及び高選択的に、オレフィンと有機ハイドロパーオキサイドからオキシラン化合物を製造することができるチタン含有珪素酸化物触媒の製造方法及びオキシラン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記第一工程および下記第二工程を有するチタン含有珪素酸化物触媒の製造方法。
第一工程：トリアルキルシラン化合物と酸とを含む溶液中で、チタン含有ゼオライト層状前駆体を含む固体を処理することによりトリアルキルシリル化を行い、トリアルキルシリル化された固体を得る工程
第二工程：第一工程で得られたトリアルキルシリル化された固体を、焼成に付すること無くシリル化剤で処理することによりチタン含有珪素酸化物触媒を得る工程 （もっと読む）

【解決課題】本発明の目的は、微細で且つ、球状の粒子形状を有するシュウ酸バリウムチタニル粒子を提供すること。更に、本発明は結晶性に優れたチタン酸バリウムを提供すること。
【解決手段】平均粒子径が０．１〜５０μｍであり、粒子形状が球状であることを特徴とするシュウ酸バリウムチタニル粒子であり、その好ましい製造方法は、シュウ酸及び四塩化チタンを水に混合して得られる水溶液（Ａ１液）と、塩化バリウム水溶液（Ｂ１液）と、を反応容器に供給しつつ、反応液を該反応容器から排出しながら、シュウ酸バリウムチタニルの生成反応を５０℃未満で行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】遷移金属にも適用することが可能な、新規なメソポーラス金属酸化物の作製方法を提供すること。
【解決手段】金属元素に配位可能な置換基を複数有し、複数のベンゼン環からなる環状オリゴマーの溶液中に、加水分解性の金属化合物を加え、次いで前記加水分解性の金属化合物を前記溶液中で加水分解させて、加水分解物を形成させる加水分解工程と、前記加水分解物を前記溶液中から分離して、得られた前記加水分解物を焼成する焼成工程と、を含むメソポーラス金属酸化物の作製方法を使用する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法、ＡＬＤ法等に好適な反応剤、特に酸化剤との反応性に優れ、成膜速度向上及び低温薄膜化が可能となるチタニウムプレカーサを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される金属化合物。式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ²は、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ³は、メチル基又はエチル基を表す。
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