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Fターム[4H049VN06]の内容

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【課題】非常に低いレベルの金属不純物及び酸素含有不純物を有する、高純度金属含有化合物、特に有機金属化合物を一貫して提供する方法を提供する。
【解決手段】連続抽出を使用する金属含有化合物の精製方法が提供される。この金属含有化合物は高純度で提供され、および金属フィルム、特に電子デバイスで使用される薄い金属フィルムを堆積する際に使用するのに好適である。 (もっと読む)


式(I):
【化1】


(式中、Mは遷移金属であり;Xは、水素原子、ハロゲン原子、又はヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり;Lは二価の橋架基であり;Rは、ヘテロ原子を有していてもよい線状C〜C40炭化水素基であり;T、T、T、及びTは、酸素又はイオウ原子、或いはC(R18)基であり、但し、TとTの中の少なくとも一つの基は酸素又はイオウ原子であり;R18は、水素原子又はC〜C40炭化水素基であり;nは1、2、又は3であり;Rは、水素原子又はC〜C40炭化水素基であり;Wは、芳香族の5又は6員環である)
の橋架メタロセン化合物。
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【課題】 半導体製造における成膜原料として有用な有機金属アミド錯体の精製方法を提供する。
【解決手段】 一般式:M[N(R)(R)]で示される有機金属アミド錯体の製造において、該有機金属アミド錯体中に含有する塩素を精製除去するに際し、該有機金属アミド錯体中に含有する塩素1当量に対し、1〜100当量のリチウムアルキルアミドを添加し、減圧蒸留を行う(但し、Mは、Hf、Zr、Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ga、Ge、Sn、またはSbであり、R及びRはメチル基又はエチル基であり、nはMの価数である。)。 (もっと読む)


式(I):


(式中、Mは遷移金属の原子であり;Xは、水素原子、ハロゲン原子、又は炭化水素をベースとする基であり;RはC〜C40炭化水素基であり;R及びRは、一緒になって縮合3〜7員環を形成し;Rは水素原子又はC〜C40炭化水素基であり;Wは芳香族5又は6員環である)
の橋架メタロセン化合物。
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【化1】


遷移金属触媒を用いて、官能基で置換されたオレフィンの、重合の方法が提供される。この方法は、触媒構造に組み込まれた1以上の安定化基によるものであり、重合工程における、それぞれの連続的な反応の間、遷移金属錯体に対するそれぞれのオレフィンモノマーの立体配置を「固定」する。本発明は、実質的に、重合中に触媒の活性部位におけるオレフィン転移の可能性を減少させる。1つの特定の実施形態では、官能基は極性、電子供与性基であり、安定化基はルイス酸置換基であり;このような系で調製され得るポリマーの例は、ポリ(酢酸ビニル)、ポリ(ビニルアルコール)、およびポリ(ビニルエーテル)を含む。重合方法において有用な新規の錯体および触媒系もまた、提供される。 (もっと読む)


【課題】 溶液気化の化学気相成長法に用いるための高純度の(ノルマルブトキシ)トリス(ジピバロイルメタナト)ジルコニウムの原料溶液を容易に製造する方法および該溶液を用いたPZT膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 精製したジルコニウムイソプロポキシドを原料として(イソプロポキシ)トリス(ジピバロイルメタナト)ジルコニウムを合成し、次いで、(イソプロポキシ)トリス(ジピバロイルメタナト)ジルコニウムを酢酸ノルマルブチルに溶解後、室温で5時間以上経ることにより、(ノルマルブトキシ)トリス(ジピバロイルメタナト)ジルコニウムに完全に変化した原料溶液が得られる。 (もっと読む)


【課題】オレフィン重合性能に優れた重合触媒用の遷移金属化合物を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表される構造をもつ新規な遷移金属化合物。


〔一般式(1)において、Lは上記一般式(2)で表され、ここでR1〜R4は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基等を示し、R5およびR6は、R1〜R4と同様の原子または基を示し、Qは4配位のホウ素、アルミニウム等を示す。Dは、カルベン、またはヘテロ原子を表すVを介してMに配位する、上記一般式(3)で表される基であり、Vはカルベン、窒素、酸素、硫黄、リン原子を示し、RaおよびRbは、炭素数1〜20の炭化水素基等を示す。Mは周期律表第4〜6族から選ばれる遷移金属原子を示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基等基を示し、Yは電子供与性基を有する中性配位子を示し、mはMの価数を満たす数であり、nは、0〜3の整数を示す。〕 (もっと読む)


本発明は、不斉金属錯体ならびにアクチベータを含む、線状のアイソタクティックポリマーを生成するための触媒コンビネーションに関する。
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【課題】 特にCVD用原料として合致する熱及び/又は酸化による分解特性、熱安定性、蒸気圧等の性質を有するチタニウム、ジルコニウム又はハフニウムプレカーサを含有する薄膜形成用原料を提供すること。
【解決手段】 下記一般式(I)で表される金属化合物を含有してなる薄膜形成用原料。
【化1】
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柔軟性、耐衝撃性、耐熱性および低温ヒートシール性に優れたプロピレン・1−ブテンランダム共重合体、該共重合体を含むポリプロピレン組成物、該組成物からなるシート、(延伸)フィルムおよび前記組成物からなる層を有する複合フィルムを提供しようとするものであって、プロピレン・1−ブテンランダム共重合体は、プロピレン単位を60〜90モル%、1−ブテン単位を10〜40モル%含有し、トリアッドアイソタクティシティーが85%以上97.5%以下、分子量分布(Mw/Mn)が1〜3の範囲、極限粘度が0.1〜12dl/g、融点(Tm)が40〜120℃、Tmと1−ブテン単位含量M(モル%)とが
146exp(−0.022M)≧Tm≧125exp(−0.032M)を満たす。
また、オレフィン重合用触媒成分として有用な遷移金属化合物、該遷移金属化合物を含むオレフィン重合用触媒も提供する。 (もっと読む)


【課題】 プラスチックレンズなどの光学部材に要求される高い透明性を有しつつ、かつ、屈折率(nd)1.7を超える高屈折率を有する樹脂の原料となる重合性化合物、該樹脂からなる光学部材を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で表される化合物、


(1)

(式中、MはSn原子、Si原子、Zr原子、Ti原子またはGe原子を表す)

該化合物を含有する重合性組成物、該重合性組成物を重合して得られる樹脂、ならびに、該樹脂からなる光学部材に関する。 (もっと読む)


重合触媒であって、(1)式Aの窒素含有遷移金属化合物、及び(2)有機アルミニウム又はヒドロカルビルホウ素活性剤からなり、ここにおいて(a)R及びRは一価の基であるか又は(b)R及びRは炭素原子を介してトリアゼンユニットの末端窒素原子を架橋して二価の基Rを完全に形成するかの何れかであり;R及びR並びに二価の基Rは(i)脂肪族炭化水素、(ii)脂環式炭化水素、(iii)芳香族炭化水素、(iv)アルキル置換芳香族炭化水素、(v)複素環基、及び(vi)前記(i)乃至(v)の基のへテロ置換誘導体であり;Mは周期律表の3乃至11族の金属又はランタニド金属であり;Xは陰性基であり、Lは中性供与体基であり;nは1又は2であり、y及びzはX及びL基の数が金属Mの酸化状態及び価数を満たす独立した整数又はゼロである。触媒は1−オレフィン、特にエチレン及びプロピレンを重合するために使用される。高分子量単独−及び共−ポリプロピレンが開示されている。
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下記式(1)


(式中、R、R、R及びRは同一又は異なっていてもよく、下記式(2)


(式(2)中、Qは置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Rは金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はRとRとが一緒になって環を形成していてもよい)で示される基を表し、Q及びQは同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Xは二価のスペーサーを表す)で示されることを特徴とする配位子。
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【課題】 気相化学反応(CVD)により薄膜を形成させるための原料として有用な、気化性、安定性に優れた含フッ素金属錯体の合成方法を提供する。
【解決手段】 Zr、Hf、またはTiの含フッ素β−ジケトン錯体を合成するに際し、Zr、Hf、またはTiの無水金属塩化物を非プロトン性溶媒中に溶解または懸濁・分散させ、超強酸と無水金属塩化物とを反応させ、さらに含フッ素β−ジケトンを反応させた後、60〜140℃の温度範囲で還流しながら、1〜50Paの不活性ガス加圧下で反応させ、遊離する超強酸、塩化水素を除去した後、二層分離した溶液から上層溶媒を除去したのち、再度非プロトン性溶媒を添加し、60〜140℃の温度範囲て還流した後、−20〜15℃の温度範囲で冷却して結晶を析出させ、結晶を濾別後、再度非プロトン性溶媒を添加して60〜140℃の温度範囲て還流した後、−20〜15℃の温度範囲で冷却して結晶を析出させる。 (もっと読む)


本発明は、1,4,6−置換された、1,4−置換された、1,6−置換された、または1−置換されたフルベン化合物の簡単な合成法、フルベン化合物の中間体、及び該フルベン化合物を利用し、炭素一つで橋架けされ、シクロペンタジエニル配位子の橋架け点の隣だけに置換体を有しているアンサ型メタロセン化合物の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】運搬の容易な、固形のハフニウム及び/又はジルコニウム層状化合物、その効率的な製造方法並びに前記層状化合物を含有する塗布層から形成され、高い硬度と優れた疎水性とを有する硬質膜を提供すること。
【解決手段】(1)ハフニウム及び/又はジルコニウムとカルボニル基とを含有することを特徴とする層状化合物。(2)水酸化ハフニウム及び/又は水酸化ジルコニウムと水とカルボン酸とを混合し、加熱することを特徴とする前記(1)の層状化合物の製造方法。(3)前記(1)の層状化合物層状化合物を含有する塗布層に紫外線を照射することによって形成されて成ることを特徴とする硬質膜。 (もっと読む)


エレクトロルミネッセンス物質は、有機金属錯体であって、前記金属は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、もしくはタンタルである。
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【課題】 アンサ−メタロセン誘導体を、高いジアステレオ選択性及び/又は高いエナンチオ選択性で製造することができ、アンサ−メタロセン誘導体を得ることのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の製造方法は、下記一般式(1)で示される、アンサ−メタロセン誘導体の製造方法であって、チタン、ジルコニウム又はハフニウム原子と複合体を形成し得るエーテル類又はアミン類と、チタン、ジルコニウム又はハフニウムのハロゲン化物との複合体を用いることを特徴とする。
【化1】
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【課題】 公知メタロセンを用いた場合よりも高い融点を有するポリプロピレンを製造することが可能な、担体を有する触媒組成物の成分としてのアルキルブリッジを有するメタロセンを得る。
【解決手段】 式(I)
【化1】


で表され、M1が元素周期表の第III、IV、V又はVI族の元素又はランタノイド、Xが水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリール又はアリールアルキル、−OR6又は−NR67を意味し、2個のX基が相互に結合していてもよく、nがM1の酸化数マイナス2に対応する1〜4の自然数であり、R1が水素又はC1−C40基し、R2がアリール基又はC2−C40ヘテロ芳香族基、R3が水素又はC1−C40基を意味し、又はR2とR3とが一緒に環状基を形成し、R4が水素又はC1−C40基、R5がC1−C40基、及びZがCR89−CR1011で表される2価の基、R8、R9、R10及びR11が同一又は異なり、それぞれ水素又はC1−C40基を意味する有機金属遷移金属化合物。
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【課題】 メタロセン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 式(1)


(式中、R、R、R及びRは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基等を表し、R−Rは水素原子、ハロゲン原子、C1-20のアルキル基等を表し、R10はハロゲン原子、アルキル基等を表し、R11は炭化水素基又は三置換シリル基を表し、R12、R13及びR14は、ハロゲン原子、炭化水素基等を表す。)で示されるケイ素置換シクロペンタジエン化合物と式(2)


(式中、Mは元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を示し、X、X、X及びXは、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表し、nは0又は1を表す。)
で示される遷移金属化合物とを芳香族炭化水素溶媒を含む溶媒中で反応させることを特徴とする式(3)


(式中、X及びXは同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表す。)
で示されるメタロセン化合物の製造方法。 (もっと読む)


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