Fターム[4H049VP07]の内容
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Fターム[4H049VP07]に分類される特許
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フタロシアンニンを側鎖に持つ発光材料及びその製造方法
【課題】フタロシニンをベースにした新たな発光材料の提供。
【解決手段】下式の反応により得たケイ素置換基を有すフタロシニン誘導体とジアルキルジクロロシラン、あるいはアルキルフェニルジクロロシランとをナトリウムの存在下反応させ、ケイ素含有オリゴマーを側鎖に有すフタロシニン化合物を合成する。
(式中、Mは、Ni、CuまたはCoである)
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ポジティブ型感光性組成物
【課題】接着性および耐熱性に優れる高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリアミド誘導体100重量部に対し、多面体オリゴマシルセスキオキサン誘導体0.1〜20重量部、および光によって酸を発生する化合物5〜30重量部を含む感光性樹脂組成物が開示される。
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水酸基を有する低重合度ジオルガノシロキサンの製造方法
【課題】未反応のアルコキシ基残存量の少ない、分子鎖両末端に水酸基を有する低重合度の直鎖状ジオルガノポリシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】(a)一般式(1):
Si(R1)(R2)(OR3)2 (1)
〔式中、R1及びR2は、おのおの独立に、置換もしくは非置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基であり、R3は、メチル基又はエチル基である〕
で表されるジアルコキシシランを、該ジアルコキシシランが有するアルコキシ基に対して1.0倍モル以上の量の水を含有するpH1.0〜6.0の酸水溶液と混合し、生成するアルコールを除去しながら加水分解及び縮合を行う工程と、
(b)工程(a)で得られた反応混合物に金属酸化物を添加する工程と
を有することを特徴とする、両末端に水酸基を有する低重合度直鎖状ジオルガノシロキサンの製造方法
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不完全縮合オリゴシルセスキオキサンの製造方法
【課題】
完全縮合型POSSの骨格の再配列により、不完全縮合POSS誘導体を得る新規な製造方法の提供。
【解決手段】
一般式(1)
[式中、Phはフェニル基を表す。]
で示される完全縮合オクタフェニルオクタシルセスキオキサンを、水−アルコール溶媒中、アルカリの共存下、加水分解反応させることを特徴とする不完全縮合POSS誘導体の製造方法。
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環状シロキサン化合物及びそれを用いたポジ型レジスト組成物
【課題】レジストとしての物性に優れたポジ型レジスト組成物を与えることのできる環状シロキサン化合物及びそれを用いたポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物及び/又は下記一般式(1)で表される化合物を下記一般式(2)で表されるジビニル化合物とヒドロシリル化反応させて得られる化合物を、下記一般式(3)で表されるモノビニル化合物とヒドロシリル化反応させて得られる環状シロキサン化合物である。
CH2=CH−R2−CH=CH2 (2)
CH2=CR3−(R4)h−T (3)
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ナノ結晶でドープしたマトリックス
半導体ナノ結晶でドープしたマトリックスが提示されている。特定の実施形態において、半導体ナノ結晶は特定の波長で光を吸収または放出するような粒径および組成物を持つ。ナノ結晶には、マトリックスによる光の散乱が最小となるように、高分子を含むさまざまなマトリックス材料の混合を可能にするリガンドを含みうる。本発明のマトリックスはまた、屈折率整合の用途にも利用できる。別の実施形態において、半導体ナノ結晶はマトリックス内に埋め込みナノ結晶の密度勾配を形成することで有効屈折率勾配を生む。本発明のマトリックスはまた、光学装置へのフィルタや反射防止コーティングとして、また逓降変換層としても使用できる。また、半導体ナノ結晶を含むマトリックスを生成する過程が提示されている。高量子効率、小さな粒径、および/または狭い粒径分布を備えるナノ構造のほか、リン化インジウムナノ構造およびコアシェルナノ構造をII-VI族シェルにより生成する方法も記述されている。多様な新規ナノ構造リガンドについても記述している。
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イソシアネート基含有シロキサン化合物の製造方法
【解決手段】式(1)もしくは式(2)(Xはハロゲン原子)で示されるハロゲン化シロキサン化合物を、式(3)で示されるシアン酸塩と反応させ、ハロゲン部分をイソシアン基と置換させるイソシアネート基含有シロキサン化合物の製造方法。
【効果】安価な出発原料であるハロゲン化シロキサン化合物とシアン酸塩を用いて、安価にイソシアネート基含有シロキサン化合物を製造でき、工業的利益が発揮される。
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水素に富むシクロシロキサンの製造方法
本発明は、タイプ(H2SiO)n[式中、nは、3又はそれ以上の整数である]の水素に富むシクロシロキサンを、a.)タイプH2SiX2[ここでX=ハロゲンである]のハロゲンシランをb.)リチウム塩、銅(II)塩又は元素の周期表の第2主族又は第2副族からの金属の塩又はこれらの塩の混合物と反応させることにより選択的に合成することに関する。環サイズは、有利にはn=3、4、5、6(特にn=4〜6)に調節可能であるので、より大きな環は形成されない。本方法の特に有利な態様において、シクロヘキサシロキサン(H2SiO)6の選択的な製造のために、反応後に溶剤が少なくとも部分的に分離され、引き続き新たに溶剤が添加される。
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ポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体
【課題】劣化しない防汚コーティングの製造に好適なポリオルガノシリル化カルボキシレートの単量体又は重合体の提供。
【解決手段】一般式(I):
[式中、R1、R2、R3、R4、R5は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アリール、アラルキルまたはハロゲン基等を表し、R7は、水素、アルキル基または−COOR9(ここで、R9はアルキル基を表す)を表し、R8は、水素、アルキル基または−CH2−CO2−(SiR4R5O)n−SiR1R2R3を表し、そしてnは、ジヒドロカルビルシロキサン単位の数3から20を表す]で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体。
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抗菌剤化合物
本発明は、特に殺菌剤及び/又は抗付着剤としての使用のためのカチオン性シロキサン誘導体に関する。カチオン性シロキサン誘導体は、下記一般式Iを有し、
【化1】
式中R1、R2、R3、R4、R4‘、R5及びnは明細書中に定義した通りである。
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フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品
【課題】基材によく密着し、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の層を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンにおいて、
(Rf1はパーフロロエーテル残基を有する1価の基であり、Rf2はパーフロロエーテル残基を有する2価の基であり、Qは2価の有機基である)置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。
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オルガノポリシロキサンおよびその製造方法
本発明は、1分子当たり、式(I)O3−a/2RaSi−Y(SiRaO3−a/2)b[式中、Rは同一かまたは異なっていてもよく、かつ、有機の一価のSiC結合基を示し、この場合、この基は、1〜30個の炭素原子を含み、かつ、1個または複数個のO原子を含有していてもよく、aは0または1であり、かつbは1〜11の範囲の整数である]の少なくとも1種の構造単位を含有するオルガノポリシロキサン化合物に関する。 (もっと読む)
シラノール基を有するパーフルオロアルキルシルセスキオキサン誘導体およびその製造方法
【課題】表面改質剤や界面活性剤などに適用可能な新規なシルセスキオキサン化合物を提供する。
【解決手段】式(1)で表されるシルセスキオキサン誘導体を提供する。
【化1】
式(1)において、Rfはそれぞれ任意の少なくとも一個の水素がフッ素に置き換えられた炭素数1〜30のアルキルの群から独立して選択される基である。
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組成物、絶縁膜、およびその製造方法
【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物、その加水分解物またはそれらの縮合
物を含む組成物。
【化1】
式中、R1は水素原子または置換基である。R2は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アリールカルボニル基、4級アンモニウム原子を有する基または金属原子である。mは6〜30の整数を表す。
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アルキル−水素シロキサンの分解を防止する添加剤
a) それぞれ少なくとも1つの[−HSiR−O−]単位(ここで、R=C1−C18直鎖、分枝もしくは環式アルキル、C1−C18直鎖、分枝もしくは環式アルコキシ、または置換されたもしくは非置換のアリール)を有する1つまたはそれ以上のオルガノヒドロシロキサン化合物;およびb) 式(1)R4R5R3O−HR2R1に示した抗酸化化合物
【化1】
(ここで、抗酸化化合物は、フェノール系化合物であり、約1ppm〜約5000ppmの濃度で存在し、そしてR1〜R5は、それぞれ独立してH、OH、C1−C18直鎖、分枝もしくは環式アルキル、C1−C18直鎖、分枝もしくは環式アルコキシまたは置換されたもしくは非置換のアリールである)を含んでなるオルガノヒドロシロキサン組成物を提供する。
本発明の組成物は、安定性を示し、オルガノヒドロシロキサン生成物の貯蔵寿命が著しく延長され、化学プロセスまたは半導体製造においてこれらの生成物を取り扱う際に、より大きな柔軟性が得られる。シロキサンが安定化された結果、化学供給ラインまたはバルブ中で生成物の重合が完了する(すなわち凝固する)可能性が回避され、これにより装置のメインテナンスとコストが減り、機械が製造外にある時間が減少する。
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かご状オリゴシロキサンの製造方法
【解決手段】 酸存在下、極性溶媒を含む溶媒中で、下記一般式(1)で表されるアルコキシシランと水を反応させることを特徴とする下記一般式(2)で表されるかご状オリゴシロキサンを製造する方法。
R1Si(OR2)3 (1)
(R1SiO3/2)n(R1SiO2H)3 (2)
(一般式(1)及び(2)において、R1は水素原子、炭素原子数1〜20の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数1〜10のケイ素原子含有基から選ばれる。OR2は炭素原子1〜6のアルコキシル基である。nは2〜10の整数である。)
【効果】 本発明によれば、酸存在下極性溶媒を含む溶媒中でアルコキシシランを水と反応させることで、高純度かつ容易に目的とするシラノール基を有するかご状オリゴシロキサンを製造できる。また、本発明で製造したかご状オリゴシロキサンは、新規な電子材料、光学材料、電子光学材料、触媒担体、又は樹脂改質剤の反応中間原料として極めて有用である。
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シリルカルボン酸エステル単量体の製造方法
【化1】
式(I)のヒドロカルビルシリル不飽和カルボン酸エステルの製造方法が記載されており、ここでnは0〜1000のジヒドロカルビルシロキサン単位の数を表す。この方法は式(II)の不飽和カルボン酸と式(III)のヒドロカルビルシリル化合物との反応を包含し、該反応は親珪素性触媒の存在下で行われる。
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ヒドロカルビルシリルカルボン酸エステル化合物の製造方法
【化1】
式(II)のカルボン酸と式(III)のヒドロカルビルシリル化合物との反応による式(I)のヒドロカルビルシリルカルボン酸エステルの製造方法が記載されており、ここでnは0〜1000のジヒドロカルビルシロキサン単位の数を表す。反応は親珪素性触媒の存在下で行われる。
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環状アセチレン化合物およびその合成方法
【課題】 任意の原子を任意の数で含有する環状アセチレン化合物の合成、特にゲルマニウムを含有する環状アセチレン化合物ゲルマペリサイクリンの合成を実現すること。
【解決手段】 本発明に係る環状アセチレン化合物の合成方法は、少なくとも、非環状アセチレン化合物を生成させる工程を包含していればよいといえる。
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活性成分放出性環状シロキサン
放出可能な活性成分を含む環状シロキサンが記載される。活性成分はアルコール或いはエノール化可能なカルボニル含有化合物(例えば、ケトン、アルデヒド又はエステル)であり得る。生成物シロキサンは、活性成分の緩徐な放出又は制御された放出が所望される様々なパーソナルケア製品及びハウホールドケア製品中で有用である。好ましい実施形態では、活性成分として放出された場合に芳香性を示す置換基が使用される。 (もっと読む)
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