【課題】 より安価かつ容易に高純度なトリシリルアミンを得ることができるトリシリルアミンの製造方法を提供することを目的とする
【解決手段】 ペルヒドロポリシラザンを、無酸素または低酸素雰囲気下で加熱分解するトリシリルアミンの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】触媒量のインジウムを用いてケトン又はN-アシルヒドラゾンをアリル化するホモアリルアルコール又はホモアリルヒドラジドの製造方法を提供する。
【解決手段】式XXXIX


（式中、Ｒ^３は水素原子又は脂肪族炭化水素基）で表される、ホウ素を含むアリル化剤によってケトン又はN-アシルヒドラゾンをアリル化するアリル化ケトンの製造方法であって、ケトン又はN-アシルヒドラゾンに対し１〜５０mol%の１価又は０価のインジウムを触媒として用いる。例えば下式の反応が例示される。
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【課題】従来の欠点を有しないか、又は少なくとも実質的に改善された窒化タンタル及び窒化ニオブ薄膜をＣＶＤ法で成膜するための新規な前駆物質を提供する。
【解決手段】下記一般式（ＩＩ）で表される化合物。
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【課題】４００℃のような低温条件での成膜でも高い成膜速度が得られ、安定した成膜が可能であり、かつ段差被覆性に優れるＭＯＣＶＤ法用原料及び該原料を用いたシリコン含有膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＭＯＣＶＤ法用原料は、次の式（１）で示される有機シリコン化合物を用いたことを特徴とする。
【化４】


但し、式中のＲ¹はメチル基又はエチル基であり、Ｒ²は水素、メチル基又はエチル基であり、Ｒ³は水素又はメチル基であり、Ｒ⁴は炭素数１〜４の直鎖又は分岐状アルキル基である。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法、ＡＬＤ法の原料として熱安定性と気化特性を有する化合物、その製造方法、その化合物を用いた薄膜及び形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物を原料とした金属含有薄膜を形成する。
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本発明は、新規な１，３−ジイミン銅錯体と原子層蒸着法での基材上でのまたは多孔性固体中もしくは上での銅の蒸着のための１，３−ジイミン銅錯体の使用とに関する。 （もっと読む）

【課題】ゲルマニウム前駆体、これを利用して形成されたＧＳＴ薄膜、該薄膜の製造方法及び相変化メモリ素子を提供する。
【解決手段】ゲルマニウム、窒素及びシリコンを含有した低温蒸着用のゲルマニウム前駆体、これを利用して形成された窒素及びシリコンでドーピングされたＧＳＴ薄膜、該薄膜の製造方法及び相変化メモリ素子である。これにより、低温蒸着用のゲルマニウム前駆体は、窒素及びシリコンを含有しているところ、薄膜、より具体的には、窒素及びシリコンでドーピングされたＧＳＴ薄膜形成時に低温蒸着が可能である。特に、低温蒸着時、水素プラズマを利用できる。低温蒸着用のゲルマニウム前駆体を利用して形成された窒素及びシリコンでドーピングされたＧＳＴ相変化膜は、減少したリセット電流を有するところ、これを備えたメモリ素子は、集積化が可能になり、高容量及び高速作動が可能である。 （もっと読む）

簡便に糖鎖を導入できる糖ペプチドの生成のための方法を提供すること。本発明では、糖鎖の導入のための基を保護したアミノ酸を、４塩基コドン法でタンパクに導入することにより、脱保護したのちにその部位に天然の糖鎖を導入することにより、上記課題を解決した。従って、本発明は、以下の工程：（ａ）糖鎖に結合し得る官能基を有するアミノ酸を含み、４塩基コドンを認識する改変ｔＲＮＡ改変ｔＲＮＡを提供する工程；（ｂ）該４塩基コドンまたはその相補体を含む核酸配列を含む改変核酸分子を提供する工程；（ｃ）該改変核酸分子を転写してｍＲＮＡを生成する工程；および（ｄ）該改変ｔＲＮＡおよび翻訳に必要なセットのｔＲＮＡを含むタンパク質合成系に該ｍＲＮＡを曝してタンパク質を生成する工程、を包含する、糖鎖に結合し得る官能基を有するアミノ酸を含むタンパク質を生産するための方法を提供する。 （もっと読む）

比較的低エネルギーの紫外線を用いて、容易に撥水性親水性パターンを有する薄膜を形成できる含フッ素化合物を提供する。
下式１で表される含フッ素化合物（式１中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または１価有機基、そのうちの少なくとも一つはフッ素原子を有する１価有機基。Ｒ^５は水素原子または１価有機基。Ｒ^６は１価有機基。Ａはヘテロ原子。）を用いて薄膜を形成し、紫外線を照射することにより撥水性親水性パターンを有する薄膜を形成する。
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以下の構造の一つを有する多官能性のシリコン化合物：
【化１】


ここで、Ｒ₁、Ｒ₂及びＲ₃の少なくとも一つは脱離基であり、該基は脱離の後に前記構造の一におけるＳｉが、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ又はＳｉ−Ｏ−Ｚｒ結合を形成することを可能とするものであり、
Ｌ₁、Ｌ₂及びＬ₃は、長さが１から１００の置換アルキル鎖又はアルキル鎖を含み、
ｍ＝１−１００であり；
Ｎ−ＰＧ、Ｎ−ＰＧ₁及びＮ−ＰＧ₂は窒素含有極性基であり；
Ｅ、Ｅ₁及びＥ₂のそれぞれが、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置換アリール基を含み、１−５０の炭素原子を含み、かつ以下から成る群より選択される官能基を含まない；ヒドロキシル、カルボキシル、アミノ、チオ、ハロ及びスルホネート部分。同様に、該化合物はクロマトグラフィーのパッキングとして使用するための基材に結合する。 （もっと読む）