【解決手段】一般式（１）


（Ｒ_f及びＲ_f’はフルオロアルキル基であり、Ｒ¹は水素原子又は脂肪族１価炭化水素基である。Ｒ²及びＲ³は脂肪族１価炭化水素基であり、Ｒ⁴は水素原子又は脂肪族１価炭化水素基であり、ａ及びｂは各々０又は１、ｍ、ｎ及びｐは各々０〜６の整数、ｑは１〜６の整数、ｒは１又は２である。）
で示される２つのフルオロアルキル基を有するシラザン化合物。
【効果】本発明によれば、上記２つのフルオロアルキル基を有するシラザン化合物を用いることにより、処理された無機材料に高い撥水・撥油性と滑落性をバランスよく付与することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、ジルコニウムハロゲン化物を出発原料として、高収率及び高選択率にてジルコニウムアミド化合物を製造する、工業的に好適なジルコニウムアミド化合物の製造方法を提供することである。
【解決手段】 本発明の課題は、ジルコニウムハロゲン化物とジアルキルアミンと混合した後、次いで、置換基を有していても良いシクロペンタジエン及びアルキルアルカリ金属を反応させることを特徴とする、ジルコニウムアミド化合物の製造方法によって解決される。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）


［Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ⁸Ｒ⁹Ｒ¹⁰Ｓｉ−（Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
【効果】本発明により提供されるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物は、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物を容易にアミノ酸変性できるため、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】低温を用いることなく、効率的に有機金属化合物、特にジアルキルメタロセン化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】Ｔ−字型マイクロミキサーＭ１とマイクロチューブリアクターＲ１から構成されるマイクロリアクター中でシリンジポンプＳ１から送液されるテトラハロ金属化合物とシリンジポンプＳ２から送液されるアルキルリチウム化合物とを反応させてテトラアルキル金属化合物を生成させ、次いで、該テトラアルキル金属化合物をＴ−字型マイクロミキサーＭ２とマイクロチューブリアクターＲ２から構成されるマイクロリアクター中でシリンジポンプＳ３より送液される活性プロトンを有する化合物と反応させる有機金属化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸化ケイ素又は窒化ケイ素をＣＶＤやＡＬＤなどのプロセスにより、低温で堆積できる前駆体を提供する。
【解決手段】誘電体膜を形成するための前駆体及び方法である。１つの態様では、次の式Ｉを有するケイ素前駆体が与えられる。
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【課題】温和な条件で架橋メタロセンを製造する方法を提供する。
【解決手段】ＭＷ_ｌ＋２Ｙ_ｍで表される金属錯体とＨＬ^１−Ａ−Ｌ^２Ｈで表わされる架橋ビスシクロペンタジエン型化合物との反応において、イオン性化合物を添加する工程を含む下式（Ｉ）で表わされる架橋メタロセンの製造方法。


［上記式中、Ｍは元素の周期律表の３族、４族、５族、ランタニド族またはアクチニド族から選択される遷移金属原子を表し、Ｌ^１およびＬ^２は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基を表し、Ａは、Ｌ^１およびＬ^２を連結する架橋基を表し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基等を有していてもよいアミノ基等を表し、Ｙは、中性のルイス塩基を表し、ｍは、０〜４の整数を表し、ｌは１〜４の整数を表す。ＷはＸと同一であってもよく、水素原子、ハロゲン原子等を表す。］ （もっと読む）

【課題】光学活性エポキシ化合物及び光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法の提供。
【解決手段】下記式（２１ａ）、式（２１ｂ）、式（２２）等


で表される構造を有する光学活性チタンサレン錯体、光学活性チタンサラレン錯体及び光学活性チタンサラン錯体と、当該錯体を触媒として用いるオレフィン化合物又はスルフィド化合物の不斉酸化反応による、光学活性エポキシ化合物又は光学活性スルホキシド化合物の製造方法、並びに該方法に用いる配位子、錯体及び該錯体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基で、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を成してもよく、各々同一又は異なっていてもよい。また、Ｒ¹及びＲ²はヘテロ原子を含んでもよい。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は炭素数１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基で各々同一又は異なっていてもよい。ａ、ｂは１〜１０の整数である。ｎは０〜２の整数である。）
で示されるシリル基で保護されたアミノ基を有する有機ケイ素化合物。
【効果】本発明によれば、３級アミノ基とシリル基で保護された２級アミノ基を有する有機ケイ素化合物を用いることで、混合時や保存時に官能基自身と反応することを防ぐことができ、使用時に脱保護することにより、定量的、効率的に官能基を導入することが可能である。 （もっと読む）

アニオン重合における官能性開始剤として使用するメタル化アミノシラン化合物、及び該メタル化アミノシラン化合物を使用して少なくとも１種のアニオン重合可能なモノマーのアニオン重合を開始するアミノシラン官能化ポリマーの製造方法である。メタル化アミノシラン化合物の好ましい使用は、アミノシラン官能化ポリマーを含むタイヤ用ゴム組成物をもたらす。 （もっと読む）

【課題】炭窒化ケイ素膜形成用前駆体の化学気相成長により基材上に炭窒化ケイ素膜を形成するための方法を提供する。
【解決手段】以下の式によって表されるアミノシラン及びそれらの混合物からなる群より選択される前駆体を用いることを含む、炭窒化ケイ素膜を形成するための方法とする：
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（ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を用意する工程と、（ｂ）（１）及び（２）を組み合わせる工程と、（１）少なくとも１つの化学的反応性部位を含む、少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザン、（２）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む、少なくとも１つのフルオロケミカル化合物、（ｉ）少なくとも約６個の全フッ素化炭素原子を含む少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、（ｉｉ）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記ポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、（ｃ）前記ポリシラザンと前記フルオロケミカル化合物とを反応させて又は反応を誘導して、少なくとも１つの硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを形成する工程と、（ｄ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザン又はその前駆体を前記基材の少なくとも１つの主表面の少なくとも一部に塗布する工程と、（ｅ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを硬化させて表面処理を形成する工程と、を含む、表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】３００〜５００℃といった低温での成膜が可能であり、さらに、反応性が良好なプロセスを与える有機シリコン含有化合物を含有してなる化学気相成長用原料を提供すること。
【解決手段】ＨＳｉ（ＣＨ_３）（Ｒ^１）（ＮＲ^２Ｒ^３）（Ｒ^１は、ＮＲ^４Ｒ^５または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２およびＲ^４は、炭素数１〜５のアルキル基または水素原子を表し、Ｒ^３およびＲ^５は、炭素数１〜５のアルキル基を表す）で表される有機シリコン含有化合物を含有してなる化学気相成長用原料。 （もっと読む）

【課題】３００〜５００℃といった低温での成膜が可能であり、さらに、反応性が良好なプロセスを与える有機シリコン含有化合物を含有してなる化学気相成長用原料を提供すること。
【解決手段】ＨＳｉＣｌ（ＮＲ¹Ｒ²）（ＮＲ³Ｒ⁴）（Ｒ¹、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基または水素を表し、Ｒ²、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基を表す）で表される有機シリコン含有化合物を含有してなる化学気相成長用原料。該化学気相成長用原料は、基体上に化学気相成長法により窒化シリコン薄膜を形成する原料として特に好適である。 （もっと読む）

【課題】水素の生成を経由せずに窒素からアンモニアを合成するための触媒として使用できる新規化合物を提供する。また、このようなアンモニア合成触媒の製造方法及び使用方法、並びにこのようなアンモニア合成触媒の製造で用いられる中間体化合物を提供する。
【解決手段】例えば下記構造のモリブデン錯体が例示される：
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本発明の対象は、一般式（ＩＩ）Ｓｉ_nＸ_2n+2で示されるオリゴハロゲン化シランを一般式（ＩＩＩ）Ｒ−ＮＨ₂で示される第一級アミンと、溶剤としての炭化水素中で反応させることにより、一般式（Ｉ）Ｓｉ_nＹ_2n+2で示されるオリゴアミノシランを製造する方法であり、上記式中、Ｘは、塩素、臭素および沃素から選択され、Ｙは、ハロゲン、水素またはＲ−ＮＨを表わし、Ｒは、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基を表わし、およびｎは、１〜２０の値を表わし、但し、基Ｙの最大３５モル％は、水素を表わし、および基Ｙの最大１５モル％は、ハロゲンを表わし、この場合反応混合物には、活性炭が添加される。同様に、本発明の対象は、一般式（Ｉ）のオリゴアミノシランを安定化させる方法であり、この場合オリゴアミノシランには、活性炭が添加される。 （もっと読む）

【課題】シリコン含有膜を堆積させるためのアミノシラン前駆体、およびこれらのアミノシラン前駆体からシリコン含有膜を堆積させる方法を提供すること。
【解決手段】シリコン含有膜を堆積させるための次式（I）：
（Ｒ^１Ｒ^２Ｎ）_ｎＳｉＲ^３_４−ｎ （I）
（式中、置換基Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立にＣ１〜２０のアルキル基およびＣ６〜３０のアリール基から選択され、置換基Ｒ^１およびＲ^２の少なくとも１つはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＮＯ_２、ＰＯ（ＯＲ）_２、ＯＲ、ＲＣＯＯ、ＳＯ、ＳＯ_２、ＳＯ_２Ｒから選択される電子吸引性置換基を含み、そしてＲ^３はＨ、Ｃ１〜２０のアルキル基、又はＣ６〜１２のアリール基から選択され、そしてｎは１〜４の範囲の数である。）から成るアミノシラン前駆体。 （もっと読む）

【課題】基体表面に極性官能基を、効率良く、且つ経済的に導入可能な、ｏ−ニトロベンジル基含有シラザン化合物、その製造方法、該シラザン化合物を利用した表面修飾剤、該表面修飾剤を用いた、特定の極性官能基を所望箇所に発現させた表面修飾材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のｏ−ニトロベンジル基含有シラザン化合物は、式(１)で表される。
【化１】


(Ｒ₁、Ｒ₂：Ｈ、ＯＲ₄(Ｒ₄：Ｃ１〜１０のアルキル鎖、フッ化アルキル鎖)、Ｒ₃：Ｈ、−ＣＨ₃。Ｘ：−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ₃−、−ＳＣＯＯ−。ｍ：３〜２０の整数。Ｙ：シラザン基) （もっと読む）

本発明は、一般式ＩＩＲ（ＮＲ’）Ｈ （ＩＩ）〔式中、Ｒは、１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わし、Ｒ’は、水素原子（Ｈ）を表わすかまたは１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わす〕で示される過剰量で使用されるアルキルアミンを、一般式ＩＩＩＸ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ¹）ｎ（ＯＲ²）_3-n （ＩＩＩ）〔式中、Ｘは、ＣｌまたはＢｒを表わし、Ｙは、一連の−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）（ＣＨ（ＣＨ₃））（ＣＨ₂）−および−（ＣＨ₂）₄−からの２価アルキル基であり、基Ｒ¹およびＲ²は、同一かまたは異なり、それぞれ１〜４個のＣ原子を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を表わし、ｎは、０または１または２である〕で示されるハロゲンアルキルアルコキシシランと反応させ、過剰の遊離アルキルアミンを留去し、同時に、残留するアルキルアミンヒドロハロゲン化物およびアルキルアミノアルキルアルコキシシランヒドロハロゲン化物を含有する生成物混合物を、存在する化合物に相当するアルキルアミノアルキルアルコキシシランを添加しながら処理し、それによって遊離されたアルキルアミンを系から導出し、および残留する生成物混合物または生成物ヒドロハロゲン化物混合物を後処理することにより、一般式（Ｉ）Ｒ−（ＮＲ’）−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ¹）ｎ（ＯＲ²）_3-n （Ｉ）〔式中、Ｒは、１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わし、Ｒ’は、水素原子（Ｈ）を表わすかまたは１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わし、Ｙは、一連の−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）（ＣＨ（ＣＨ₃））（ＣＨ₂）−および−（ＣＨ₂）₄−からの２価アルキル基であり、基Ｒ¹およびＲ²は、同一かまたは異なり、それぞれ１〜４個のＣ原子を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を表わし、ｎは、０または１または２である〕で示されるアルキルアミノアルキルアルコキシシランを製造するための方法に関する。後処理のために、生成物混合物または生成物ヒドロハロゲン化物混合物は、温度調節され、アルカリ金属アルコラート溶液と反応され、アルカリ金属ハロゲン化物が沈殿され、および分離され、使用されたアルカリ金属アルコラート溶液の溶剤は、蒸留によって生成物から除去され、生成物が取得される。しかし、後処理は、生成物混合物または生成物ヒドロハロゲン化物混合物に非極性の有機溶剤を添加し、この混合物を水性のアルカリ金属アルカリ液またはアルカリ土類金属アルカリ液で処理し、その際に生じる、金属塩含有水性相を、有機生成物相と分離し、有機相を、蒸留し、生成物を取得することにより、水性で実施されてもよい。 （もっと読む）

【課題】オルガノポリシロキサンの末端アルコキシシリル化剤等として有用な新規有機ケイ素化合物を提供する。
【解決手段】 下記式:
Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）₂−(ＣＨ_２)_n−Ｓｉ（Ｒ^２）_a（Ｘ）_3-a
（式中、Ｒ^１はケイ素原子に直接結合する窒素原子を有する有機基、Ｒ^２は独立に１価の置換もしくは非置換の炭素原子数1〜10の有機基、Ｘは加水分解性基、ｎは１〜６の整数、そしてａは０、１または２の整数である。）
で表される有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

アンモニアボランが次式：L_nM−Ｘ
（式中Ｍは鉄の如き卑金属であり、Ｘは陰イオン性の窒素−又はリン−基質の配位子又は水素化物であり、Ｌは中性の単座又は多座配位子である中性の補助配位子である）の触媒錯体と反応する時に水素（Ｈ₂）を製造する。 （もっと読む）