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Fターム[4H049VQ87]の内容

Fターム[4H049VQ87]に分類される特許

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【課題】撥水性、離型性等の含フッ素有機基の有する特性と親油性等の炭化水素基の有する特性との両方を備え、かつ、耐熱性、耐加水分解性等にも優れた新規な含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】Rf−Q−CH=CH2で示されるビニル基含有含フッ素化合物(Rfは炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状フルオロアルキル基、又は炭素数3〜200のフルオロポリエーテル基、Qは炭素数1〜12の2価の有機基である)とテトラオルガノシクロテトラシロキサンとを、ヒドロシリル化反応させて得た含フッ素有機基変性シクロテトラシロキサンに炭素数6〜20の末端炭素−炭素二重結合含有有機化合物をさらにヒドロシリル化反応することで式(1)の新規な含フッ素有機ケイ素化合物を合成する。
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【課題】耐熱性及び高温熱履歴後の耐薬品性に優れ、現像時の膜減りが少なく、現像工程における現像マージンが大きいポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】(A)式(1)で表わされる化合物と式(2)で表わされる化合物とを加水分解・縮合反応させて得られる構造からなるシラノール基含有ポリシロキサン化合物、(B)エポキシ含有有機基を少なくとも2つ有する化合物、(C)ジアゾナフトキノン類及び(D)有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。R1はC1〜4アルキル基等、R2はC2〜10の2価炭化水素基、R3はC2〜10の2価飽和脂肪族炭化水素基、Xは特定の一般式で表される基をそれぞれ表す。
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【課題】従来のシルセスキオキサンに比較して、より耐熱性を高め、低温で流動性を有し、成形が容易なシロキサン化合物および硬化させた硬化物を提供。
【解決手段】繰り返し数3〜8のSi−O結合を持つ環状シロキサン化合物の少なくとも一つの珪素基上に、末端に二重結合基、三重結合基、マレイミド基等の架橋基を有し繰り返し数0〜9のSi−O結合を持つ直鎖状シロキサン結合を有する置換基を導入したシロキサン化合物およびこの化合物を加熱等の手段により架橋させた硬化物。 (もっと読む)


【課題】光半導体用途において、耐熱黄変性、耐光性、ガスバリア性及び密着性に優れた、透明な硬化物を形成することが可能な熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】式(1)


[R1は置換若しくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基、Rはアクリロキシ基又はメタアクリロキシ基、Xは炭素数3〜10の二価の炭化水素基、aは1以上の整数、bは0以上の整数、a+bは3〜20の整数)で表される環状オルガノポリシロキサンを含有する熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】屈折率の高い低アッベ数の光学材料に適した硬化性組成物並びに硬化物を提供することである。
【解決手段】 (A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)SiH基と反応性を有する炭素−炭素三重結合を1分子中に少なくとも1個有する芳香族化合物を必須成分とする硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】電気特性の安定性に優れた有機薄膜トランジスタの製造方法と、有機薄膜トランジスタを提供すること。
【解決手段】基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極を有する有機薄膜トランジスタにおいて、有機半導体膜上に、(a)炭酸プロピレン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドから選ばれる少なくとも1つの有機溶剤と、(b)該有機溶剤に可溶な有機化合物を含有する絶縁膜形成液を用いてウェットプロセスによりゲート絶縁膜を形成することを特徴とするトップゲート型有機薄膜トランジスタの製造方法により解決される。 (もっと読む)


【課題】アミノ官能性化合物をベースとする有機官能性シロキサンオリゴマー混合物の提供。
【解決手段】式Iの連鎖状シロキサンオリゴマーと式IIの環式シロキサンオリゴマーとの混合物。




(式中、置換基Rは、アミノプロピル官能基、メトキシ基、エトキシ基、2-メトキシエトキシ基、プロポキシ基などを有す) (もっと読む)




【課題】Si含有膜形成材料、殊にPECVD装置に適した低誘電率絶縁膜用材料として有用な、新規な環状シロキサン化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式(20)
【化1】


(式中、R18は炭化水素基を表し、R19は水素原子又は炭化水素基を表す。gは2乃至10の整数を表し、hは1乃至3の整数を表す。)で示される環状シロキサン化合物[具体的例示:2,4,6−トリス(メトキシメチル)−2,4,6−トリメチルシクロトリシロキサン]。 (もっと読む)


【課題】包接化合物等としての利用が期待でき、官能基の導入による機能化が可能なクラスター化合物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される化合物(A)と一般式(2)で表される化合物(B)を反応させて得られる芳香族化合物と、金属化合物と、を接触させて得られるクラスター化合物である。


(一般式(1)中、Xは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、又はアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、mは、0又は1を示す。)(一般式(2)中、Rは、炭素数1〜8の置換又は非置換のアルキレン基を示す。) (もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れ、誘電率、硬度等の諸特性に優れ、誘電率の経時変化が小さく、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した多孔質膜、およびその多孔質膜を製造する組成物を提供する。
【解決手段】多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物(X)を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が5nm以下である。 (もっと読む)


【課題】脂肪族アミノ基を有し、蒸留精製が可能で、発生するアルコール量を削減することができる有機ケイ素化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式(1)


(式中、R1及びR2は炭素数1〜10の置換又は非置換の脂肪族1価炭化水素基であって、R1とR2が結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成してもよく、各々同一又は異なっていてもよい。また、R1及びR2はヘテロ原子を含んでもよい。R3及びR4は炭素数1〜10の置換又は非置換の1価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。nは0〜2の整数である。)で示されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物。
【効果】アミノ基を有する有機ケイ素化合物を用いることにより、高分子材料の紫外線領域を含んだ透明性を保持しながら、高い機械的特性や耐熱性を付与することができる。 (もっと読む)


【課題】1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンを重合に対し安定化させるための方法、及び組成物を提供する。
【解決手段】有効量の遊離基スカベンジャー重合抑制剤をそのようなシクロテトラシロキサンに供給することを含む安定化方法、及び電子材料の製造においてケイ素酸化物の前駆物質として化学気相成長法で使用される重合に対し安定化させた、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンの組成物であって、そのようなシクロテトラシロキサンと遊離基スカベンジャー重合抑制剤とを含むシクロテトラシロキサンの組成物である。 (もっと読む)


【課題】新規の有機電界発光化合物、それを含む有機電界発光素子等の提供。
【解決手段】下記化学式1で表される発光化合物。


(R乃至R10は、H或いはアリール基、置換アミノ基等の置換基であり、同時に全てはHではない。)該化合物は、例えば下記反応式により製造される化合物7である。


該化合物は高い発光効率、並びに優れた色純度を示し、良好な駆動寿命を有するOLEDが製造される。 (もっと読む)


【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性に優れ、さらに、光硬化可能なフッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される、含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。


[式(1)中、aは1〜4、bは0〜3、cは1〜4、eは2〜8の整数、dは0又は1、Rはポリアルコキシアルキレン、Rは、それぞれ独立に、水素原子、メチル基等、Rfはパーフルオロポリエーテル残基、Zは2価の有機基を表す。] (もっと読む)


【課題】比誘電率の低い絶縁膜を安定して得ることのできる多孔質絶縁膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかる多孔質絶縁膜の製造方法は、シリコン及び酸素を骨格とし、シリコンに結合する側鎖の一方が不飽和炭化水素基であり、他方が炭素原子を2つ以上含む飽和炭化水素基である環状有機シリカ化合物の蒸気を希ガスで希釈した蒸気に、酸化剤ガスを前記環状有機シリカ化合物の蒸気の流量の0.3倍以上1.2倍以下添加してプラズマ中に導入し、半導体基板上に多孔質低誘電率絶縁膜を成長させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低誘電率材料に適した、殊にPECVD装置に適した新規な有機シロキサン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】1,3,5−トリイソプロピル−1,3,5−トリビニルシクロトリシロキサン、または1,3,5−トリイソプロピル−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトライソプロピル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタイソプロピル−1,3,5,7,9−ペンタビニルシクロペンタシロキサン等の新規な有機シロキサン化合物。 (もっと読む)


【課題】CVDプロセス条件の下でのTOMCATSタイプ・シロキサンの重合を排除又は抑制すること。
【解決手段】(a)電子材料の加工でシリコン酸化物の化学気相堆積プロセスにおいて用いられる1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンなどのシクロテトラシロキサンを重合に対して安定化させるためのものであって、そのようなシクロテトラシロキサンに有効な量の酸化防止重合抑制剤を加えることを含む方法、及び(b)シリコン酸化物の化学気相堆積プロセスにおいて前駆物質として用いられる、重合に対して安定化された、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンなどのシクロテトラシロキサンと酸化防止剤とを含む組成物。 (もっと読む)


ハロゲン官能性とアルカンジオキシシリル官能性とを持つハロ官能性シラン。 (もっと読む)


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