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Fターム[4H049VR10]の内容

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Fターム[4H049VR10]に分類される特許

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本発明は、低分子、中分子、および、高分子ハロゲン化ポリシランの、最終生成物関連の製造、これらのポリシランの選択された分画への蒸留、ポリシラン混合物またはポリシランの気相または液相からのシリコンの直接的堆積、ハロゲン化ポリシランの水素化または誘導化、ならびに、適当なシステムによる最終生成物と成すための加工処理のための方法に関する。
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