【課題】ケイ素−ハロゲン結合を有する化合物を還元して所望のケイ素化合物を高効率かつ高収率で得ることができるケイ素化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のケイ素化合物の製造方法は、ケイ素−ハロゲン結合を有する化合物を水素化アルコキシアルミニウムアルカリ金属塩を用いて還元することを特徴とする。本発明の好ましい態様においては、前記還元は炭化水素系溶媒中で行うのがよく、前記ケイ素−ハロゲン結合を有する化合物は、１つのケイ素原子に少なくとも１個のハロゲン原子と別のケイ素原子とが結合してなる構造を有することが好ましい。また本発明の好ましい態様においては、前記還元により前記ケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合にする。 （もっと読む）

【課題】屈折率の高い低アッベ数の光学材料に適した硬化性組成物並びに硬化物を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有するケイ素化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、（Ｄ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素三重結合を１分子中に少なくとも１個有する芳香族化合物を必須成分とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】アルコキシヒドロシラン化合物を製造する。
【解決手段】一般式（１）：Ｈ−ＳｉＲ^２_ｃ（ＣＲ^１_３−ｂＹ_ｂ）_ａＸ_{３−ａ−ｃ} （１）で表されるハロヒドロシラン（Ａ）とアルコール（Ｆ）とを反応させることによる、一般式（５）：Ｈ−ＳｉＲ^２_ｃ（ＣＲ^１_３−ｂＹ_ｂ）_ａ（ＯＲ^１２）_{３−ａ−ｃ} （５）で表されるアルコキシヒドロシラン化合物（Ｅ）の製造方法。好ましくは、ハロヒドロシラン（Ａ）とアルコール（Ｆ）を、酸捕捉剤（Ｇ）の存在下で反応させる。または、ハロヒドロシラン（Ａ）とオルトカルボン酸トリアルキルとを反応させることによる、で表されるアルコキシヒドロシラン化合物（Ｅ）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】オルガノオキシシラン等の加水分解性含ケイ素化合物を優れた収率にて、また、安全且つ安価に製造する手法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式：Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２（Ｒ^１は炭素数４〜３０の、置換又は非置換の、第３級アルキル基又はアラルキル基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜３０の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基又はアシル基を表す）で表される化合物、及び、（Ｂ）式：Ｒ^３_ｍＳｉX_４−ｍ（Ｒ^３は、水素原子、又は、炭素数１〜３０の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基を表し、Ｘは、独立して、臭素又は塩素であり、ｍは０〜３の整数を表す）で表されるハロシランをルイス酸触媒存在下で反応させる。 （もっと読む）

【課題】電子材料用途等に好適なハロゲン不純物の低減化された高純度のアミノシランを提供することを目的とする。
【解決手段】Ｓｉ−Ｎ結合を有し、かつＳｉ−ハロゲン結合を持たないアミノシランであり、不純物として１ｐｐｍ（ｗ／ｗ）以上のハロゲンを含有するアミノシランを、アルキル金属試薬で処理する工程と、処理されたアミノシランを蒸留する工程を少なくとも含む精製されたアミノシランの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】５００℃以下の低温でプラズマ等を用いなくても、ケイ素含有薄膜を効率良く作製できる材料を提供する。
【解決手段】クロロシラン誘導体（３）と化合物Ｍ^２Ｚ（４）を反応させ、一般式（１’）


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は各々独立にアルキル基を表す。Ｚがイソシアナト基又はイソチオシアナト基の場合、Ｍ^２はナトリウム原子等を表す。Ｚがアミノ基、の場合、Ｍ^２は水素原子等を表す。Ｚがアルケニル基の場合、Ｍ^２はハロゲン化マグネシウム基を表す。）で示されるヒドロシラン誘導体（１’）を製造し、これを材料としてケイ素含有薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】高い機械強度および低い屈折率と比誘電率を示す電気絶縁膜の材料として好適なジシロキサン誘導体及びその製造法、作製した膜及びその膜の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）


（式中、ｎは４または５を表し、ｎが４のときＲ^１はブチル基を除く炭素数３〜６のアルキル基等を表し、ｎが５のときＲ^１は炭素数２〜６のアルキル基等を表す。Ｒ^２は水素原子またはメチル基を表す。）で表されるジシロキサン誘導体及びその製造法、さらに該ジシロキサン誘導体を材料としてプラズマ誘起化学気相蒸着法によって成膜し、それを絶縁膜として用いる。 （もっと読む）

【課題】高温耐熱性、柔軟性、低Ｔｇ、透明性、耐熱黄変性等の物性を保有する硬化物を形成可能な化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるフッ素含有化合物。式（１）中、Ｒ^fはｎ価のフッ素化炭化水素基、ｎは１以上の整数。Ｒ¹〜Ｒ³は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール基又は下記式（２）で表される基である。式（２）中、Ｒ^a〜Ｒ^eは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０〜３の整数である。


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【課題】１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリヒドリド−２，４，６−トリエチルアミノ−１，３，５−トリアザ−２，４，６−トリシラシクロヘキサンの合成方法を提供する。
【解決手段】１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリヒドリド−２，４，６−トリエチルアミノ−１，３，５−トリアザ−２，４，６−トリシラシクロヘキサンの製造方法において、トリクロロシランとエチルアミンとを溶剤中で反応させる。 （もっと読む）

【課題】アルコキシヒドロシランの製造方法
【解決手段】（Ｒ^１）_ａＨ_ｂＳｉＸ_{４−（ａ＋ｂ）}
（式中、Ｒ^１は独立に、水素原子または置換あるいは非置換の炭素原子数１から２０の炭化水素基である。Ｘは独立に、ハロゲン原子である。ａは０〜２の数を表わし、ｂは１〜３の数を表わし、ａ＋ｂは４未満の数を表す）
で示されるハロヒドロシラン化合物（Ｂ）と、ハロヒドロシラン化合物（Ｂ）に対し０．５０〜０．９９モル当量のアルコール（Ｃ）とを反応させ（反応１）、次いで、残留するＳｉ−Ｘに対し１．００モル当量以上のオルトエステル（Ｄ）と反応させる（反応２）、
一般式（４）
（Ｒ^１）_ａＨ_ｂＳｉ（ＯＲ^２）_{４−（ａ＋ｂ）} （４）
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、ａ、ｂ、ｃは前記と同じ。）で示されるアルコキシヒドロシラン（Ａ）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】オレフィンのジヒドロキシル化反応に用いられる新規な磁性ナノ粒子固定型オスミウム（VＩ）酸塩を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるオスミウム（VＩ）酸塩のＳｉに結合する３つのＲ^４−Ｏ−基の少なくとも１つが磁性ナノ粒子中のＯと置換した、磁性ナノ粒子固定型オスミウム（ＶＩ）酸塩。


［式中、Ｒ^１及びＲ^４は炭化水素基。ｓ、ｕは０以上の整数、ｔは０または１、但し、ｓ、ｕ、ｔのうち１つは０ではない。Ｒ^２は例えば一般式（ＩＩ）で表される基である。


（式中、Ｒ^３は炭化水素基、ｎは１以上の整数、ｄ、ｅ及びfのうち２つが１、残りは０）］ （もっと読む）

本発明は、有枝鎖であって機能化したシロキサン、ならびにそのような化合物を製造するための方法を記載する。上記化合物は、種々の用途をもつ。ある好ましい用途は、リソグラフィーのための新規平坦化材料としての用途であり、この場合、機能化した有枝鎖シロキサン（例えば、エポキシ改変された有枝鎖シロキサン）が特に有用である。一実施形態では、本発明は、パターン化した基板の上に機能化した有枝鎖シロキサンを含むスピンコーティング調合物を想定している。
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【課題】本発明は、マキサカルシトール中間体およびその製造方法に関する。
【解決手段】より詳細には、本発明は、式(I)のキラル化合物、および式(II)のC-20位がR-形またはS-形であるキラル化合物、ならびにこれらのキラル化合物の製造方法を提供する。
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Ｒが１〜１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基であり、Ｘがフルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨードである式ＲＸ（Ｉ）を有する有機ハロゲン化物を、少なくとも２％（ｗ／ｗ）の、ｘが１〜５の整数であり、ｙが１〜８の整数である式Ｐｄ_ｘＳｉ_ｙの（ＩＩ）のケイ化パラジウム、又はｚが１若しくは２である式Ｐｔ_ｚＳｉ（ＩＩＩ）のケイ化白金を含む接触剤と、反応器中、２５０〜７００℃の温度で組み合わせ、オルガノハロシランを形成する工程を含む、オルガノハロシランの調製方法。 （もっと読む）

【課題】他の有機ケイ素前駆体材料との混合などで塩化物塩を沈殿させる可能性が実質的に無い有機ケイ素前駆体組成物を提供すること。
【解決手段】ジエトキシメチルシラン、ジエトキシメチルシランを含む別の組成物と混合した場合に、好ましからざる塩化物塩沈殿を与えないある濃度の溶解残留塩化物およびある濃度の溶解残留塩化物捕集剤を含む有機ケイ素組成物を提供する。 （もっと読む）

本発明は中間体シロキサンモノマーの精製プロセス及び高分子量線状ポリシルアルキレンシロキサンを生成するための該モノマーの使用に関する。シロキサンモノマーは、シロキサンモノマー及び線状オリゴマーの混合物を形成する、酸性又は塩基性開環重合触媒の存在下で、以下に示す構造の環状モノマーの開環重合により調製される。線状オリゴマーを次に抽出及び廃棄した後、該中間体シロキサンモノマー混合物を出発物質として用いる開環重合のさらなるステップを行う。第２重合ステップは該シロキサンモノマー混合物の融点範囲内の温度で行う。中間体、最終生成物及びそれらの製造方法について記載する。

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一般式Ｒ_nＣｌ_4-nＳｉのクロロシランを、金属酸化物をベースとする担体上の、亜鉛および／または亜鉛を含有する合金の触媒量の触媒（Ｋ）の存在下に水素ガスと反応させることにより、一般式Ｒ_nＣｌ_3-nＳｉＨのハイドロジェンシランを製造する方法［上記式中でＲは両方の式において、同時に、かつ相互に無関係に水素を表すか、１〜１８個の炭素原子を有する置換されているか、もしくは非置換であってよい炭化水素基を表し、かつｎは１〜３の値をとることができる］。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シリコン高分子の製造に有用な出発物質の有機クロロヒドロシラン及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、四級有機ホスホニウム塩化合物を触媒として用い、安価でかつ容易に得ることができるクロロシランのＳｉ-Ｈ結合と異なる有機クロロシランのＳｉ-Ｃｌ結合を交換させ、種々の新しい有機クロロヒドロシランを高収率で合成し、又、触媒を使用した後回収して再使用することが可能であり、非常に経済的であるので、シリコンの原料物質の大量生産に効果的である。 （もっと読む）

（ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を用意する工程と、（ｂ）（１）及び（２）を組み合わせる工程と、（１）少なくとも１つの化学的反応性部位を含む、少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザン、（２）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む、少なくとも１つのフルオロケミカル化合物、（ｉ）少なくとも約６個の全フッ素化炭素原子を含む少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、（ｉｉ）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記ポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、（ｃ）前記ポリシラザンと前記フルオロケミカル化合物とを反応させて又は反応を誘導して、少なくとも１つの硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを形成する工程と、（ｄ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザン又はその前駆体を前記基材の少なくとも１つの主表面の少なくとも一部に塗布する工程と、（ｅ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを硬化させて表面処理を形成する工程と、を含む、表面処理方法。 （もっと読む）

ホウ素含有率１００ｐｐｂ未満を有する式Ｒ¹_xＨ_yＳｉ（ＯＲ²）_z［式中、ｘ＋ｙ＋ｚ＝４であり、かつｘ、ｙ、ｚは、１以上であり、Ｒ¹は、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基もしくはアリールアルキル基であり、かつＨａｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、Ｒ²は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基もしくはｔ−ペンチル基を意味する］のオルガノアルコキシハイドロジェンシランの製造方法において、第一工程において、ホウ素で汚染された式Ｒ¹_xＨ_yＳｉＨａｌ_z［式中、ｘ＋ｙ＋ｚ＝４であり、かつｘ、ｙ、ｚは、１以上であり、かつＲ¹は、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基もしくはアリールアルキル基であり、かつＨａｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩである］のオルガノハロゲンハイドロジェンシランを、ケイ酸もしくはアルミノケイ酸塩での処理に供し、引き続き第二工程において、オルガノハイドロジェンシランから分離し、次いで精製されたオルガノハロゲンハイドロジェンシランを、アルコールＲ²−ＯＨ［式中、Ｒ²は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基もしくはｔ−ペンチル基を意味する］と反応させる前記方法。 （もっと読む）