【課題】 本発明の課題は、ジルコニウムハロゲン化物を出発原料として、高収率及び高選択率にてジルコニウムアミド化合物を製造する、工業的に好適なジルコニウムアミド化合物の製造方法を提供することである。
【解決手段】 本発明の課題は、ジルコニウムハロゲン化物とジアルキルアミンと混合した後、次いで、置換基を有していても良いシクロペンタジエン及びアルキルアルカリ金属を反応させることを特徴とする、ジルコニウムアミド化合物の製造方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】密着性向上効果に優れるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を提供する。
【解決手段】式１で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。


（式中のａは１〜４の整数であり、ｂは０〜３の整数であり、ｃは０または１であり、ａ＋ｂ＋ｃ＝４である。ｍは１または２であり、ｎは０または１である。Ｒ^１は−ＣＨ_２−ＣＨ_２−あるいは−ＣＨ（ＣＨ_３）−で表される基である。Ｒ^２はメチル基、エチル基またはアセチル基である。） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、電子輸送性に優れる有機ｎ型半導体として利用可能な化合物を提供することにある。本発明の目的はまた、係る化合物を含む有機薄膜、及びこの有機薄膜を備える有機薄膜素子を提供することにある。
【解決手段】かご状化合物又は脂肪族炭化水素化合物から誘導される４価以上の基であるコア部と、該コア部に結合した４以上の側鎖基と、を備え、側鎖基のうち２以上がアクセプター性の基を有する、化合物。 （もっと読む）

【課題】密着性向上効果に優れるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を提供する。
【解決手段】チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、下記式１で表される化合物である。
【化１】


（式中のｍは１または２であり、nは０または１である。Ｒ^１は水素、または炭素数が１〜１８の炭化水素基、または炭素数１〜３のアルコキシ基により置換された炭素数が１〜４の炭化水素基である。Ｒ^２はメチル基またはエチル基である。Ｒ^３は−ＣＨ_２−ＣＨ_２−あるいは−ＣＨ（ＣＨ_３）−で表される２価の基である。） （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）


［式中、Ｒ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵は水素原子又は炭素数１〜２０の置換もしくは非置換の１価炭化水素基、Ｒ²及びＲ³は炭素数１〜２０の置換又は非置換の１価炭化水素基、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜２０の置換もしくは非置換の１価炭化水素基、又はカルボキシル基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数、ｎは０，１又は２である。］
で示されるアミノ酸変性シラン化合物。
【効果】本発明により提供されるアミノ酸変性シラン化合物は、表面処理剤や繊維処理剤として使用した時に表面が弱酸性のアミノ基と弱塩基性のカルボキシル基により電荷が相殺され電気的に中性となるため、帯電による表面への吸着作用が著しく減少し、親水性、防汚性に優れるため、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、繊維処理剤、表面処理剤等として有用である。 （もっと読む）

【課題】溶液から金属、特にパラジウムを除去するスカベンジャー担体を提供する。
【解決手段】スカベンジャー担体を、リンカーを介して担体に結合した、ヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基を有する1,3-ケトエステル類又は1,3-ケトアミド類又はこれらの混合物から選択されるペンダント基を含む官能性化担体と、置換されているヒドラジン又はそれらの塩又は特定の化学構造を有するアミンとの反応により得る。 （もっと読む）

【課題】屈折率の高い低アッベ数の光学材料に適した硬化性組成物並びに硬化物を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有するケイ素化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、（Ｄ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素三重結合を１分子中に少なくとも１個有する芳香族化合物を必須成分とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】アルコキシヒドロシラン化合物を製造する。
【解決手段】一般式（１）：Ｈ−ＳｉＲ^２_ｃ（ＣＲ^１_３−ｂＹ_ｂ）_ａＸ_{３−ａ−ｃ} （１）で表されるハロヒドロシラン（Ａ）とアルコール（Ｆ）とを反応させることによる、一般式（５）：Ｈ−ＳｉＲ^２_ｃ（ＣＲ^１_３−ｂＹ_ｂ）_ａ（ＯＲ^１２）_{３−ａ−ｃ} （５）で表されるアルコキシヒドロシラン化合物（Ｅ）の製造方法。好ましくは、ハロヒドロシラン（Ａ）とアルコール（Ｆ）を、酸捕捉剤（Ｇ）の存在下で反応させる。または、ハロヒドロシラン（Ａ）とオルトカルボン酸トリアルキルとを反応させることによる、で表されるアルコキシヒドロシラン化合物（Ｅ）の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ¹）−（ＣＨ₂）_m−Ｃ（Ｒ¹）＝ＣＨ₂ （１）
（Ｒ¹は水素原子又は１価炭化水素基であり、ｍは０〜１４の整数である。）
で示されるジエン化合物と、下記式（２）
ＨＳｉＲ²_n（ＯＲ³）_3-n （２）
（Ｒ²、Ｒ³は１価炭化水素基であり、ｎは０〜２の整数である。）
で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物とを、白金含有触媒を用いてヒドロシリル化するに際し、脂肪族ニトリル化合物を上記ジエン化合物に対して０．１質量％以上存在させる、下記式（３）
（Ｒ³Ｏ）_3-nＲ²_nＳｉ−ＣＨ₂−ＣＨ（Ｒ¹）−（ＣＨ₂）_m−
ＣＨ（Ｒ¹）−ＣＨ₂−ＳｉＲ²_n（ＯＲ³）_3-n （３）
（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、ｍ、ｎは上記と同様である。）
で示されるビス（オルガノキシシリル）アルカン化合物の製造方法。
【効果】目的とするビス（オルガノキシシリル）アルカン化合物を、反応性を維持しつつ、位置選択性を向上させて、効率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】従来のシランカップリング剤で表面処理された酸化マグネシウム粉末よりも吸湿性が抑制され、さらに樹脂材料への分散性に優れた酸化マグネシウム粉末を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム粉末の表面をオリゴマー状反応性シロキサンで処理する。 （もっと読む）

【課題】有機分子の配向性が制御されて十分な機能を有する有機薄膜及びその製造方法、並びに該有機薄膜を用いた有機電子デバイス及び表示装置の提供。
【解決手段】基材６０上に第一の有機分子６１を化学結合させて立設し、点在させ、第二の有機分子６２を導入し、第一の有機分子６１に対して第二の有機分子６２を配列させて、有機薄膜６を形成する。第一の有機分子６１及び第二の有機分子６２が有機半導体分子である、かかる有機薄膜を、有機半導体層として設け、電界効果トランジスタとする。 （もっと読む）

【課題】オルガノオキシシラン等の加水分解性含ケイ素化合物を優れた収率にて、また、安全且つ安価に製造する手法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式：Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２（Ｒ^１は炭素数４〜３０の、置換又は非置換の、第３級アルキル基又はアラルキル基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜３０の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基又はアシル基を表す）で表される化合物、及び、（Ｂ）式：Ｒ^３_ｍＳｉX_４−ｍ（Ｒ^３は、水素原子、又は、炭素数１〜３０の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基を表し、Ｘは、独立して、臭素又は塩素であり、ｍは０〜３の整数を表す）で表されるハロシランをルイス酸触媒存在下で反応させる。 （もっと読む）

【課題】有機化合物との相溶性に優れ、かつ硬化性に優れたシルセスキオキサン化合物を提供すること。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つが、下記一般式（Ｉ）で表されるイソシアネート基及び水酸基を有する炭化水素基で表される有機基、又はアミド基及び水酸基を有する炭化水素基で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物。


［式（Ｉ）中：Ｒ^１は２価の炭化水素基を示し、Ｒ^２は水酸基を有する炭化水素基を示す。］ （もっと読む）

【課題】５００℃以下の低温でプラズマ等を用いなくても、ケイ素含有薄膜を効率良く作製できる材料を提供する。
【解決手段】クロロシラン誘導体（３）と化合物Ｍ^２Ｚ（４）を反応させ、一般式（１’）


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は各々独立にアルキル基を表す。Ｚがイソシアナト基又はイソチオシアナト基の場合、Ｍ^２はナトリウム原子等を表す。Ｚがアミノ基、の場合、Ｍ^２は水素原子等を表す。Ｚがアルケニル基の場合、Ｍ^２はハロゲン化マグネシウム基を表す。）で示されるヒドロシラン誘導体（１’）を製造し、これを材料としてケイ素含有薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】触媒毒となり得る３級アミン原子を有するオレフィン化合物を使用した場合においてもヒドロシリル化反応の反応性を損なうことなく、付加異性体の生成及び二重結合の内部転位を抑制するヒドロシリル化方法を提供する。
【解決手段】有機アミン塩化合物の存在下、白金及び／又はその錯体化合物の触媒作用により、炭素−炭素不飽和結合を有するオレフィン化合物とハイドロジェンシリル基を有する化合物とを反応させるヒドロシリル化方法。 （もっと読む）

【課題】触媒毒となり得る３級アミン原子を有するオレフィン化合物を使用した場合においてもヒドロシリル化反応の反応性を損なうことなく、付加異性体の生成及び二重結合の内部転位を抑制するヒドロシリル化方法を提供する。
【解決手段】酸アミド化合物の存在下、白金及び／又はその錯体化合物の触媒作用により、炭素−炭素不飽和結合を有するオレフィン化合物とハイドロジェンシリル基を有する化合物とを反応させるヒドロシリル化方法。 （もっと読む）

【課題】密着性の良好な撥液処理層を形成するための液浸露光装置用撥液処理組成物、および撥液処理方法を提供する。
【解決手段】この組成物は、露光ビームを照射し液体を介して基材を露光する液浸露光装置の部材表面を撥液処理するための組成物であり、少なくとも下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物と溶剤とを含有することを特徴とする。式中、Ｒ^１は炭素数１４〜３０の１価の有機基、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立に炭素数１〜１０の１価の有機基または加水分解性基であり、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４の少なくとも１つは加水分解性基である。
【化１】
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【課題】ヒドロシリル化反応の反応性を損なうことなく、付加異性体の生成及び二重結合の内部転位を抑制するヒドロシリル化方法を提供する。
【解決手段】ニトリル化合物及び芳香族ヒドロキシ化合物の存在下、白金及び／又はその錯体化合物の触媒作用により、炭素−炭素不飽和結合を有するオレフィン化合物とハイドロジェンシリル基を有する化合物とを反応させるヒドロシリル化方法。 （もっと読む）

【課題】先行技術の欠点をもはや有していない、クロロオルガノシランから出発したカルバマトオルガノシランの製造方法の開発
【解決手段】カルバマトオルガノシラン（Ｓ）の製造方法において、ハロゲンオルガノシラン（Ｓ１）を、金属シアン酸塩と、アルコール（Ａ）と、少なくとも１種の非プロトン性溶剤（Ｌ）の存在で反応させ、この場合、副生成物として生じる金属ハロゲン化物並びに場合によりまだ存在する金属シアン酸塩残留物の固体分離の前に、前記溶剤（Ｌ）の少なくとも５０％を蒸留により除去する、カルバマトオルガノシラン（Ｓ）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】硬化促進剤を添加しなくても、室温付近で短時間のうちに硬化でき、かつ、硬化に伴う体積収縮を抑制することができる成形体を提供する。
【解決手段】成形体は、１以上のエポキシ基を有するシラン化合物と、α−ヒドロキシ酸とを含む硬化性組成物を硬化させることにより得られる。 （もっと読む）