【課題】電子機器及び電子機器などの信頼性を低下させることのないシリコーンオリゴマーの製造法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン又はアルコキシ基を有するシランカップリング剤を固体酸触媒の存在下、アルコキシ基に対して０．１５〜０．５当量の水と反応させ、反応後、該固体酸触媒を除去することを特徴とするシリコーンオリゴマーの製造法。 （もっと読む）

【課題】エチレン又は炭素数４〜２０のα−オレフィンとプロピレンのバランスの取れた反応性を呈するα−オレフィン重合用メタロセン系触媒の提供。
【解決手段】ジクロロ｛ジメチルシリレン（２−インデニル）（２−メチル−４−フェニル−４Ｈ−１−アズレニル）｝ハフニウムで代表されるメタロセン。 （もっと読む）

【課題】 薄膜形成用プレカーサとして使用される有機ジルコニウム化合物において、形成される薄膜の特性に影響を及ぼす金属元素を低減した有機ジルコニウム化合物を提供する。
【解決手段】 四塩化ジルコニウムとアルコールまたはアミンを反応させた後蒸留することにより、チタニウム元素の含有量が１ｐｐｍ以下である薄膜形成用プレカーサとして有用な高純度有機ジルコニウム化合物を得ることができる。また、同時にアルミニウム・ハフニウムの含有量も低減することができる。 （もっと読む）

本発明は、式（Ｉ）：
【化１】


の化合物を提供し、該化合物はＣＥＴＰの阻害剤であり、したがってＣＥＴＰが介在する、または、ＣＥＴＰの阻害に応答する障害または疾患の処置のために使用できる。 （もっと読む）

本発明は、低熱変形モールドを形成するために使用することができる組成物及び方法を提供する。組成物は、揮発成分除去ポリマーと少なくとも１種の揮発成分除去架橋剤とを使用して形成された硬化性弾性シリコーン組成物を含んでもよい。本方法の一実施形態は、エラストマーの第２の側面の近くで繊維性材料で含浸されたエラストマーの第１の側面にパターンを形成するステップを含んでもよい。
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本発明は、液体状の、ナノ粒子状の、官能化された、疎水性の、ケイ酸テトラアルキルエステルと、式Ｐ−（ＣＨ₂）_n−Ｓｉ（ＯＲ）₃［式中、Ｐ、Ｒおよびｎは相互に独立して以下の意味を有する：Ｐは１の重合可能なＣＨ₂＝ＣＨ基、ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｏ基、スチリル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、または１の重付加可能なＳＨ基を表し、Ｒはメチル、エチル、またはプロピルを意味し、かつｎ＝３〜１５である］の官能化されたトリアルコキシシランとの共縮合体を含む歯科材料に関し、ケイ酸テトラアルキルエステルと、ω位で官能化されたアルキルトリアルコキシシランとの共縮合によって、および引き続いたトリメチルシリル基による末端基の官能化によって製造可能である。さらに本発明は、充填複合材料、固定セメント、または被覆用の材料のための、歯科材料の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 成形時に優れた触媒作用を発現して、硬化性、流動性及び保存性が良好な樹脂組成物を与えることができる潜伏性触媒を、短時間、高収率でイオン性不純物の混入なく提供する。
【解決手段】 一般式（１）で表されるプロトン供与体（Ａ）と、トリアルコキシシラン化合物（Ｂ）と、ホスホニウム塩化合物（Ｄ）とを反応させてホスホニウムシリケート潜伏性触媒を製造する方法であって、第３級アミン化合物（Ｃ）の共存下で、反応させることを特徴とする、ホスホニウムシリケート潜伏性触媒の製造方法。
【化１】


［式中、Ｙ¹及びＹ²は、それぞれ、プロトン供与性基がプロトンを１個放出してなる基を表す。Ｚ¹は、プロトン供与性基であるＹ¹Ｈ、Ｙ²Ｈと結合する有置換もしくは無置換の有機基を表し、同一分子内の２つの基Ｙ¹及びＹ²は、珪素原子と結合してキレート構造を形成し得るものである。］ （もっと読む）

【課題】基材によく密着し、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の層を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンにおいて、


（Ｒ_ｆ^１はパーフロロエーテル残基を有する１価の基であり、Ｒ_ｆ^２はパーフロロエーテル残基を有する２価の基であり、Ｑは２価の有機基である）置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

本発明は、式（Ｉ）のピペラジン化合物又は式（Ｉ）のピペラジン化合物の農業上有用な塩の除草剤としての使用に関し、式（Ｉ）における可変物は、請求項及び明細書に挙げらるとおりに定義される。

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【課題】成形時に優れた触媒作用を発現して、硬化性、流動性及び保存性が良好な樹脂組成物を与えることができる潜伏性触媒を、短時間、高収率でイオン性不純物の混入なく提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるプロトン供与体とトリアルコキシシラン化合物とホスホニウム塩化合物とを反応させてホスホニウムシリケート潜伏性触媒を製造する方法であって、金属アルコキシド化合物の共存下で反応させることを特徴とするホスホニウムシリケート潜伏性触媒の製造方法。


［式中、Ｙ¹及びＹ²は、プロトン供与性置換基がプロトンを１個放出してなる基を表す。Ｚ¹は、プロトン供与性置換基であるＹ¹Ｈ及びＹ²Ｈと結合する有機基を表す。］ （もっと読む）

【課題】酸素ガス雰囲気下で粗生成物を処理することにより、粗生成物中に含まれる副生成物を低減でき、ＭＯＣＶＤ法で原料として使用したときに、高い成長速度が得られ、優れた気化安定性及び長期成膜安定性を有し、成膜室への汚染を抑えることができ、形成する膜の段差被覆性に優れた、純度の高い有機金属化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機金属化合物の製造方法は、金属含有物と配位子前駆体とを有機溶媒の存在下で反応させて有機金属化合物、副生成物及び残渣分を含む粗生成物を得る工程と、得られた粗生成物から残渣分及び有機溶媒を除去して濃縮する工程と、濃縮物を酸素ガス雰囲気下、１３０〜１５０℃で処理する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

構造式（ＸＩＩ）および（ＸＶ）で表される化合物、および該化合物を含む重合可能なホログラフィック記録媒体。構造式（ＸＩＩ）、（ＸＩＩＡ）、および（ＸＶ）の変数は、本願において定義される。
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【課題】 温度変化や添加物質に対する形態安定性に優れ、且つ使用性に優れた固体ゲル状外用剤を調製することのできる化合物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示される水溶性メタルアルコラート誘導体。
Ｍ^１−（ＯＲ^１）_ｎ （１）
（式中、Ｍ^１はＳｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｚｎ，又はＡｌ原子、Ｒ^１は多価アルコール残基であり、Ｍ^１がＳｉ，Ｔｉ又はＺｒ原子である場合にｎは４、Ｍ^１がＺｎ原子である場合にｎは２、Ｍ^１がＡｌ原子である場合にｎは３である。） （もっと読む）

【課題】金属シリコン及びメタノール及び高級アルコールを原料とし、テトラアルコキシシランの共生成の少ない、トリアルコキシシランの直接合成方法の提供。
【解決手段】トリアルコキシシランの直接合成方法であって、任意に溶媒において、直接合成方法における触媒的に有効な量の触媒、及び直接合成方法における触媒の活性化に有効な量の触媒プロモータの存在下で、シリコンとアルコールを直接反応させることを特徴とし、前記プロモータが、少なくとも１つのリン−酸素結合を有する有機若しくは無機の化合物であることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】高純度ジルコニウム、ハフニウム、タンタル及びニオブアルコキサイド（アルコレート）Ｍ（ＯＲ）_Ｘの新規な製造方法、新規なタンタル及びニオブ化合物、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）不純物として少なくとも０．０５重量％の単核又は多核ハロゲン含有金属アルコキサイドを含む、ハロゲン含有量＞２００ｐｐｍの粗アルコキサイド生成物Ｍ（ＯＲ）_Ｘを、（ｂ）粗アルコキサイドの合計を基準に、多くとも３０重量％のＲＯＨ［ＲはＣ_１〜Ｃ_１２アルキル基］と混合し、（ｃ）その後又は同時に、単核又は多核ハロゲン含有金属アルコキサイドを基準として過剰のアンモニアを配量する方法である。 （もっと読む）

【課題】 生成物の分離精製が容易であり、さらには工業的に実用可能な９０℃以下の温度条件下で行なうことのできる水溶性シラン誘導体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 テトラアルコキシシランと多価アルコールとを、固体触媒の共存下で反応させることを特徴とする水溶性シラン誘導体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ナノメートルサイズの亜鉛含有発光体及び透明性に優れた発光組成物を提供する。
【解決手段】亜鉛イオンを発光中心とする発光体であって、亜鉛イオンが酸素を介して異種金属元素に隣接してなる発光体。発光体が液相中又は固相中に分散されてなる発光組成物であり、分散される発光体の直径が１〜５０ｎｍであることが好ましく、亜鉛と隣接する金属元素Ｍと前記亜鉛とのモル比率Ｍ／Ｚｎが、１から４であることが好ましい。金属元素がＩＶａ族、Ｖａ族、ＶＩａ族、ＩＩＩb族元素より選ばれた１種もしくは２種以上の元素であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 均質な複合酸化物の原料などとして有用な、構造が明確で分子レベルで均質な新規な複合金属アルコキシドを提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）
【化１】


〔Ｍ^１及びＭ^２：互いに相異なって、第II族、第III族又は炭素以外の第IV族元素、Ｒ¹及びＲ²：１価の鎖式炭化水素基など、Ｚ：２価の鎖式炭化水素基など、ｆ，ｇ：Ｍ^１又はＭ^２が第II族元素の場合は０、Ｍ^１又はＭ^２が第III族元素の場合は１、Ｍ^１又はＭ^２が第IV族元素の場合は２〕で表される新規な複合金属アルコキシド。
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アリルオキシエステル：R_nM(OR’)_x(OR’’)_y[式中、Mは、ケイ素、炭素、ホウ素またはチタンであり；Rは、水素またはヒドロカルビル基であり；R’は、アリル不飽和ヒドロカルビルまたはヒドロカルビルオキシヒドロカルビル基であり；R’’は、R’の飽和アナログであり；xは、少なくとも1であり、yは、ゼロであってもよく；Mがホウ素である場合に、n＋x+y＝3であり、Mがケイ素、炭素またはチタンである場合に、n＋x+y＝4である。]は、ペイントまたは塗料配合物中で反応性希釈剤として使用される。 （もっと読む）

【課題】 プレカーサを気化させて用いるＣＶＤ法、ＡＬＤ法等の薄膜製造方法において使用する原料に好適なチタニウム、ジルコニウム等の４族金属の化合物であり、薄膜堆積時においては、熱及び／又は酸化による分解が容易に進行し、気化及び輸送時においては、融点が低く液体の状態で輸送が可能であり且つ蒸気圧が大きく気化させやすく、また、多成分の薄膜を製造する場合に、得られる薄膜の組成制御が容易な化合物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（I）で表される金属化合物。
【化１】
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