【課題】ケイ素−ハロゲン結合を有する化合物を還元して所望のケイ素化合物を高効率かつ高収率で得ることができるケイ素化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のケイ素化合物の製造方法は、ケイ素−ハロゲン結合を有する化合物を水素化アルコキシアルミニウムアルカリ金属塩を用いて還元することを特徴とする。本発明の好ましい態様においては、前記還元は炭化水素系溶媒中で行うのがよく、前記ケイ素−ハロゲン結合を有する化合物は、１つのケイ素原子に少なくとも１個のハロゲン原子と別のケイ素原子とが結合してなる構造を有することが好ましい。また本発明の好ましい態様においては、前記還元により前記ケイ素−ハロゲン結合をケイ素−水素結合にする。 （もっと読む）

【課題】半導体素子等として有用なチタン酸化物膜及びケイ素酸化物膜を、低温で作製可能な方法、その原料錯体を提供する。
【解決手段】


（式中、Ｍはチタン原子又はケイ素原子を表す。Ｒ^１及びＲ^４はＣ_１〜Ｃ_１２アルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は水素原子又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を表す。Ｒ^５は、Ｃ_１〜Ｃ_６アルコキシ基又はジ（Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル）アミノ基を表し、ＱはＣ_１〜Ｃ_３アルキル基で置換されていてもよいＣ_２〜Ｃ_６メチレン基を表す。）で示される錯体（１）と、酸素ガス、空気、オゾン、水、過酸化水素の一種類以上とを反応させて得られる製膜用材料。 （もっと読む）

【課題】熱硬化剤として用いた場合に、ポットライフの長い硬化性樹脂組成物を得ることができるシリル化剤処理ヒドラジド化合物を提供する。また、該シリル化剤処理ヒドラジド化合物の製造方法、該シリル化剤処理ヒドラジド化合物を用いてなる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物からなり、保存安定性に優れ、液晶汚染を引き起こすことがほとんどない液晶滴下工法用シール剤、該液晶滴下工法用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるシリル化剤処理ヒドラジド化合物。
［化１］


式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、炭素数１〜２のアルキル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、又は、フェニル基を示し、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｒ^７は、炭素数０〜１８の置換若しくは非置換のアルキレン基、オキソ基、又は、置換若しくは非置換の芳香環を示す。 （もっと読む）

【課題】簡便な反応で、作業性を大幅に向上させることが可能であり、副生成物が少ないチオエステル基含有有機ケイ素化合物の新規製造方法、及びゴム組成物の硬化物のヒステリシスロスを大幅に低下させる、加水分解性シリル基とチオエステル基とカルボキシル基を同一分子内に有する有機ケイ素化合物、該有機ケイ素化合物を含むゴム用配合剤、該ゴム用配合剤を配合してなるゴム組成物、並びに該ゴム組成物の硬化物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】加水分解性シリル基、チオエステル基及びカルボキシル基を同一分子内に有する有機ケイ素化合物、及び加水分解性シリル基及びメルカプト基を有する有機ケイ素化合物とカルボン酸無水物との反応による、チオエステル基含有有機ケイ素化合物の新規製造方法。 （もっと読む）

【課題】ルテニウムまたはオスミウムの金属カルベン錯体を使用するジェミナル二置換オレフィンと末端オレフィンとの間のクロスメタセシスおよび閉環メタセシス反応による、官能性及び非官能性オレフィンの合成法を提供する。
【解決手段】好ましくは、下記一般式を有する触媒を使用する。


式中、Ｍはルテニウムまたはオスミウムであり；ＸとＸ１は各々独立して陰イオン配位子であり；Ｌは中性の電子供与体配位子であり；Ｒ，Ｒ１，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８およびＲ９は、各々独立して水素またはＣ１−Ｃ２０アルキル、等から選択される置換基である。 （もっと読む）

【課題】比較的穏和な条件下で反応を行っても、目的とする環状トリチオカーボネートを高収率で製造することができ、種々の反応基質にも適用できる当該環状トリチオカーボネートの製造方法を提供する。
【解決手段】（１）エピスルフィド（チイラン）と二硫化炭素とを、第二級又は第三級アミン性基で修飾されたシリカ触媒の存在下で反応させることを特徴とする、環状トリチオカーボネートの製造方法、（２）エポキシド（オキシラン）と、チオ尿素とチオシアン酸アンモニウムとから選ばれる少なくとも一方とを反応させてエピスルフィド（チイラン）を得る第１の工程と、上記エピスルフィド（チイラン）と二硫化炭素とを、第二級又は第三級アミン性基で修飾されたシリカ触媒の存在下で反応させる第２の工程と、を含んでなり、上記第１の工程と上記第２の工程とが、連続的に行われることを特徴とする、環状トリチオカーボネートの製造方法、並びに（３）第二級又は第三級アミン性基で修飾されたシリカを含有する、エピスルフィド（チイラン）と二硫化炭素とを反応させることにより、環状トリチオカーボネートを製造する際に用いられる触媒。 （もっと読む）

【課題】エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを製造することが可能な触媒成分となる新規な遷移金属錯体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される遷移金属錯体等。


（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ｘ^１〜Ｘ^３及びＲ^１〜^１９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲン原子を有しても炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数６〜２０のアリール基等である。） （もっと読む）

【課題】金属含有薄膜を形成させる際に使用可能な金属テトラ（１−アルキルイソブチルアルコキシド）を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】金属ハロゲン化物（金属は、ジルコニウム、ハフニウム又はチタニウムから選ばれる）と１−アルキルイソブチルアルコールとを、アミン化合物の存在下、炭化水素溶媒中で反応させることを特徴とする、金属テトラ（１−アルキルイソブチルアルコキシド）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、ジルコニウムハロゲン化物を出発原料として、高収率及び高選択率にてジルコニウムアミド化合物を製造する、工業的に好適なジルコニウムアミド化合物の製造方法を提供することである。
【解決手段】 本発明の課題は、ジルコニウムハロゲン化物とジアルキルアミンと混合した後、次いで、置換基を有していても良いシクロペンタジエン及びアルキルアルカリ金属を反応させることを特徴とする、ジルコニウムアミド化合物の製造方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、具体的に高純度化が達成された、即ち、ハロゲンや金属不純物の含有量が低減された高純度ジルコニウムアルコキシド原料を効率的に製造する方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、下記分析法で測定されるハロゲンの含有量が１質量ｐｐｍ未満、鉄、クロム及び銅それぞれの含有量が０．１質量ｐｐｍ未満であり、ニッケルの含有量が０．４質量ｐｐｍ未満である、高純度ジルコニウムアルコキシド原料によって解決される。
ハロゲンの分析法；
高純度ジルコニウムアルコキシド原料を、そのまま又は有機溶媒に溶解した後、これに塩基性水溶液を添加して、沈殿物を除去した溶液の水溶液部分をイオンクロマトグラフィーにより高純度ジルコニウムアルコキシド原料中のハロゲン含有量を分析する。
金属含量の分析法；
高純度ジルコニウムアルコキシド原料を、そのまま又は有機溶媒に溶解した後、これに酸性水溶液を添加して、この酸性水溶液の水溶液部分を誘導結合プラズマ質量分析（ＩＣＰ−ＭＳ）、誘導結合プラズマ発光分光分析（ＩＣＰ−ＡＥＳ）又はそれらを組み合わせて高純度ジルコニウムアルコキシド原料中の鉄、クロム、銅及びニッケル含有量を分析する。 （もっと読む）

【課題】触媒毒となり得る３級アミン原子を有するオレフィン化合物を使用した場合においてもヒドロシリル化反応の反応性を損なうことなく、付加異性体の生成及び二重結合の内部転位を抑制するヒドロシリル化方法を提供する。
【解決手段】有機アミン塩化合物の存在下、白金及び／又はその錯体化合物の触媒作用により、炭素−炭素不飽和結合を有するオレフィン化合物とハイドロジェンシリル基を有する化合物とを反応させるヒドロシリル化方法。 （もっと読む）

【課題】先行技術の欠点をもはや有していない、クロロオルガノシランから出発したカルバマトオルガノシランの製造方法の開発
【解決手段】カルバマトオルガノシラン（Ｓ）の製造方法において、ハロゲンオルガノシラン（Ｓ１）を、金属シアン酸塩と、アルコール（Ａ）と、少なくとも１種の非プロトン性溶剤（Ｌ）の存在で反応させ、この場合、副生成物として生じる金属ハロゲン化物並びに場合によりまだ存在する金属シアン酸塩残留物の固体分離の前に、前記溶剤（Ｌ）の少なくとも５０％を蒸留により除去する、カルバマトオルガノシラン（Ｓ）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フタロシニンをベースにした新たな発光材料の提供。
【解決手段】下式の反応により得たケイ素置換基を有すフタロシニン誘導体とジアルキルジクロロシラン、あるいはアルキルフェニルジクロロシランとをナトリウムの存在下反応させ、ケイ素含有オリゴマーを側鎖に有すフタロシニン化合物を合成する。


（式中、Ｍは、Ｎｉ、ＣｕまたはＣｏである） （もっと読む）

【課題】高温耐熱性、柔軟性、低Ｔｇ、透明性、耐熱黄変性等の物性を保有する硬化物を形成可能な化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるフッ素含有化合物。式（１）中、Ｒ^fはｎ価のフッ素化炭化水素基、ｎは１以上の整数。Ｒ¹〜Ｒ³は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール基又は下記式（２）で表される基である。式（２）中、Ｒ^a〜Ｒ^eは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０〜３の整数である。


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【課題】１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリヒドリド−２，４，６−トリエチルアミノ−１，３，５−トリアザ−２，４，６−トリシラシクロヘキサンの合成方法を提供する。
【解決手段】１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリヒドリド−２，４，６−トリエチルアミノ−１，３，５−トリアザ−２，４，６−トリシラシクロヘキサンの製造方法において、トリクロロシランとエチルアミンとを溶剤中で反応させる。 （もっと読む）

【課題】十分に高い重合活性を示すオレフィン重合用固体触媒成分、オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、オレフィン重合用固体触媒およびオレフィン重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】チタン原子、マグネシウム原子、ハロゲン原子およびシクロヘプタポリエンジカルボン酸ジエステルを含有するオレフィン重合用固体触媒成分。チタン化合物とマグネシウム化合物とシクロヘプタポリエンジカルボン酸ジエステルとを接触させる工程からなる前記オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法。前記オレフィン重合用固体触媒成分と、有機アルミニウム化合物と、任意に外部電子供与体とを接触させる工程からなるオレフィン重合用固体触媒の製造方法。前記製造方法によって製造されるオレフィン重合用固体触媒の存在下にオレフィンを重合させる工程からなるオレフィン重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ジシロキサン化合物等の各種不純物の含有量が少ない多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を得る方法、および該多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を、溶媒から晶析するという簡便な方法で目的とする化合物が得られる。得られた多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を用いた成形体は透明であり、耐青紫レーザー性が高く、耐光性の良好な成形体が得られる。 （もっと読む）

【課題】高い表面張力低下能を有し、かつ種々の溶剤に対し優れた溶解性を有する含フッ素有機ケイ素化合物及び含フッ素界面活性剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：


（式中、Ｒｆは１価のパーフルオロアルキル基等であり、Ｚは２価の有機基であり、Ｑはポリエーテル基であり、Ｒ^１は互いに独立に、水素原子又は、炭化水素基であり、Ｒ^２は水素原子又は水酸基であり、ａは１〜２、ｂは１〜３、ｃは０〜２）で表される化合物。 （もっと読む）