【課題】可視域から近赤外域での感度や、繰り返し疲労における帯電安定性、温湿度変動に対して安定性に優れた電子写真感光体に用いられる有機光導電体として有用な新規チタニルポルフィラジン誘導体混合物、その製造法を提供する。
【解決手段】フタロニトリル、ジシアノピリジン、ヒドロキシ置換フタロニトリル、及びチタン化合物を反応させることにより得られた、下記一般式（１）で表される複数のチタニルポルフィラジン誘導体からなるチタニルポルフィラジン誘導体混合物。
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【課題】熱硬化剤として用いた場合に、ポットライフの長い硬化性樹脂組成物を得ることができるシリル化剤処理ヒドラジド化合物を提供する。また、該シリル化剤処理ヒドラジド化合物の製造方法、該シリル化剤処理ヒドラジド化合物を用いてなる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物からなり、保存安定性に優れ、液晶汚染を引き起こすことがほとんどない液晶滴下工法用シール剤、該液晶滴下工法用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるシリル化剤処理ヒドラジド化合物。
［化１］


式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、炭素数１〜２のアルキル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、又は、フェニル基を示し、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｒ^７は、炭素数０〜１８の置換若しくは非置換のアルキレン基、オキソ基、又は、置換若しくは非置換の芳香環を示す。 （もっと読む）

本発明は、室温で有機溶媒において硝酸鉄（Fe(NO₃)₃ ^.9H₂O）と2, 2,6, 6-テトラメチルピペリジン窒素酸化物と無機塩化物とを触媒とし、酸素又は空気を酸化剤とし、１〜２４時間の反応時間で、アルコールをアルデヒド或いはケトンに酸化させ、前記のアルコールと2,2,6,6-テトラメチルピペリジン窒素酸化物と硝酸鉄と無機塩化物との比はモル比で100:1〜10:1〜10：1〜10であることを特徴とする、アルコールを酸化してアルデヒド或いはケトンを製造する方法を提供する。本発明は収率が高く、反応条件が温和で、操作が簡単で、分離精製が便利で、溶媒の再利用が可能で、原料が汎用で、工程全体が環境に優しく、汚染が無い等の色々のメリットが有り、産業化生産に適する方法である。 （もっと読む）

【課題】低温での製造および微細加工が可能な高誘電体組成物を提供する。
【解決手段】高誘電体組成物の製造方法は、６０℃以上１２０℃以下の温度環境下で、ポリエチレングリコールとペルオキソチタン酸水溶液とを含む混合物から水を蒸発させてゲル状物質を得る水蒸発工程と、水蒸発工程後、１６０℃以上３１７℃以下の温度環境下で、ゲル状物質を硬化させる硬化工程と、を有する高誘電体組成物の製造方法であって、ポリエチレングリコールの数平均分子量は、２００以上１５００以下であり、混合物に含まれるポリエチレングリコールの物質量は、混合物に含まれるチタンの物質量の４倍より多く１０倍以下である。 （もっと読む）

【課題】
安定性の優れた表面親水化剤、帯電防止剤、プロトン伝導体、イオン伝導体などを提供する。
【解決手段】
下記式（１）で表される化合物およびその縮合物等を提供する。

ＭＯＳ（＝Ｏ）_２-Ｒ^１-Ｘ-Ｒ^２-Ｓｉ（ＣＨ_３）_ｎ（-Ｙ）_３−ｎ （１）

{式中Ｍは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルカリ金属原子又はアンモニウム（ＮＨ_４）、Ｒ^１はエチレン又はフェニレンエチレン基であり、Ｘは−Ｓ（＝Ｏ）−または−Ｓ（＝Ｏ）_２−を表し、Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｙは同一或いは異なってもよい炭素数１〜４のアルコキシ基又は水酸基、ｎは０又は１を表す。} （もっと読む）

【課題】環境負荷の低減を図ることができ、かつ、酸化チタン粒子の着色の低減を図ることができる酸化チタン粒子の製造方法、その製造方法において用いることのできるチタン錯体、および、その製造方法により調製される酸化チタン粒子を提供すること。
【解決手段】チタン原子を中心原子として含有し、総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を配位子として含有するチタン錯体を、高温高圧の水中下において処理する。 （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物（具体的例示：２，４，６−トリシクロプロピル−２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン）を含有するＳｉ含有膜形成材料を用いてＰＥＣＶＤ法によりＳｉ含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。 （もっと読む）

【課題】高温条件においてもエチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる遷移金属錯体を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される遷移金属錯体。前記遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分。前記三量化用触媒を用いた１−ヘキセンの製造方法。オレフィン重合用触媒成分と、一般式（１）で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法。
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【課題】
酸無水物変性オルガノポリシロキサンと一級又は二級のアミノ基を有する糖アミンとの反応でアミド結合を介して糖類とオルガノポリシロキサンが結合した、新規のオルガノポリシロキサンを提供し、さらに水を含有する極性溶剤中で前記の反応を行うことにより、糖類に対するオルガノポリシロキサンの導入率を高められる製造方法を提供する。
【解決手段】
一級、又は二級のアミノ基を有する糖アミン化合物と酸無水物変性オルガノポリシロキサンとの酸無水物開環反応によって、アミド結合を介して糖残基とオルガノポリシロキサンが結合していることを特徴とする糖残基を含有するオルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

本発明は、下記の一般式Iを有するオルガノシランに関する：

(HO)₂ R¹Si − Z − S_m − R²

(式中、R¹は、同一または異なるものであって、各々、1〜18個の炭素原子を有する線状または枝分れのアルキル、シクロアルキル或いはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
R²は、1〜30個の炭素原子を有する線状または枝分れのアルキル、シクロアルキルまたはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
Zは、1〜18個の炭素原子を含む二価の結合基を示し；そして、
mは、2よりも大きい数である)。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式Ｉのビス（アミノアルキル）ジシロキサンの合成方法であって、一般式ＩＩＩａのカルバマトシランもしくは一般式ＩＩＩｂのカルバマトジシロキサン又はそれらの混合物を、水の存在下で反応させる前記合成方法であり、その際、前記式中、Ｒ¹は、１〜１００個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を意味し、その炭素鎖は、隣接していない酸素、硫黄原子、−ＮＲ⁶−（ＣＯ）−又は−ＮＨＣＯＮＨ−基によって中断されていてよく、かつ前記二価の炭化水素基の水素は、個々にＦ、Ｃｌ、ＮＲ⁷Ｒ⁸又はＯＲ⁹基によって置換されていてよく、かつＲ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は、１〜１００個の炭素原子を有する炭化水素基を意味する。
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【課題】添加成分を主成分中へより分散させたセラミックス前駆体の製造方法を提供する。
【解決手段】主成分であるａ成分を含む第１原料および添加成分であるｂ成分を含む第２原料の全てもしくは一部を架橋性配位子によって取り囲まれた錯体配位子１２および１４とし、水、メタノール及びエタノールのうちいずれか１以上の溶媒へ第１原料及び第２原料を該溶媒の溶解度に比して過剰量となるように添加して懸濁流動体とし、過剰量で添加された第１原料及び第２原料が溶出して溶媒中で高濃度状態となることにより、この溶媒からセラミックス前駆体２０を析出させるセラミックス前駆体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電子供与性が高く、安定性に優れるヘテロ環縮環チオフェン化合物及びポリマー、並びにヘテロ環縮環チオフェン化合物の効率的な製造方法を提供。
【解決手段】立体反発が小さいため、２つの骨格が約１６８°の二面角をなす構造が安定配座であるビ（チエノ［２，３−ｃ］チオフェン）骨格を有する、優れた電荷輸送能を有するヘテロ環縮環チオフェン化合物及びポリマー、並びにヘテロ環縮環チオフェン化合物の効率的な製造方法。 （もっと読む）

【課題】［２＋２］環化付加物（β−ラクタム類）の分解をより高度に防止できるβ−ラクタム類の製造方法を提供する。
【解決手段】オレフィン類を含む第１原料液と、一般式（２）：ＸＳＯ₂ＮＣＯ（２）で表されるスルホニルイソシアネート類を含む第２原料液とを合流させ、この合流液に、さらに前記第１原料液と第２原料液をそれぞれ少なくとも１回合流させて得られた最終合流液を管型反応器に連続供給して、一般式（３）：


で表されるＮ−スルホニル−β−ラクタム類を連続製造する。 （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式（１）：ＲＳｉＸ₃（式中、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００以下のシルセスキオキサンを製造し、（Ｂ）得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】良好な選択性の際に高い変換率を可能にし、固体のアルカリ金属硫化物水和物の使用を不用とし、かつ硫化原料物質中でのアルカリ金属水酸化物を許容する、ポリ硫化物のオルガノシランの製造法を提供する。
【解決手段】一般式Ｉのオルガノシランを、式ＩＩの（ハロゲンオルガニル）アルコキシシランと含水アルカリ金属硫化水素、硫黄およびアルカリ金属炭酸塩とのアルコール中での反応によって製造するための方法において、この方法は、式ＩＩの（ハロゲン化オルガニル）アルコキシシランとアルカリ金属硫化水素とのモル比が１：０．４０〜１：０．７５であり、アルカリ金属硫化水素とアルカリ金属炭酸塩とのモル比が１：０．５〜１：１．５であることによって特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】青色発光でき、かつ他の青色およびより低いバンドギャップ発光材料の電子輸送材料として働くことができ、通常の有機溶媒に容易に可溶するポリマーの提供。特に燐光ドープ材料、蛍光ドープ材料のホスト材料の提供。
【解決手段】選択的に置換された一般式（ＶＩＩ）の第１の繰り返し単位を含む、


ここで、各Ｒ2は同じか異なり、置換基を表し、Ｒ2基は環を形成するために結合され、結合（ａ）は一般式（ＶＩＩ）の繰り返し単位の２の位置に結合しないポリマー。 （もっと読む）

【課題】可視光線、特に４１０〜５００ｎｍの波長範囲の可視光線により光硬化することが出来、かつ、光硬化物からの金属イオンの滲み出しの問題がなく、しかも、リン化合物を含有しない光増感剤の提供。
【解決手段】例えば９，１０−ビス（トリメチルシリルオキシ）アントラセンや９，１０−ビス（ジメチル−ｔ−ブチルシリルオキシ）アントラセンのような９，１０−ビスシリルオキシアントラセン誘導体を有効成分とする光増感剤。 （もっと読む）

本発明は、一般式（Ｉ）Ｒ₂Ｎ［（ＣＨ₂）₂ＮＨ］_z（Ｚ）Ｓｉ（Ｒ''）_n（ＯＲ'）_3-n（Ｉａ）のアミノ官能性オルガノシランの製造からのハロゲン化アンモニウムおよび／または有機アミンハロゲン化水素酸塩を含有する残留物を−前記残留物に、本質的に非極性の有機溶媒および苛性アルカリ水溶液を加え−反応させ、引き続き水相を有機相から分離し−前記有機相から前記有機溶媒を除去し、かつ−残留する有機相を回収することによって後処理する方法に関し、その際、式（Ｉａ）に従った前記アミノ官能性オルガノシランの製造は、一般式（ＩＩ）Ｘ−Ｚ−Ｓｉ（Ｒ''）_n（ＯＲ'）_3-n（ＩＩ）のハロゲン官能性オルガノシランと過剰のアンモニアまたは一般式（ＩＩＩ）ＲＮＨ［（ＣＨ₂）₂ＮＨ］_zＲ（ＩＩＩ）の有機アミンとの反応および引き続く分離ならびに粗生成物および発生する塩含有残留物の後処理に基づく。 （もっと読む）