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Fターム[4H049VV22]の内容

Fターム[4H049VV22]に分類される特許

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【課題】可視域から近赤外域での感度や、繰り返し疲労における帯電安定性、温湿度変動に対して安定性に優れた電子写真感光体に用いられる有機光導電体として有用な新規チタニルポルフィラジン誘導体混合物、その製造法を提供する。
【解決手段】フタロニトリル、ジシアノピリジン、ヒドロキシ置換フタロニトリル、及びチタン化合物を反応させることにより得られた、下記一般式(1)で表される複数のチタニルポルフィラジン誘導体からなるチタニルポルフィラジン誘導体混合物。
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【課題】有機金属化合物の非常に高純度な精製方法を提供する。
【解決手段】ストリッピングカラムおよびガス流れを用いて粗有機金属化合物を精製する。具体的には、(a)液相の粗有機金属化合物を提供し、(b)第1の入口15及び第1の出口20を伴う第1の部分12、並びに第2の入口25及び第2の出口30を伴う第2の部分14を有するストリッピングカラム10を提供し、(c)前記液相の粗有機金属化合物を前記第1の入口から前記ストリッピングカラムの第1の部分に供給し、(d)ガス流れを前記第2の入口から前記ストリッピングカラムの第2の部分に供給し、(e)前記粗有機金属化合物を、前記ストリッピングカラムを通して前記ガス流れの流れと反対に向かわせ、(f)液相の精製された有機金属化合物を前記第2の出口から集めることにより、有機金属化合物と比較して相対的により揮発性の不純物を除去する。 (もっと読む)


【課題】内部圧縮圧力を増強した炭窒化シリコン及び炭窒化シリコン薄膜のプラズマCVD法を提供すること。
【解決手段】本発明は、プラズマ化学気相成長(PECVD)窒化シリコン(SiN)及び炭窒化シリコン(SiCN)薄膜における内部圧縮応力の増強方法であって、アミノ・ビニルシラン・ベースの前駆体からの膜を堆積するステップを含んでなる前記方法である。より詳しく述べると、本発明は、以下の式:
[RR1N]xSiR3y(R2z
{式中、x+y+z=4、x=1〜3、y=0〜2、及びz=1〜3であり;R、R1、及びR3が、水素、C1〜C10アルカン、アルケン、C4〜C12芳香族であり得;各R2が、ビニル、アリル、又はビニル含有官能基である。}から選択されるアミノ・ビニルシラン・ベースの前駆体を使用する。 (もっと読む)


【課題】密着性向上効果に優れるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を提供する。
【解決手段】式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。


(式中のaは1〜4の整数であり、bは0〜3の整数であり、cは0または1であり、a+b+c=4である。mは1または2であり、nは0または1である。Rは−CH−CH−あるいは−CH(CH)−で表される基である。Rはメチル基、エチル基またはアセチル基である。) (もっと読む)


【課題】CVD法によるグラフェンの大量合成に好適に用いられるグラフェン前駆体化合物及びその製造方法、並びにそのグラフェン前駆体化合物から得られるナノグラフェン構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るグラフェン前駆体化合物は、ジベンゾチオフェン骨格を有する化合物とメタロセン化合物とを加熱溶融して配位子交換を行うことで得られる。このグラフェン前駆体化合物を800〜1200℃で加熱することにより、花弁形状、又は複数の花弁形状のグラフェンシートが集合した花冠形状のナノグラフェン構造体が得られる。 (もっと読む)


【課題】 より安価かつ容易に高純度なトリシリルアミンを得ることができるトリシリルアミンの製造方法を提供することを目的とする
【解決手段】 ペルヒドロポリシラザンを、無酸素または低酸素雰囲気下で加熱分解するトリシリルアミンの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高温条件においてもエチレンの三量化反応により1−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる遷移金属錯体を提供すること。
【解決手段】一般式(1)で表される遷移金属錯体。前記遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分。前記三量化用触媒を用いた1−ヘキセンの製造方法。オレフィン重合用触媒成分と、一般式(1)で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法。
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【課題】高純度のアルコキシシランを簡便な方法で得ることができるアルコキシシランの製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの製造方法は、アルコールAおよびハロゲン化ケイ素化合物Cを第3級アミンBの存在下で反応させてアルコキシシランを得る工程と、アルコキシシランを含有する第1液相と、副生する液体のアミンハロゲン酸塩を含有する第2液相とを相分離させた後、該第2液相を除去する工程と、を含む。 (もっと読む)


【解決手段】イリジウム触媒又はロジウム触媒存在下に、一般式(1)
CH2=CHSiR12X (1)
(R1は炭素数1〜20の置換又は非置換の1価炭化水素基を表し、Xはハロゲン基を表す。)
で表されるハロゲノジオルガノビニルシランと、一般式(2)
HSiR22X (2)
(R2は炭素数1〜20の置換又は非置換の1価炭化水素基を表し、Xは上記に同じ。)
で表されるハロゲノジオルガノシランとを反応させる一般式(3)
XR12SiCH2CH2SiR22X (3)
(R1、R2、Xは上記に同じ。)
で表される1,2−ビス(ハロゲノジオルガノシリル)エタンの製造方法。
【効果】本発明の製造方法によれば、イリジウム触媒又はロジウム触媒存在下に、ハロゲノジオルガノビニルシランとハロゲノジオルガノシランを反応させることにより、選択的に1,2−ビス(ハロゲノジオルガノシリル)エタンを提供できる。 (もっと読む)


【課題】青色発光でき、かつ他の青色およびより低いバンドギャップ発光材料の電子輸送材料として働くことができ、通常の有機溶媒に容易に可溶するポリマーの提供。特に燐光ドープ材料、蛍光ドープ材料のホスト材料の提供。
【解決手段】選択的に置換された一般式(VII)の第1の繰り返し単位を含む、


ここで、各R2は同じか異なり、置換基を表し、R2基は環を形成するために結合され、結合(a)は一般式(VII)の繰り返し単位の2の位置に結合しないポリマー。 (もっと読む)


【課題】半導体製造における成膜原料であるテトラ−t−ブトキシハフニウム、テトラキス(アセチルアセトナト)ハフニウム、テトラキス(1−メトキシ−2−メチル−2−プロパノラト)ハフニウム、等の製造方法の提供。
【解決手段】テトラ−t−ブトキシハフニウム、テトラキス(アセチルアセトナト)ハフニウム、テトラキス(1−メトキシ−2−メチル−2−プロパノラト)ハフニウム、等の製造方法において、一般式:Hf[N(R1)(R2)]4で示されるハフニウムアミド錯体に一般式:A(OyXOnfmで示される化合物を添加した後、減圧蒸留を行う工程、得られる留分に一般式:Li(NR34)で示されるリチウムアルキルアミドを添加した後、減圧蒸留を行う工程、得られる留分にt−ブタノール、アセチルアセトン、1−メトキシ−2−メチル−2−プロパノール、等を添加した後、減圧蒸留を行う工程を順次実施する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ポリカルボシランやシリコンカーバイド前駆物質の製造に有用な物質の直線状や環状トリシラアルカンの製造方法に関する。
【解決手段】本発明によると、4次有機ホスホニウム塩化合物を触媒として用いてSi-H結合を有するビスクロロシリルメタンを単独で、又は、有機塩化物と共に反応させて直線状や環状トリシラアルカンと有機トリクロロシラン誘導体を高収率で同時に合成することができ、又、触媒の使用後に回収が可能であり、非常に経済的であるので、有機無機ハイブリッド物質の前駆物質の大量生産に効果的である。 (もっと読む)


【解決手段】5−ビニル−2−ノルボルネンに一般式(1)
HSiR1nCl3-n (1)
(R1は炭素数1〜3の1価炭化水素基、nは0〜2の整数。)
で示されるクロロシランを反応させる際に、触媒として白金又は白金化合物と一般式(2)
PR234 (2)
(R2、R3、R4は1価炭化水素基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、又は、アリールオキシ基。)
で示されるリン化合物、又は、上記一般式(2)で示されるリン化合物を配位子としてもつ白金錯体を用いる一般式(3)


(R1は炭素数1〜3の1価炭化水素基、nは0〜2の整数。)
で示されるクロロシリル基含有エチルノルボルネン化合物の製造方法。
【効果】本発明によれば、クロロシリル基含有エチルノルボルネン化合物を高純度で収率よく製造することができる。 (もっと読む)


【課題】新規パイ共役電子系化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物。


一般式(I)中、A1、A2、A3およびA4は、それぞれ独立に、アルキル置換ヘキサヒドロインダセン基を表し、nは1以上の整数を表す。nが2以上の場合、複数存在するA3、A4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安全性が高く、実用的な硬化速度を有し、安定に働き、しかも廉価に製造できる有機重合体用硬化触媒を提供する。
【解決手段】 一般式(1):


(式中、R1、R2、R3及びR4は相互に同一または異なって、炭素原子数1〜10の炭化水素基、nは0〜2の整数であり、nが2のとき、2つのR1は相互に同一であっても、異なっていてもよい。)
で表されるアルミニウム化合物、該化合物からなる硬化触媒、及び該硬化触媒とケイ素含有有機重合体を含む湿気硬化型組成物。 (もっと読む)


スタチン、好ましくはロスバスタチンの調製のための中間体及び方法が提供される。
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【課題】かご状シルセスキオキサン、特にn=8のT−8シルセスキオキサンを高い選択率で簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】アルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法において、溶媒および塩基存在下、1当量のSi−H結合を有するかご状シルセスキオキサンと、30〜40当量のアルコールとを20〜30℃で反応させるアルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】毒性に問題のあるトリアルキルスズ化合物を生成しないような、熱変性しにくいテトラアルキルジアルコキシジスタンオキサンの提供、および、該化合物を出発物質として用いるジアルキルスズジアルコキシドの製法の提供。
【解決手段】テトラブチル−ビス(1−エトキシ−2−プロピルオキシ)ジスタンオキサン。
【効果】エステル化合物の製造、エステル交換反応、ポリマー硬化剤等の分野に利用できる。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1つのゴム、充填剤、式Iの有機ケイ素化合物、1つの加硫促進剤、および1つの共促進剤を含むゴム混合物に関する。ゴム混合物は、少なくとも1つのゴム、充填剤、一般式Iの有機ケイ素化合物、1つの加硫促進剤、および1つの共促進剤を混合することにより製造される。ゴム混合物は、成形体の製造に使用することができる。本発明は、また、エステル交換による、化学式Iの有機ケイ素化合物の製造方法に関する。
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