【課題】電子材料用途等に好適なハロゲン不純物の低減化された高純度のアミノシランを提供することを目的とする。
【解決手段】Ｓｉ−Ｎ結合を有し、かつＳｉ−ハロゲン結合を持たないアミノシランであり、不純物として１ｐｐｍ（ｗ／ｗ）以上のハロゲンを含有するアミノシランを、アルキル金属試薬で処理する工程と、処理されたアミノシランを蒸留する工程を少なくとも含む精製されたアミノシランの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】アミノ官能性化合物をベースとする有機官能性シロキサンオリゴマー混合物の提供。
【解決手段】式Ｉの連鎖状シロキサンオリゴマーと式ＩＩの環式シロキサンオリゴマーとの混合物。




（式中、置換基Ｒは、アミノプロピル官能基、メトキシ基、エトキシ基、２-メトキシエトキシ基、プロポキシ基などを有す） （もっと読む）

【課題】１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリヒドリド−２，４，６−トリエチルアミノ−１，３，５−トリアザ−２，４，６−トリシラシクロヘキサンの合成方法を提供する。
【解決手段】１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリヒドリド−２，４，６−トリエチルアミノ−１，３，５−トリアザ−２，４，６−トリシラシクロヘキサンの製造方法において、トリクロロシランとエチルアミンとを溶剤中で反応させる。 （もっと読む）

【課題】ジエン系ゴムとシリカを含むゴム配合物において配合物の粘度を低減し、ゴム配合物を加硫して得られる加硫物の損失正接を低減し、低圧縮永久歪性を有する優れたゴム特性を与える含硫黄有機珪素混合物を提供する。
【解決手段】不活性ガス雰囲気下・極性溶媒中にて、無水硫化アルカリと、ハロゲノアルキルアルコキシ（アルキル）シランとおよびハロゲノカルボン酸を反応させることにより得られる含硫黄珪素生成物。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（ＩＩ）［Ｒ¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_a［Ｍ^a+］のカルボン酸の少なくとも１種の塩を、一般式（ＩＩＩ）Ｘ−Ｒ²−ＳｉＲ³₃の少なくとも１種のシランと反応させることによって、一般式（Ｉ）Ｒ¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ²−ＳｉＲ³₃のシランを製造する方法であって、その際、該方法は、少なくとも１つの蒸留処理工程を有し、ここで、留出物は、一般式（Ｉ）の少なくとも１種のシランを含有し、かつ少なくとも１種の高沸点溶媒ＨＳ−ＬＭが存在しており、その際、ＨＳ−ＬＭは、蒸留処理工程が実施される圧力で測定して、一般式（Ｉ）のシランより高い沸点を有し、かつ式中、Ｘ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｍ^a+及びａは、請求項１に記した意味を有する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物。


（Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）
【効果】本発明の有機ケイ素化合物を用いることにより、高分子材料に高い機械的特性や耐熱性を付与することができる。本発明の有機ケイ素化合物は、容易に精製が可能で、使用時に発生するアルコール量を低減することができ、また、本発明の製造方法によれば、上記有機ケイ素化合物を簡便に収率よく製造することができる。 （もっと読む）

【解決手段】トリフルオロメタンスルホン酸と１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザンとを混合して中和塩を生成させた後、該中和塩を熱分解させ、蒸留することを特徴とするジメチルビニルシリルトリフラートの製造方法。
【効果】本発明の方法により製造されるジメチルビニルシリルトリフラートは、高価なトリフルオロメタンスルホン酸銀や引火点の低いジエチルエーテルを用いることなく、トリフルオロメタンスルホン酸から溶媒を用いることなく、安価に安定的にジメチルビニルシリルトリフラートを得ることができる。 （もっと読む）

本発明の対象は、アルキルクロロシラン及びハイドロジェンクロロシランから選択されるシランを含有するシラン混合物を蒸留装置において熱的分離する方法であって、蒸留装置の加熱のための熱の少なくとも一部を排出蒸気によって他の蒸留装置に転用し、そして高くても２００ｐｐｍの不純物を有するシラン生成物が得られる前記方法である。 （もっと読む）

【課題】脂肪族アミノ基を有し、蒸留精製が可能で、発生するアルコール量を削減することができる有機ケイ素化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜１０の置換又は非置換の脂肪族１価炭化水素基であって、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成してもよく、各々同一又は異なっていてもよい。また、Ｒ¹及びＲ²はヘテロ原子を含んでもよい。Ｒ³及びＲ⁴は炭素数１〜１０の置換又は非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）で示されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物。
【効果】アミノ基を有する有機ケイ素化合物を用いることにより、高分子材料の紫外線領域を含んだ透明性を保持しながら、高い機械的特性や耐熱性を付与することができる。 （もっと読む）

本発明は、一般式（１）のシランを、一般式（２）のアルキルハロゲン化シラン（Ｓ１）及び一般式（３）の不飽和有機カルボン酸の塩（Ｓ２）から製造する方法に関し、この方法は、アルキルハロゲン化シラン（Ｓ１）の沸点を下回る沸点を有する１種又はそれ以上の成分（Ｌ）を、成分（Ｓ１）及び（Ｓ２）の反応前又は反応中に蒸留によって、反応混合物、部分混合物又は個々の反応成分から少なくとも部分的に除去することを特徴する。 （もっと読む）

【課題】充填剤への結合の際に微少量の揮発性のアルコールを放出し、同時に高い反応性を有する有機珪素化合物の提供。
【解決手段】下記一般式ＩＩで表される有機珪素化合物。


（Ｒはメチル基又はエチル基であり、Ｒ′はＣ９〜３０のアルキル基等であり、Ｒ′′は２価のＣ１〜３０の炭化水素基等であり、ＸはＳ等であり、Ｓの場合ｎ＝２及びｍ＝１〜１０である。）該有機珪素化合物は、式ＩＩのＲ′がＲである化合物とＲ′ＯＨで表されるアルコールを触媒存在下に反応させＲＯＨを蒸留により連続的に分離することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】半導体製造における成膜原料であるテトラ−ｔ−ブトキシハフニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ハフニウム、テトラキス（１−メトキシ−２−メチル−２−プロパノラト）ハフニウム、等の製造方法の提供。
【解決手段】テトラ−ｔ−ブトキシハフニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ハフニウム、テトラキス（１−メトキシ−２−メチル−２−プロパノラト）ハフニウム、等の製造方法において、一般式：Ｈｆ［Ｎ（Ｒ₁）（Ｒ₂）］₄で示されるハフニウムアミド錯体に一般式：Ａ（Ｏ_yＸＯ_nＲ_f）_mで示される化合物を添加した後、減圧蒸留を行う工程、得られる留分に一般式：Ｌｉ（ＮＲ₃Ｒ₄）で示されるリチウムアルキルアミドを添加した後、減圧蒸留を行う工程、得られる留分にｔ−ブタノール、アセチルアセトン、１−メトキシ−２−メチル−２−プロパノール、等を添加した後、減圧蒸留を行う工程を順次実施する。 （もっと読む）

本発明は、一般式ＩＩＲ（ＮＲ’）Ｈ （ＩＩ）〔式中、Ｒは、１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わし、Ｒ’は、水素原子（Ｈ）を表わすかまたは１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わす〕で示される過剰量で使用されるアルキルアミンを、一般式ＩＩＩＸ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ¹）ｎ（ＯＲ²）_3-n （ＩＩＩ）〔式中、Ｘは、ＣｌまたはＢｒを表わし、Ｙは、一連の−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）（ＣＨ（ＣＨ₃））（ＣＨ₂）−および−（ＣＨ₂）₄−からの２価アルキル基であり、基Ｒ¹およびＲ²は、同一かまたは異なり、それぞれ１〜４個のＣ原子を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を表わし、ｎは、０または１または２である〕で示されるハロゲンアルキルアルコキシシランと反応させ、過剰の遊離アルキルアミンを留去し、同時に、残留するアルキルアミンヒドロハロゲン化物およびアルキルアミノアルキルアルコキシシランヒドロハロゲン化物を含有する生成物混合物を、存在する化合物に相当するアルキルアミノアルキルアルコキシシランを添加しながら処理し、それによって遊離されたアルキルアミンを系から導出し、および残留する生成物混合物または生成物ヒドロハロゲン化物混合物を後処理することにより、一般式（Ｉ）Ｒ−（ＮＲ’）−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ¹）ｎ（ＯＲ²）_3-n （Ｉ）〔式中、Ｒは、１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わし、Ｒ’は、水素原子（Ｈ）を表わすかまたは１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状、分枝鎖状または環状のアルキル基を表わし、Ｙは、一連の−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）（ＣＨ（ＣＨ₃））（ＣＨ₂）−および−（ＣＨ₂）₄−からの２価アルキル基であり、基Ｒ¹およびＲ²は、同一かまたは異なり、それぞれ１〜４個のＣ原子を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を表わし、ｎは、０または１または２である〕で示されるアルキルアミノアルキルアルコキシシランを製造するための方法に関する。後処理のために、生成物混合物または生成物ヒドロハロゲン化物混合物は、温度調節され、アルカリ金属アルコラート溶液と反応され、アルカリ金属ハロゲン化物が沈殿され、および分離され、使用されたアルカリ金属アルコラート溶液の溶剤は、蒸留によって生成物から除去され、生成物が取得される。しかし、後処理は、生成物混合物または生成物ヒドロハロゲン化物混合物に非極性の有機溶剤を添加し、この混合物を水性のアルカリ金属アルカリ液またはアルカリ土類金属アルカリ液で処理し、その際に生じる、金属塩含有水性相を、有機生成物相と分離し、有機相を、蒸留し、生成物を取得することにより、水性で実施されてもよい。 （もっと読む）

【課題】基体表面に極性官能基を、効率良く、且つ経済的に導入可能な、ｏ−ニトロベンジル基含有シラザン化合物、その製造方法、該シラザン化合物を利用した表面修飾剤、該表面修飾剤を用いた、特定の極性官能基を所望箇所に発現させた表面修飾材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】例えば下記反応式により製造されるｏ−ニトロベンジル基含有シラザン化合物は上記特性を有する。


（ＨＭＤＳはヘキサメチルジシラザンを意味する） （もっと読む）

【課題】本発明は、（チオ）フェノキシフェニルシラン組成物、およびその（チオ）フェノキシフェニルシラン組成物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物を開示する。本発明の（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物の製造方法も開示し、本方法は精製工程をさらに含む。高輝度発光装置用の封入剤の調製への使用に好適な高純度（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物もさらに開示する。 （もっと読む）

本発明は、（a）ケイ素基含有アルキルカルバメートを提供する工程と、（b）工程（a）におけるケイ素基含有アルキルカルバメートを遷移金属複合物の存在下で分解し、イソシアネートアルキルシランを得る工程と、を含むイソシアネートアルキルシランの製造方法を提供する。本方法によれば、原料であるケイ素基含有アルキルカルバメートの脱アルコール反応程度が向上し、且つ産物であるイソシアネートアルキルシランの選択性が高い。 （もっと読む）

高純度のビス（アミノアルキル）ジシロキサンもしくはビス（アミノアルキル）シロキサンオリゴマーを高い転換収量をもって産生するためのオレフィンアミンとテトラオルガノジシロキサンとの、もしくはビス（ジアルキルヒドロゲン）シロキサンとのヒドロシリル化を用い、その後の高分子ビス（アミノアルキル）ポリシロキサンへと平衡化するプロセスによって作製されるビス（アミノアルキル）シロキサンダイマーもしくはオリゴマー。 （もっと読む）

本発明の対象は、イソシアナート官能基を有するシランを、前記シランをそれらの化学的製造後に精製し、かつ精製後に１０％未満の相対大気湿度を有する雰囲気中で専ら取り扱うことによって、製造する方法である。 （もっと読む）