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Fターム[4H049VW08]の内容

第4族元素を含む化合物及びその製造 (22,055) | その他の特徴 (1,518) | 分離、回収、精製、その他の物理的処理 (98) | 固−液処理;固−気処理;吸着;クロマトグラフィー;固体による液体又は気体の吸収; 濾過;デカント;昇華 (18)

Fターム[4H049VW08]に分類される特許

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【課題】新規なパーフルオロアルキルマグネシウム−ジルコニウムアート錯体を提案する。
【解決手段】パーフルオロマグネシウムハライドと、下記一般式(2)


(式中Mはチタン原子またはジルコニウム原子を示し、Xはハロゲン原子を示す)で表されるメタロセンジハライド及びパーフルオロアルキルアイオダイドを反応させることにより調製されるパーフルオロアルキル化剤及びそれを用い各種パーフルオロアルキル基含有化合物を調製する。 (もっと読む)


【課題】色品質のよいケイ酸エステルを製造できるケイ酸エステルの製造方法を提供する。
【解決手段】塩基化合物共存下に、特定のケイ酸エステルと炭素数4〜20のアルコールとをエステル交換反応させ、該エステル交換反応終了後に、得られた反応混合物から塩基化合物の除去操作を行い、塩基化合物の除去操作を行なった反応混合物を40〜200℃で熟成する、ケイ酸エステルの製造方法。 (もっと読む)



【課題】ガス状物質や液体状物質の吸着能に優れ、特に二酸化炭素、酢酸などの酸性ガス、アルデヒド類の吸着/脱着能に優れるとともに、粒子状又は繊維状の担体に担持されており、フィルタとしても加工が容易な新規な吸着剤を提供する。
【解決手段】前記吸着剤は、一般式(1):


[式中、Rは、水素原子または炭素数1〜27のアルキル基であり、R、R、及びRは、それぞれ独立して、炭素数1〜30のアルキル基であり、nは1〜3の整数である]
で表される有機ケイ素化合物が、金属酸化物を主成分とする表面を有する比表面積が1m/g以上である粒子又は繊維に結合してなる。 (もっと読む)


【課題】人体に優しい抗カビ剤・難燃剤であるホウ酸化合物の高濃度溶解を可能にすると共に、処理対象物に対して長期間安定に保持可能にする方法、並びに、該方法によって得られる高濃度ホウ酸化合物溶液を提供することを課題とする。
【解決手段】ホウ酸化合物をアルコキシシラン化合物及び加水分解可能な有機金属化合物と反応させることにより前記ホウ酸化合物を溶解することを特徴とする。好ましくは、前記アルコキシシラン化合物と前記加水分解可能な有機金属化合物を溶解する有機溶剤を含有させる。 (もっと読む)


【課題】精製時間が短縮されたハライド化合物と塩とを分離するハライド化合物の精製方法を提供する。
【解決手段】溶媒とハライド化合物と塩とを含有する混合溶液を加熱することにより、該塩を析出させ、ハライド化合物と該塩とを分離するハライド化合物の精製方法。とりわけ、下記一般式(1)で表されるハライド化合物の上記精製方法。


式中、Aは第16族の原子を、Eは第14族の原子を、Gはハロゲン原子を表す。 (もっと読む)


ビスアミノシラシクロブタンと、窒素供給ガス、酸素供給ガスおよびこれらの混合物から選択した原料ガスとの反応ガス混合物の熱重合によるシリコン含有薄膜の生成方法。堆積膜は窒化ケイ素、炭窒化ケイ素、二酸化ケイ素または炭素ドープ二酸化ケイ素であってもよい。これら膜は、半導体デバイスにおける誘電体、不動態化膜、バリア膜、スペーサ、ライナおよび/またはストレッサとして有用である。
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本発明は、一般式(I)R2N[(CH22NH]z(Z)Si(R'')n(OR')3-n(Ia)のアミノ官能性オルガノシランの製造からのハロゲン化アンモニウムおよび/または有機アミンハロゲン化水素酸塩を含有する残留物を−前記残留物に、本質的に非極性の有機溶媒および苛性アルカリ水溶液を加え−反応させ、引き続き水相を有機相から分離し−前記有機相から前記有機溶媒を除去し、かつ−残留する有機相を回収することによって後処理する方法に関し、その際、式(Ia)に従った前記アミノ官能性オルガノシランの製造は、一般式(II)X−Z−Si(R'')n(OR')3-n(II)のハロゲン官能性オルガノシランと過剰のアンモニアまたは一般式(III)RNH[(CH22NH]zR(III)の有機アミンとの反応および引き続く分離ならびに粗生成物および発生する塩含有残留物の後処理に基づく。 (もっと読む)


【課題】基体表面に極性官能基を、効率良く、且つ経済的に導入可能な、o−ニトロベンジル基含有シラザン化合物、その製造方法、該シラザン化合物を利用した表面修飾剤、該表面修飾剤を用いた、特定の極性官能基を所望箇所に発現させた表面修飾材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】例えば下記反応式により製造されるo−ニトロベンジル基含有シラザン化合物は上記特性を有する。


(HMDSはヘキサメチルジシラザンを意味する) (もっと読む)


本発明は、オルガノシランならびに少なくとも1つの極性有機化合物および/または少なくとも1つの異種金属および/または異種金属を含有する化合物を含有する組成物の処理方法であって、その際、前記組成物を、少なくとも1つの吸着剤と接触させ、前記有機極性化合物および/または前記異種金属および/または前記異種金属を含有する化合物の含有量が減少されている前記組成物を引き続き取得する方法ならびに前記極性有機化合物および/または前記異種金属の含有量が微量に減少されている相応する組成物、同様に上記化合物を軽減させるための有機樹脂、活性炭、シリケートおよび/またはゼオライトの使用に関する。 (もっと読む)


式P−Y−Sp−Si(R2n(OSiR13(3-n) (I)の高純度の重合性シリコーンの製造方法であって、(a)式(R13SiOSi(R13 (II)のジシロキサン(1)を、酢酸(2)、硫酸(3)、および場合により酸性触媒(4)の存在下に装入し、(b)−20℃〜0℃の温度で、式P−Y−Sp−Si(R2n(OR3(3-n) (III)の置換されたアルコキシシラン(5)を計量供給し、(c)相分離の後で、酸性相(下相)を分離し、(d)アルコキシシラン(5)1モルに対して、0.02〜1.0モルのヘキサメチルジシラザン(6)を添加し、(e)生じた塩を濾別した後で、易揮発性成分を除去し、かつ生成物を蒸留し、かつ場合により(f)引き続き生成物を濾過する[上記の式中で、Spは、単結合を表すか、または1〜8個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を表し、Yは、単結合または−O−を表し、Pは、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基、ビニル基またはアリル基を表し、nは、0、1または2であり、R1およびR2は、それぞれ1〜18個の炭素原子を有し、置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、かつR3は、1〜8個の炭素原子を有し、アルコキシ基により置換されていてもよいアルキル基を表す]高純度の重合性シリコーンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】窒素含有オルガノシラン又は酸素含有オルガノシランを、酸により触媒される侵食から安定化させ、そして生ずる分解を妨ぐための方法の提供。
【解決手段】製品の分解の影響を受けやすい、少なくとも一つのSi−H又はN−H基を有する窒素含有オルガノシランを、(a)残余のアニオン又は金属カチオンを除去するための弱塩基性イオン交換媒体と接触させる段階、(b)前記オルガノシランを前記弱塩基性イオン交換樹脂から分離する段階、(c)前記オルガノシランを蒸留する段階よりなる処理を施す。上記Si−H基を侵食するアニオン又は酸が排出され、この分解が妨げられる。これらのアニオンに低濃度で曝露しても、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素及び窒化ケイ素膜の使用に関する半導体の加工において、重大な分解を生じ、そして製品安定性及び長期間の有効期間に重大な影響が生じうる。 (もっと読む)


本願は、アルコキシシランに残存するハロゲン化物含有量を低減するための方法を開示する。前記方法は、残存するハロゲン化物含有量を有するアルコキシシランを、活性炭と接触させて、その後にアルコキシシランを分離する工程を含む。結果として得られる物質は、他の化合物の調製のための中間体として有用であり、電子工学的用途における使用のためにも有用である。 (もっと読む)


本発明は、式(I)及び(I’)のシクロペンタジエニル誘導体の再生利用方法、用いる式(I)、(I’)、又は(II)のシクロペンタジエニル誘導体が少なくとも部分的に液−固クロマトグラフィーを用いて回収及び精製されたものである、式(I)及び(I’)のシクロペンタジエニル誘導体、或いは式(II)の橋架ビスシクロペンタジエニル誘導体から式(III)のメタロセンを製造する方法、並びに式(I)、(I’)、又は(II)の回収された置換シクロペンタジエニル誘導体を精製するための液−固クロマトグラフィーの使用に関する。 (もっと読む)


【課題】有機金属化合物に不純物として含まれる副生成物を低減できる。
【解決手段】副生成物を不純物として含む有機金属化合物を有機溶媒に溶解して第1溶解液を調製し、第1溶解液の溶媒と同一種類の溶媒を第1移動相として第1分離カラムに通過させ、第1移動相の通過に随伴して第1溶解液を第1分離カラムに供給して第1溶解液中の化合物成分を分子量の大きさごとに分離し、分離した各成分を分取する。分取した成分のうち、その分子量が有機金属化合物に相当する成分を濃縮乾燥する。得られた固形分を第1溶解液の溶媒と同一又は異なる種類の溶媒に溶解して第2溶解液を調製し、第2溶解液の溶媒と同一種類の溶媒を第2移動相として第2分離カラムに通過させ、第2移動相の通過に随伴して第2溶解液を酸素ガスとともに第2分離カラムに供給して第2溶解液中に含まれる化合物成分を分子量の大きさごとに分離し、分離した各成分を分取する。 (もっと読む)


【課題】 純度の高い前記式(c)および/または(c’)で表されるシリコーン化合物の精製方法を提供することを目的と、また、該化合物を主剤とするシリコーン剤の提供を目的とする。
【解決手段】 下記式(c)および/または(c’)
【化1】


で表されるシリコーン化合物を合成する工程、該化合物の粗体に対して重量比で2倍以上のシリカゲルを用いたカラムに該化合物の粗体を通じて精製する精製工程を有することを特徴とするシリコーン化合物の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】 半導体製造における成膜原料として有用なトリメチルシランの精製方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも酸化銅(II)および酸化亜鉛を混合固化させた活性炭を用いてトリメチルシラン中のシラン、メチルシラン、ジメチルシランを吸着除去する。 (もっと読む)


本発明の対象は、オルガノクロロシランの含有量に対して200ppmを上回るAlCl含有量を有する、オルガノクロロシランを含有した化合物混合物(V1)からAlClを分離するための方法において、化合物混合物(V1)を、オルガノクロロシランから選択したかまたはクロロメタンとオルガノクロロシランとから成る混合物から選択した化合物(V2)で希釈し、これによって、15%未満の固体を有すると同時に、1013hPaで71℃を上回る沸点を有する成分の濃度が25%未満である生成物流(P)を生ぜしめ、該生成物流(P)を蒸発ユニットにおいて165℃未満の温度で、揮発性の化合物(FV)と、AlCl含有の固体(F)とに分離することを特徴とする方法(この場合、全ての濃度表示が、質量に対するものである)である。 (もっと読む)


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