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Fターム[4H050BB11]の内容

Fターム[4H050BB11]に分類される特許

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【課題】 前駆体であるハロゲン化イミノホスファゼニウムを単離することなく、塩基性イミノホスファゼニウム塩含有溶液を製造する方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも、不活性ガス雰囲気下、非水溶性溶媒中で、五ハロゲン化リンとグアニジン誘導体を反応し、ハロゲン化イミノホスファゼニウムを製造する工程、得られた反応液に水性媒体を添加し油水分離を行い、得られた水相にさらにハロゲン化溶媒を添加し油水分離を行い、反応生成物をハロゲン化溶媒で抽出した溶液とする工程、得られた溶液のハロゲン溶媒を溶解度パラメータ10〜15(cal/cm1/2を有する溶媒で置換した溶液とする工程、得られた溶液にアルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物を添加し、副生ハロゲン化アルカリ金属塩又はハロゲン化アルカリ土類金属塩を除去し、塩基性イミノホスファゼニウム塩含有溶液とする工程、を経てなる塩基性イミノホスファゼニウム塩含有溶液の製造方法。 (もっと読む)


【課題】アルファ−オレフィンの選択的生成のためのプレ触媒の合成とエチレンオリゴマー化反応におけるかかるプレ触媒の使用によるクロム及びニッケルオリゴマー化触媒を提供する。
【解決手段】周期表第6族及び第10族遷移金属化合物、特にクロム(III)及びニッケル(II)を含む多座配位子を含有する配位化合物の調製及び使用。かかる触媒前駆体は、アルファ−オレフィンの生成に高い触媒活性及び選択性を示す。 (もっと読む)


【課題】分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体等の製造用の高活性触媒成分およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(A)で表される金属錯体、およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法。


[式中、Mは、周期律表の9族、10族または11族に属する遷移金属を表す。Rは、炭素数1〜20の炭化水素基等を表す。Lは、Mに配位したリガンドを表す。Xは、酸素または硫黄を表す。Eは、リン、砒素またはアンチモンを表す。R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜40の炭化水素基等を表し、R10、R11及びR12、R13は、それぞれ独立に、炭素数1〜30の炭化水素基等を表す。] (もっと読む)


【課題】エチレンの三量化反応により1−ヘキセンを製造することが可能な触媒成分となる新規な遷移金属錯体を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される遷移金属錯体等。


(式中、Mは元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を表し、X〜X及びR19は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子を有しても炭素原子数1〜20のアルコキシ基、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数6〜20のアリール基等である。) (もっと読む)


【課題】 簡便な方法で製造することができ、各種有機溶剤に対する溶解性と安定性に優れ、エポキシ化合物と二酸化炭素を開環共重合するための触媒等としても有用な、新規亜鉛アルコキシ錯体を提供する。
【解決手段】下記式(3)で表される亜鉛アルコキシ錯体。
Zn(OR) (3)
[式中、Mは周期表第13族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、Lはβ−ジケト化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を表し、Rは炭素数が2〜20の無置換の又は置換基を有するアルキル基(但し、イソプロピル基を除く。)を表す。xは1.5〜3の範囲の数、y及びzは各々独立して4〜9の範囲の数を表す。] (もっと読む)


【課題】簡便な操作により高収率かつ高純度で、工業的に有利である、α−カルボニルホスホランの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(II)で表されるα−カルボニルホスホニウム塩の水溶液に、塩基を作用させることにより下記一般式(I)で表されるα−カルボニルホスホランを合成する反応において、あらかじめ非水溶性の有機溶媒を加えて反応を行うことにより、α−カルボニルホスホランの結晶を容易に析出させる。


(式中、Arは、置換していてもよいアリール基を示し、Rは、水素原子、置換していてもよいアルキル基または置換していてもよいアリール基を示し、Rは、置換していてもよいアルキル基または置換していてもよいアリール基を示し、Xは、カウンターアニオンを示す。) (もっと読む)


【課題】人工触媒を用いたエステルの不斉加水分解方法を提供する。
【解決手段】下式(Ia)で表される四級アンモニウム塩を触媒として、常圧下、−60℃〜50℃で、塩基性水溶液または金属水酸化物の存在下に非水溶性溶媒中で加水分解するエステルの不斉加水分解方法。


(式中、R1は水素原子等を表し、R2はアリール基等を表し、R3は水素原子等を表し、R4は水素原子等を表し、R5は低級アルキル基等を表し、X-はハロゲン原子等を表し、kは1または2の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】アルキルホスフェートを調製するための方法を提供する。
【解決手段】本発明は、テトラクロロビスホスフェートをアルコールと反応させ、塩基を用いて生成した塩化水素を中和し、そしてその反応混合物から抽出によって所望の反応生成物を単離することによる、テトラアルキルビスホスフェートを調製するための方法に関する。 (もっと読む)


【課題】配位子や求核触媒等として有用なイソキノリン誘導体を、光学分割の工程を経ることなく簡易な方法で製造できるイソキノリン誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】一般式(1)で表される化合物と、一般式(2)で表される化合物と、をロジウム金属及び光学活性ビスホスフィンを含む触媒の存在下で反応させて一般式(3)で表される軸不斉イソキノリン誘導体を得る工程。〔Q:=N−など、Z:Oなど]。
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【課題】特定の構造で示される金属錯体を短時間で、高収率で得ることができ、且つ、通常の反応容器を使用して引火性の高くない有機溶剤で生産できる製造方法を提供する。
【解決手段】金属塩(A)、グリオキシム及び置換グリオキシム化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(B)並びにハロゲン化ホウ素(C)を、20℃における誘電率が1.8〜4.0の有機溶剤を含有する有機溶媒の存在下で反応させて得る、特定の構造で表される金属錯体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 ハロゲンイオンを実質含まないホスホニウム・BF4塩の簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有するホスホニウム塩の製造方法であって、トリアルキルホスフィンに、ホルムアルデヒドジアルキルアセタールと三フッ化ホウ素又はその錯体とを反応させることを特徴とするホスホニウム塩の製造方法。トリアルキルホスフィンとしては、炭素数1〜8のアルキル基が置換したトリアルキルホスフィンが挙げられ、ホルムアルデヒドジアルキルアセタールとしては、アルキルの炭素数が1〜4のホルムアルデヒドジメチルアセタールが挙げられる。 (もっと読む)


【課題】本発明は工業化生産に適するロスバスタチンカルシウム中間生成物の調製方法を提供する。この方法は簡単で、コントロールし易く、収率が高く、純度が良く、コストが相対的に低い。
【解決手段】


式Iに示されているロスバスタチンカルシウム中間生成物の調製方法は次のとおりである。a)クロロエチレンやマンガン及びR-エポキシクロロプロパンのグリニャール反応を行わせ、b)シアン化ナトリウムを入れて求核置換反応を行わせ、c)アルコールを入れて加アルコール分解反応を行わせ、d)アルカリ性溶剤を入れてハイドロキシ基を保護し、e)混合物に対しる酸化反応を行わせ、f)トリフェニルホスファンを入れるとともにアルカリの存在する条件でWittig反応を行わせることによって、式Iの化合物が得られる。本発明の方法は穏やかで、操作が簡単で、プロセスが安定であるので、工業化の大規模生産に適している。 (もっと読む)



本発明は、ルテニウム−アルキリデン錯体を、オレフィン誘導体と、リガンド(すなわち、ホスフィンまたはアミン)スカベンジャーとして作用するポリマー担持カチオン樹脂(PSR)を存在させて、反応させることにより、交差メタセシス反応において、キレート化アルキリデンリガンドを備えたルテニウムベースのカルベン触媒(いわゆる「ホベイダタイプの触媒」)を製造する方法に関する。好ましくは、ペンタ配位ルテニウムベンジリデンまたはインデリデンカルベン錯体を用いる。ポリマー担持カチオン交換樹脂(PSR)は、酸性樹脂(スルホン酸またはカルボン酸基を含む)またはカルボン酸塩化物(−COCl)基または塩化スルホニル(−SOCl)基を含有する樹脂であってよい。この方法は、汎用的で、環境にやさしく、高い収率が得られる。 (もっと読む)


【課題】少なくとも約30日間、希土類トリス(有機リン酸塩)が沈殿しないで安定である希土類トリス(有機リン酸塩)および炭化水素溶媒を含む溶液を提供する。
【解決手段】希土類トリス(有機リン酸塩)溶液であり:
a)希土類トリス(有機リン酸塩);
b)炭化水素溶媒;
c)水;ならびに
d)安定化添加剤、を含み、
希土類元素に対する水のモル比が約2以下であり、そして希土類元素に対する安定化添加剤のモル比が約5以下である溶液。 (もっと読む)


本発明は、主要触媒成分としてクロムを含む脱過酸化触媒の製造方法に関する。より詳細には、本発明は、クロム酸エステルの有機溶液の調製方法に関し、この溶液は、シクロヘキサンを酸化することによってシクロヘキサノール/シクロヘキサノンを製造するための方法において過酸化アルキルの脱過酸化工程における触媒として用いられる。 (もっと読む)


【課題】高温条件においてもエチレンの三量化反応により1−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる遷移金属錯体を提供すること。
【解決手段】一般式(1)で表される遷移金属錯体。前記遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分。前記三量化用触媒を用いた1−ヘキセンの製造方法。オレフィン重合用触媒成分と、一般式(1)で表される遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分と、活性化助触媒成分とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンを重合するエチレン系重合体の製造方法。
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【課題】従来の金属錯体を触媒とする製造方法では、メチルアセチレン等のアセチレン化合物を原料とした場合、パラジウム原子などの金属原子1モルあたり、アルキルメタクリレートの生成量が必ずしも十分満足できるものではなかった。
【解決手段】式(1)


[式中、Rは直鎖アルキル基、アルコキシ基等を表す。R、R、R及びRはアルキル基等を表す。R及びRは水素原子、アルキル基、アルコキシ基等を表す。]
で示されるピリジルホスフィン化合物と周期表第10族に属する金属原子とを有することを特徴とする金属錯体。 (もっと読む)


有機金属柔軟塩化合物を提供する。特に、これらの化合物は、単核Ir系柔軟塩を含む。これらの化合物は、有機発光ダイオード(OLED)及び発光セル(LEC)に用いることができる。
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【課題】簡便で、安全かつコストの低いルテニウムおよびオスミウムカルベン触媒の合成法を提供する。
【解決手段】次式


の化合物を式R17C≡CCR12R13R'の化合物と接触させ、次いで、式HXの化合物を加える工程を含んでなる式(X)(X1)(L)(L1)M=C(R17)(CH2CR12R13R')の化合物の合成法。合成の容易さ(典型的にはワンステップ合成)に加えて、この反応は一般に室温またはそれ以上で進行し、しかも、得られる生成物は通常、十分な合成後精製を行うことなく使用することができる。 (もっと読む)


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