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Fターム[4J011CC10]の内容

重合方法(一般) (57,023) | 含浸又は基体表面上における重合(方法、操作) (559) | 波動エネルギー又粒子線の照射 (244)

Fターム[4J011CC10]に分類される特許

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【課題】離型力が小さく、発泡による欠陥が少なく、かつ生産性に優れた膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に、重合性モノマーと、光刺激によりガスを発生する感光性ガス発生剤と、を含む光硬化性組成物を塗布して塗布膜(被形状転写層1)を形成する工程と、前記塗布膜にモールド3を接触させる工程と、モールド3を介して前記塗布膜に光を照射して前記塗布膜を硬化させると共に前記塗布膜内にガスを発生させる工程と、前記塗布膜に光を照射した後、前記塗布膜からモールド3を離し、基板2上に所定のパターン形状を有する膜(硬化膜11)を形成する工程と、を含み、前記塗布膜に光を照射する工程において、前記塗布膜に含まれる重合性モノマーの重合反応の反応速度が、前記塗布膜に含まれる感光性ガス発生剤のガス発生反応の反応速度よりも速いことを特徴とする、膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ディフェクトの発生が低減され、リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の製造方法、並びに当該高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、−SO−含有環式基を含むモノマーと、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含むモノマーとを共重合して高分子化合物(但し、該高分子化合物は露光により酸を発生するモノマーから誘導される構成単位を含まない)を製造する方法であって、前記共重合を、前記−SO−含有環式基を含むモノマーに対して、0.001〜1.0モル%の塩基性化合物の存在下で行うことを特徴とする高分子化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】インプリント法によるパターン形成後の被膜の、モールドへの付着を抑制する。
【解決手段】炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を含む成分、及び重合開始剤を含み、炭素−炭素不飽和結合を有する化合物として、炭素−炭素不飽和結合のほか、アルコキシ基が結合しないケイ素原子を有するケイ素化合物を含む被膜形成材料2が提供される。このような被膜形成材料2を基板1上に形成し、モールド3を押し当て、モールド3の反転パターン3bを転写した被膜2aを形成し、モールド3を被膜2aから引き離す(離型)。上記ケイ素化合物を含む被膜形成材料2を用いることで、離型の際、モールド3への被膜2aの付着が抑制される。 (もっと読む)


【課題】短い立ち上がり時間(電界が印加されたとき)及び短い立下り時間(電界が取り除かれたときに初期の電界オフ状態に緩和されるための時間)を可能にするように配列されてなる、液晶デバイスを提供する。
【解決手段】第一基板10と、第二基板11と、第一基板及び第二基板にはさまれた液晶層12であって、ネマスチック液晶材料及びポリマーネットワークを含む液晶層とを含む。ポリマーネットワークは、第一基板に係留され、かつ第一基板と平行な線に沿うネマチック液晶材料のスプレイ変形及びベンド変形を交互に誘導するように配列される。 (もっと読む)


【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント材料。(A)成分:特定の式で表されるビフェニル(メタ)アクリレート。(B)成分:下記式(2)で表されるフルオレン(メタ)アクリレート及び/又は特定の式で表されるビスフェノール(メタ)アクリレート。


(式中、R及びRは互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、A及びAは互いに独立して炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、m及びnは互いに独立して0乃至3の整数を表す。)(C)成分:光重合開始剤。 (もっと読む)


【課題】皮膜の硬化速度(乾燥性)、および皮膜強度に優れたトリメリット酸トリアリル重合体を含有する光硬化性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
重量平均分子量が30,000〜5,000,000であるトリメリット酸トリアリル重合体とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有することを特徴とする光照射により硬化可能な光硬化性樹脂組成物、並びにその樹脂組成物を含有するインキ、および塗料を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、短時間で効率良く、(メタ)アクリル酸エステルを製造するための製造方法を提供する
【解決手段】多価アルコールを酸触媒と重合禁止剤とが共存する反応系に、マイクロ波を照射して加熱して(メタ)アクリル酸エステル化反応させることを特徴とする(メタ)アクリル酸エステルの製造方法。マイクロ波照射による製造方法により、プラスチック基材に対する密着性が良好な当該アクリル酸エステルの製造を可能にするものである。 (もっと読む)


【課題】均質な、モノマーおよび溶剤を含まない、UV/EB硬化可能な水性配合物であって、高い耐溶剤性を提供し、軽度の臭気および/または少量の抽出可能な成分を有する配合物の提供。
【解決手段】少なくとも1つのアルファ,ベータ−エチレン性不飽和の放射線重合可能な二重結合を有する水溶性化合物、および水を本質的な成分として含む、化学線硬化可能な均質な水性組成物から、耐溶剤性の抽出可能物質の少ないフィルムを製造する方法。 (もっと読む)


【課題】プラスチック基板上に硬化エネルギー放射線によりイメージ通りに硬化ポリマーを形成する方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板上にコートされる光硬化可能なポリマー組成物における形体のフォトリソグラフィックパターニングのための方法であって、プラスチック基板は、金属製障壁のような反射膜でコートされる。また、プラスチック基板は、光硬化放射線を吸収する添加剤を含むポリマー障壁層でコートされるか又は同時押し出し成形される。さらに、プラスチック基板は、光硬化放射線を吸収する内在性添加剤を含む。これらの組み合わせもまた含まれる。プラスチック基板上に支持される光硬化可能なポリマーを含むいずれの素子又は目的物の製造にも適用できるが、プラスチック基板上に支持される光硬化可能なポリマーを含む光導波路の製造に有利に適用されてもよい。 (もっと読む)


【課題】所定の領域にレジストパターンを安定的に精度よく形成できる電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、レジストパターンを有する電子部品1の製造方法である。本発明に係る電子部品1の製造方法は、基板2上に、第1のレジスト材料3をインクジェット装置11から部分的に吐出してパターン状に描画し、第1のレジスト材料3を配置する工程と、基板2上の第1のレジスト材料3と少なくとも一部が接触するように、基板2上に、第2のレジスト材料4をインクジェット装置12から部分的に吐出してパターン状に描画し、第1のレジスト材料3と第2のレジスト材料4とによりレジスト層5を形成する工程と、レジスト層5を硬化させて、レジストパターン(硬化したレジスト層5A)を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板への塗布性が良好で均一な膜厚が得られ、パターン成形したときには未露光部における残渣が抑制され、露光・現像でのステップが小さく、パターン形状が良好な重合性組成物を提供する。
【解決手段】(A)チタンブラックと(B)グラフト共重合体と(C)溶媒とを含む分散組成物、(D)重合性化合物、及び(E)オキシム系重合開始剤を含む重合性組成物である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、活性エネルギー硬化性化合物とオレフィン系重合体とビニル系重合体を有するブロック共重合体を含有する樹脂組成物のポリオレフィン基材に対する付着性を改善する硬化方法を提供することを目的にする。
【解決手段】ポリオレフィン系基材上に設けた、オレフィン系単量体単位から主としてなる重合体ブロック(A)と、カルボキシル基、無水カルボン酸基またはスルホン酸基を有するビニル系単量体の単位2〜100モル%および該ビニル系単量体と共重合可能な他のビニル系単量体の単位98〜0モル%からなる重合体ブロック(B)とから構成される重量平均分子量が5000〜100000であるブロック共重合体(C)と活性エネルギー線硬化性化合物(D)を含有する樹脂組成物の硬化方法において、該樹脂組成物が40℃以上の雰囲気で乾燥後、活性エネルギー線照射されることを特徴とする樹脂組成物の硬化方法。 (もっと読む)


【課題】金属材料等の異種材料が接合した重合体ゲルの製造方法等を提供すること。
【解決手段】本発明の製造方法は、金属材料、金属酸化物材料、及びプラスチック材料からなる群より選択される少なくとも一種の材料からなる構造体が付着した基体を重合体ゲルに対して、当該構造体と重合体ゲルとが接触するように配置する配置工程と、次いで、上記基体と重合体ゲルとを離す離間工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】透明性及び高温における熱寸法安定性に優れ簡易な製造工程を用いて製造することが可能な、透明積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルムの両面に硬化性樹脂組成物の硬化層を積層した構成の積層フィルムであって、温度200℃における積層フィルムの縦方向の動的粘弾性測定による貯蔵弾性率(E´)が、同条件における基材フィルムの貯蔵弾性率(E´)よりも大きく、かつ積層フィルムの全光線透過率が80%以上であることを特徴とする、透明積層フィルムとする。 (もっと読む)


【課題】塗膜の高密着性及び高透明性を損なうことなく、優れた表面保護機能を発現する硬化膜を与える感光性組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和結合含有基(x)を有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステル及びピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエステル化合物(A)、重合開始剤(C)、並びに必要により、ウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(B)と活性エネルギー線により酸を発生する酸発生剤(D)の少なくとも一方を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型感光性組成物。前記エチレン性不飽和結合含有基(x)は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、1−プロペニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 タッチペンでの押圧により発生するキズを防止し、指紋の付着跡が目立たないフィルムを提供する。
【解決手段】 (a)多官能(メタ)アクリレートと、(b)幹がアクリル樹脂からなる枝状ポリマーと、(c)希釈溶剤を含有する紫外線硬化型樹脂組成物において、レベリング剤を含まず、希釈溶剤は沸点の異なる溶剤を併用する。希釈溶剤は、低沸点(100℃以下)溶剤、中沸点(101℃〜120℃)溶剤、高沸点(121℃以上)溶剤からなる群から選ばれる、少なくとも二種を用いる。 (もっと読む)


【課題】シリコーン系樹脂を使用しなくても成形精度に優れ、硬度が高く、良好な外観を有する成形体を製造する際に好適に使用することができる成形材料、前記成形材料から形成された樹脂フィルム、ならびに原料として前記成形材料が用いられた成形体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】成形体を製造する際に原料として用いられる成形材料であって、(メタ)アクリル系樹脂エマルション、多官能(メタ)アクリル酸エステルおよび重合開始剤を含有することを特徴とする成形材料、前記成形材料から形成された樹脂フィルム、ならびに基材上に成形材料層が形成されてなる成形体であって、前記成形材料層が前記成形材料から形成された成形体およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】時計用コイルの製造において、経時的に剥離するテープを使用することなく、個々の部品の面取りをコストをかけてすることなく、簡便な時計用コイル巻芯の絶縁膜形成キットとこれを用いた絶縁膜形成方法および時計を提供する。
【解決手段】(C)少なくとも(メタ)アクリレート基とシラノール基からなるシランカップリング剤を有する前処理液と、(A)少なくとも 融点が30℃以上の光開始剤と、融点が30℃以上の(メタ)アクリレートを含有する塗布剤と、(B)少なくとも 融点が20℃以下の(メタ)アクリレートを含有する重合液とからなることを特徴とするコイル巻芯の絶縁膜形成キットを用いる。 (もっと読む)


【課題】十分な解像度及び感度を有する感放射線性樹脂組成物、並びに圧縮性能、透過率、耐光性、電圧保持率、現像耐性、耐熱性及び耐溶媒性に優れる表示素子用硬化膜を提供する。
【解決手段】[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[C]カルバゾール基を有する特定のオキシム光重合開始剤、並びに[D]ヒンダードフェノール構造を含む化合物、ヒンダードアミン構造を含む化合物、ホスファイト構造を含む化合物及びチオエーテル構造を含む化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有し、[C]光重合開始剤の含有量が、[A]アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1質量部以上5質量部以下である感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】屈折率が大きく、光学基体上に成膜した場合には反射防止膜等としての機能を奏する光学膜を得る。
【解決手段】(A)分子内に3以上の(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物を1から10質量%、(B)金属酸化物微粒子を3から30質量%、(C)重合開始剤を0.05から1質量%、(D)希釈剤を60から96質量%が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって硬化させた光学膜。 (もっと読む)


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