【課題】従来の様に未反応の化合物による配向不良や、経済的に不利になる添加剤を多く添加することなく、強酸性物質を生成するカチオン重合開始剤を添加することなく、熱衝撃が加わってもクラックを生じない液晶（エンド）シール剤およびこれを用いた液晶パネルを提供する。
【解決手段】
少なくとも（A）ビスフェノールF（A)型エポキシ樹脂のジ（メタ）アクリレートと、（B）ビスフェノールF(A)のエチレン（プロピレン）オキサイド付加物のジ(メタ）アクリレートと、（C）ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ）アクリレートから選ばれる1種以上の(メタ）アクリレートと（D）光重合開始剤（ビス（２，４，６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド）、2-ヒドロキシ−２メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを液晶（エンド）シール剤に用いて液晶パネルを作ることでできる。 （もっと読む）

【課題】硬化性に優れた硬化物の提供。
【解決手段】（Ａ）窒素カチオンを有するオニウム塩と（Ｂ）硬化性化合物を含有する組成物にプラズマを照射することを含む、硬化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜性に優れた光学フィルム製造用の組成物及び該組成物から形成される光学フィルムの提供。
【解決手段】以下の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む組成物、及び該組成物から形成される光学フィルム。（Ａ）式（Ａ）で表される化合物


［式中、Ｙ^１は芳香族複素環式基などを表す。Ｄ^１及びＤ^２は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−などを表す。Ｇ^１及びＧ^２は脂環式炭化水素基などを表す。Ｌ^１及びＬ^２のうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。］（Ｂ）メルカプト基を有する化合物。（Ｃ）光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】粘度及びパターニング特性の経時安定性に優れた着色感光性樹脂組成物、該着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタ、及びカラーフィルタを備える表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る着色感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、無機顔料、及び溶剤を含有し、上記溶剤がアミド構造を有する溶剤を含む。アミド構造を有する溶剤は下記式で表されるものが好ましい。式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を示し、ｎは１〜３の整数を示す。
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【課題】 本願発明の目的は、高分子アクチュエーターとして使用されるイオン性液体と高分子の複合体において、短時間で製造可能で生産性が良く、イオン性液体と高分子の相分離構造を再現性良く制御可能であり、かつ電極層との界面における接着性の確保可能な複合体を提供することにある。
【解決手段】 本願発明は、イオン性液体と高分子を含有する複合体において、イオン性液体とモノマーを含有する組成物の活性エネルギー線の硬化物であることを特徴とする複合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】犠牲層を用いずに、タガント粒子として用いられる偽造防止用樹脂粒子を製造する。
【解決手段】拡大して観察されることで識別可能である偽造防止用樹脂粒子の製造方法において、基材上のネガ型感光性樹脂層を露光し、前記ネガ型感光性樹脂層内に所定パターンの潜像を形成する露光工程と、前記ネガ型感光性樹脂層を現像して未露光部分を除去し、前記潜像に対応する形状の、前記ネガ型感光性樹脂層の露光部分を、樹脂粒子として前記基材から剥離する剥離工程と、を具備することを特徴とする偽造防止用樹脂粒子の製造方法である。前記露光工程において、前記潜像が、前記基材と接触していないことを特徴とする。また、前記露光工程において、階調マスクを用いて露光することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬化性に優れる重合性組成物並びに透明性及び耐熱性に優れる硬化物を提供すること。
【解決手段】光重合開始剤としてアシルホスフィン系光重合開始剤、好ましくは、モノアシルホスフィンオキサイド系化合物又はビスアシルホスフィン系化合物を、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物、好ましくは、一般式（II）で表わされる化合物に含有させた重合性組成物或いはこれを重合させて得られる硬化物を用いる。必要に応じ、上記重合性組成物に、光学活性化合物、好ましくは、一般式（III）又は（IV）で表わされる化合物を含有させる。一般式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の具体的内容は明細書に記載の通りである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、厚膜でありながら高解像度であり、ガラス基板との密着性が良好であり、アルカリ現像液への溶解性と電圧保持率特性に優れ、さらに現像性、特に良好なプロファイル角のパターンを形成できる感光性着色組成物の提供を目的とする。
【解決手段】着色剤（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）とを含む感光性着色組成物であって、前記モノマー（Ｃ）が、少なくとも酸性基を有する多官能モノマー（Ｃ１）を含み、前記モノマー（Ｃ）が、感光性着色組成物の不揮発分１００重量％中、２０〜５０重量％であり、前記光重合開始剤（Ｄ）を、アセトフェノン系化合物およびアシルフォスフィンオキサイド系化合物を、アセトフェノン系化合物／アシルフォスフィンオキサイド系化合物＝６０／４０〜９０／１０の比率で含む感光性着色組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、耐薬品性および接着性に優れた良好な光硬化性を有する光重合性組成物を与えることを課題とする。さらに前記した耐薬品性や接着性に加え、解像力およびクリーナー液耐性に優れ、紫外線硬化インクを用いた場合にも耐刷性の良好である感光性平版印刷版材料を与えること。
【解決手段】マレイミド基を有する架橋微粒子（Ａ）と、分子内に重合性二重結合基を２個以上有する化合物（Ｂ）を含む光重合性組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（４）を含有する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、
（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、
（３）重合性物質（Ｄ）、
（４）重合性基を有する着色剤（Ｅ）、重合性基を有する金属酸化物粉末（Ｆ）、重合性基を有する金属粉末（Ｇ）及び重合性基を有するケイ素酸化物粉末（Ｊ）からなる群から選ばれる少なくとも１種。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、膜の硬度が高く、基材や下地などとの密着性が良好であり、誘電率や誘電正接といった電気特性に優れ、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い硬化膜を得ることが出来る感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、酸化防止剤（Ｃ）と、光重合性モノマー（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が、（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）を共重合させて共重合体（ａ６）を得て、得られた共重合体（ａ６）と（ａ４）とを反応させて共重合体（ａ７）を得て、更に得られた共重合体（ａ７）と（ａ５）とを反応させて得られる樹脂（Ａ１）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】水や溶剤を使用せずに得られる無溶剤型組成物であって、加熱工程が不要であり、接着性能優れ、しかも接着力の経時変化がなく、さらに再剥離性に優れる活性エネルギー線硬化性組成物、及び当該組成物から得られる粘着剤の提供。
【解決手段】光架橋性の官能基を有する重合体であって、ベンゾフェノン骨格を有する光架橋性の官能基を１〜１００ｍｍｅｑ／ｇ有する重合体（Ａ）及び分子量が３００以下で１個のエチレン性不飽和を有する化合物（Ｂ）を含有する組成物であって、組成物中に（Ａ）成分を５〜６０重量％及び（Ｂ）成分を３０〜９４．９重量％を含有する活性エネルギー線硬化型組成物。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線照射で硬化し、塗膜の高密着性、高透明性を損なうことなく、優れた表面保護機能を発現する硬化膜を与えるハードコート用組成物を提供する。
【解決手段】水酸基を１つ以上有する１官能（メタ）アクリレート（Ａ）、ビニルエーテル基及び／又はアリルエーテル基を有し、水酸基を有さない１官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、水酸基を１つ以上有する３官能以上の（メタ）アクリレート（Ｃ）並びに重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型ハードコート用組成物。前記水酸基を１つ以上有する１官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、炭素数２〜８０の脂肪族若しくは脂環式多価アルコールのモノ（メタ）アクリレートである組成物。 （もっと読む）

【課題】高い耐指紋性を有すると共に耐久性にも優れた塗膜を形成するための光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る光硬化性組成物は、（Ａ）１分子あたり５個以上のアクリル基を有する光重合性多官能化合物、（Ｂ）ポリアルキレンオキシド基とポリアルキル基とのうちいずれかを有する親油性樹脂、（Ｃ）光重合性モノマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を含む。前記（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して、前記（Ａ）成分の割合が５０〜９０質量部、前記（Ｂ）成分の割合が１〜２０質量部、前記（Ｃ）成分の割合が８〜４８質量部である。不揮発性成分の粘度は５０００ｍＰａ・ｓ（２５℃時）以下である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの難接着性有機高分子材料であるポリオレフィンと、まったく性質の異なる鉄、アルミニウム合金などの金属とを強固に接着する紫外線硬化型接着剤として使用可能なアクリル樹脂組成物を得ることを課題とする。ことを課題とする。また、本発明は、塗膜が自己修復性に優れるため、耐傷つき性が良好で、指紋痕が残らない自己修復性塗料として使用可能なアクリル樹脂組成物を得ることを課題とする。
【解決手段】
本発明は、塩素化ポリオレフィン（Ａ）３５〜６０重量％、アクリル単量体混合物（Ｂ）４０〜６５重量％を含み（塩素化ポリオレフィン（Ａ）とアクリル単量体混合物（Ｂ）の合計量は１００重量％である）、さらに、光重合開始剤（Ｃ）１〜５重量％を含むアクリル樹脂組成物であって、
アクリル単量体混合物（Ｂ）が、分子中に１個のアクリロイル基を有するアクリル単量体（ｂ−１）６４〜９９重量％と、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレートを含む分子中に２個以上のアクリロイル基を有する多官能アクリル単量体（ｂ−２）１〜２０重量％、分子中にアミド基、または、ヘテロ原子を含む環状構造を有するラジカル重合性不飽和化合物（ｂ−３）０〜１６重量％を含み（（ｂ−１）、（ｂ−２）と（ｂ−３）の合計は１００重量％である）からなるアクリル樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 湿式法により、特殊な設備等を必要とすることなく、分散安定性に優れ、粒径の制御が可能な金属ナノ粒子を簡便かつ容易に製造する方法を提供すること。
【解決手段】 還元により金属微粒子を生成可能な金属化合物［Ａ］と、金属化合物［Ａ］を構成する金属イオン又は金属錯体と相互作用し、かつ還元により析出した金属微粒子の表面に吸着可能な官能基（Ｑ）を有するラジカル重合性ビニル単量体［Ｂ］と、光ラジカル重合開始剤［Ｃ］と、溶媒［Ｄ］とを含有することを特徴とする重合性組成物および上記重合性組成物に活性エネルギー線を照射することにより、金属ナノ粒子の形成と保護ポリマーの形成を一工程で行うことを特徴とする金属ナノ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物を含有する液晶組成物において、析出物が発生せず、重合性化合物の反応性が高く、重合後の液晶表示素子の信頼性が高い液晶組成物を提供すること。
【解決手段】誘電率異方性Δεが負であるネマチック液晶組成物１００質量部に対し、下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を０．０１〜３質量部含有させてなる液晶組成物。


（式中、Ｃ¹、Ｃ²及びＣ³は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表し、これらの環の水素原子は、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アルコキシ基、Ｃ１〜３のアシル基、シアノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｍ¹及びＭ²は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｚ¹は−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−等であり、Ｚ²は直接結合、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−等であり、ｑは０又は１を表す。） （もっと読む）

【課題】 貴金属めっき耐性に優れ、充分な剥離特性を有し、かつ光重合性化合物が保護フィルムから透過しない感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成法、リードフレーム又はプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物層と、ポリプロピレン重合体フィルムを備える感光性エレメントであって、前記感光性樹脂組成物層が、（Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）少なくとも１つ以上の重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）成分が、一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物と、一般式（ＩＩ）で表されるエトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート類化合物とを含有する、感光性エレメント。 （もっと読む）

【課題】硬化させた後も加工性に優れ、かつ、硬化膜の耐擦傷性に優れた加飾積層フィルム及びその製造方法の提供、及び当該加飾積層フィルム用の光硬化型組成物の提供。
【解決手段】２個以上のエチレン性不飽和基及びイソシアヌレート環を有する化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含む組成物であって、エチレン性不飽和基濃度が０．１〜４．０ｍｅｑ／ｇである光硬化型加飾積層フィルム用組成物。さらに、２個以上のアクリロイル基を有する（Ａ）成分以外の化合物（Ｃ）を含むものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】インプリント法により、エッチング耐性に優れた高精細なパターンを量産性良く形成する。
【解決手段】基板１０上に、重合により架橋して三次元構造を有する重合体となる多官能単量体を含む重合性化合物２１と、光又は電子線により活性化する重合開始剤Iとを含むレジスト組成物２０からなる（不可避不純物を含んでもよい）レジスト層２０ｍを形成し、レジスト層２０ｍに、表面に所定の凹凸パターンを有する鋳型３０の凹凸表面を圧接し、レジスト層２０ｍに光Ｌ１を照射してレジスト層２０ｍを硬化させ、レジスト層２０ｍの温度が４０℃以上となる条件で鋳型３０をレジスト層２０ｍから剥離する。 （もっと読む）