Fターム[4J026AA74]の内容
グラフト、ブロック重合体 (46,059) | グラフト重合の幹重合体(天然、付加重合高分子) (4,936) | 炭素−炭素三重結合を含有する単量体の(共)重合体 (3)
Fターム[4J026AA74]に分類される特許
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フェロセン骨格を有するホスフィン−パラジウム錯体、置換アセチレン重合開始剤、末端に官能基が導入された置換ポリアセチレン、それを用いた高分子重合開始剤及びブロック共重合体の製造方法
【課題】置換アセチレンの重合に対して高い触媒活性を有し、分子量分布の狭い末端に官能基が導入された置換ポリアセチレンを製造することができる新規なフェロセン骨格を有するホスフィン−パラジウム錯体の提供。
【解決手段】下式1
(式中、R1はフェニル基又はフェノキシ基を示す。R2はハロゲン基、トシル基、トリフラート基及びメシル基から選ばれる基を示す。R3は置換アリール基を示す。で表わされるフェロセン骨格を有するホスフィン−パラジウム錯体。
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感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス
【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜(以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能)であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜(以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能)を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(A)下記式(1)で表される1種又は2種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と(B)光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
(RSiO1.5)a 式(1)
(式(1)中、Rは、それぞれ独立に、有機基を表し、Rのうちの少なくとも2つは、重合性基を表す。aは8〜16の整数を表す。複数のRは同一であっても異なっていてもよい。)
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。
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多官能アクリルアミドモノマーおよびその製造方法、導電性高分子塗料、導電性塗膜
【課題】 水溶性溶媒類への溶解性が高い上に、硬化後の架橋密度を高くできる多官能アクリルアミドモノマーを提供する。また、架橋密度の高い導電性塗膜を形成できる導電性高分子塗料、架橋密度の高い導電性塗膜を提供する。
【解決手段】 本発明の多官能アクリルアミドモノマーは、下記一般式(I)で表される化学構造を2つ以上有することを特徴とする。なお、下記一般式(I)におけるR1は水素原子またはメチル基を表し、R2はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基を表す。本発明の導電性高分子塗料は、上記多官能アクリルアミドモノマーとπ共役系導電性高分子とポリアニオンとバインダ樹脂と水溶性溶媒とを含有する。本発明の導電性塗膜は、上記導電性高分子塗料が塗布されて形成されたものである。
【化1】
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