【課題】 ガラス、半導体、誘電／金属複合体及び集積回路等に平坦面を形成するのに使用される研磨用パッドにおいて、基板表面にスクラッチが生じにくく、研磨中に研磨状態を光学的に良好に測定できる研磨パッドおよび研磨装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも研磨層１とクッション層５からなる研磨パッドにおいて、該研磨層が透明発砲構造体からなり、かつ、該研磨層には設けられていないが、該クッション層以下の層に開口部７が設けられている。 （もっと読む）

本発明は、ホスホン酸基を含みそしてホスホン酸基を含むモノマーを重合することによって得られるポリマーおよび少なくとも１つの多孔性担体材料が提供される、ポリマーを含むプロトン伝導性高分子膜に関する。 （もっと読む）