Fターム[4J030CD11]の内容
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Fターム[4J030CD11]に分類される特許
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ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法
【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用出来るだけでなく従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用出来るレジスト下層膜を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される有機ホウ素化合物及びその縮合物からなる群から選ばれる化合物(A)一種以上と、下記一般式(2)で示されるケイ素化合物(B)一種以上とを含む混合物の縮合物及び/又は加水分解縮合物を含有するものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。
R1m0B(OH)m1(OR)(3−m0−m1) (1)
R10m10R11m11R12m12Si(OR13)(4−m10−m11−m12) (2)
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半導体装置、半導体装置の製造方法および薄膜
【課題】導電性または半導体性を示す、新規な環状シロキサン重合体を含む半導体装置を提供する。
【解決手段】この半導体装置は、中心金属に遷移金属を有する構造単位(A)と、隣り合う構造単位(A)の間に位置し、環状シロキサン骨格を含む構造単位(B)と、を含むプラズマ重合体からなる電荷輸送層を備えている。なお、中心金属に遷移金属を有する有機金属化合物と、環状シロキサン化合物と、を反応炉でプラズマ重合させることにより、当該電荷輸送層を形成する。
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ボロン酸エステル型高分子微粒子、及び貴金属ナノ粒子担持ボロン酸エステル型高分子微粒子複合体、芳香族ニトロ化合物の選択的水素化触媒並びにそれらの製造方法
【解決課題】金ナノ粒子又はクラスターの触媒活性を活用するための高分子担体、金ナノ粒子を高分子担体に担持させた芳香族ニトロ化合物の選択的水素化触媒、及びこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン−1,4−ジボロン酸とペンタエリスリトールとをTHF存在下で混合して形成されるボロン酸エステル型高分子微粒子。当該ボロン酸エステル型高分子微粒子に金ナノ粒子を担持させた芳香族ニトロ化合物の選択的水素化触媒。
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新規エネルギーポリホスファゼン
【課題】高火薬材料に与える結合剤材料を提供する。
【解決手段】火薬類、発射組成物及び/又は花火組成物のためのエネルギー結合剤であって、式Yのランダム混合置換基ポリ(ホスファゼン)化合物;
式Y(式中:R1、R2及びR3は、ニトロ、ニトラミン、硝酸エステル又はアジド基を有するアルキル又はアルキルエーテル側鎖、X=C1〜C20のフルオロアルコキシ基、又はC1〜C20のフルオロアルコキシエーテル、3≦n≦10000、x+y+z=1.0、xは0〜0.95、yは0〜1.0、zは0〜1.0)を含む、エネルギー結合剤。
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LED用封止材料
【課題】短波長紫外線領域の光線透過性を確保し、しかもLED素子による発熱や紫外線自体にも耐久性を備えるとともに経済性も併せ持つLED用封止材料を提供する。
【解決手段】ヒドロキシ末端を有するジメチルポリシロキサン(A)と、アルミニウムアルコキシド(B)と、ケイ素アルコキシド(C)とを含み脱水縮合反応により生じた有機無機ハイブリッド組成物(X)よりなり、有機無機ハイブリッド組成物におけるヒドロキシ末端を有するジメチルポリシロキサンのヒドロキシ基の数とアルミニウムアルコキシドのアルコキシ基の数の比率が、1:0.1ないし1:1.5の範囲を満たし、有機無機ハイブリッド組成物におけるヒドロキシ末端を有するジメチルポリシロキサンのヒドロキシ基の数とケイ素アルコキシドのアルコキシ基の数の比率が、1:2ないし1:50の範囲を満たし、LED2を実装した基板1に滴下されて該基板に被着される。
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ピリジニウム骨格を含む有機物を配位子とする配位高分子を用いた炭化水素の分離方法
【課題】メチルアセチレンとメチルアセチレンを除く炭素原子数が3である炭化水素との分離方法の提供。
【解決手段】式(1)で示される配位子と金属イオンとを含むピラードレイヤー構造を有する配位高分子が有する、圧力および温度の同一条件下におけるメチルアセチレンとメチルアセチレンを除く炭素原子数が3である炭化水素との各々に対する保持能力の差異に基づき分離する。
[式中、X1、X2、X3、X4、X5およびX6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を示す。]
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レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法
【課題】ネガ現像において得られるレジストパターンに適用できるだけでなく、ポジ現像で得られるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1)で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式(2)で表される加水分解性化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、及びR1m1R2m2R3m3Si(OR)(4−m1−m2−m3)(1)U(OR4)m4(OR5)m5(2)(B)一般式(3)で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式(4)で表される加水分解性ケイ素化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、R6m6R7m7R8m8Si(OR9)(4−m6−m7−m8)(3)Si(OR10)4(4)を含むケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。
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高屈折率硬化性液体発光ダイオード封止材配合物
【課題】高屈折率硬化性かつ光学的に透明な発光ダイオード封止材配合物を提供。
【解決手段】発光ダイオード封止材として使用するための硬化性液体ポリシロキサン/TiO2複合体であって;5nm未満の平均ドメインサイズを有するTiO2ドメインを有するポリシロキサンプレポリマーを当該複合体が含み;前記硬化性液体ポリシロキサン/TiO2複合体が全固形分基準で20〜60モル%のTiO2を含み;前記硬化性液体ポリシロキサン/TiO2複合体が1.61より大きく1.7以下の屈折率を示し;並びに、前記硬化性液体ポリシロキサン/TiO2複合体が室温および大気圧で液体である;硬化性液体ポリシロキサン/TiO2複合体。
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帯電部材とその製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
【課題】、速いプロセススピードにおいても安定して感光体を帯電させられる、高い帯電能力を長期に亘って維持することのできる帯電部材の提供。
【解決手段】導電性支持体101、導電性弾性層102および表面層103を有する電子写真装置用帯電部材であって、該表面層は、Si−O−Ti結合を分子構造中に有する高分子化合物を含み、該高分子化合物は、特定の構造で示される構成単位を有する。
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Mo吸着剤、その製造方法、及び99Mo−99mTcジェネレータ
【課題】分散溶媒としてテトラヒドロフランを用いることがなく、安全な溶媒を用い、この溶媒を用いることでアルコキシ化反応効率が向上し、もって製造されたMo吸着剤が、Mo吸着能力が高く、しかも安定性がよく、99mTc溶出能力を向上させることができるようにする。
【解決手段】原料としてのジルコニウムのハロゲン化物とアルコールに分散溶媒としてのブチルエーテルを添加し、反応させ、アルコキシ化生成物を生成する第1工程のアルコキシ化工程と、反応生成したアルコキシ化生成物に水と更にブチルエーテルを添加して、加水分解及び脱水縮合して前駆生成物を生成する第2工程の加水分解・脱水縮合工程と、生成した前駆生成物を重合濃縮し、溶媒除去、熱処理する第3工程とを用いることによって、−O−Zr−Clの骨格構造であって、塩素の含有量が160mg(Cl)/g以上の性状を示すMo吸着剤を生成する。
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非晶質体
【課題】低吸湿性および低軟化点を有する非晶質体を提供する。
【解決手段】式(1)および式(2)の構造の少なくとも一種の構造を有する非晶質体。
[式(1)中、複数あるR1はそれぞれ独立に炭素数3以上の一価の有機基を示し、式(2)中、複数あるR2はそれぞれ独立に炭素数3以上の一価の有機基を示し、式(1)および(2)中、破線は結合手を示す。]
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パターン形成方法及びこれに用いるケイ素含有膜形成用組成物
【課題】有機溶剤現像によるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法、及び該プロセスで使用されるケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(A−1)、下記一般式(A−2−1)、及び下記一般式(A−2−2)で表される反応性化合物及び/又はこれらの加水分解物、縮合物、加水分解縮合物の各々からなる群から選ばれる各々の1種以上の化合物、からなる混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、(R2)m2(OR3)(3−m2)Si−R1−Si(R4)m4(OR5)(3−m4)(A−1)R11m11R12m12R13m13Si(OR14)(4−m11−m12−m13)(A−2−1)U(OR21)m21(OR22)m22(O)m23/2(A−2−2)(B)有機溶剤を含む組成物によるケイ素含有膜上に、有機溶剤現像のフォトレジストでネガ型パターンを得る。
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配位数4の金属及びビスフェナントロリン誘導体を含む有機/金属ハイブリッドポリマー、その配位子、及びその製造方法
【課題】
従来の6つの配位座ではなく、CuやPt等の4つの配位座を有する金属を使った有機/金属ハイブリッドポリマーを与える。
【解決手段】
スペーサー部位の両端に夫々フェナントロリン誘導体を設けた構造の配位子を使用する。夫々のフェナントロリンは配位数が2であるので、このような配位子と4つの配位座を有する金属とを1:1で錯体形成させることで、たとえば以下の構造式で表される所望の有機/金属ハイブリッドポリマーが形成される。
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帯電部材及びその製造方法
【課題】表面が粗面化されてなり、表面への汚れの付着を抑制し得る帯電部材の提供。
【解決手段】支持体、弾性層および表面層を有する帯電部材であって、該表面層は、Si−O−M結合を有し、かつ、下記一般式(1)及び下記一般式(2)で示される構成単位から選ばれる少なくとも1つ、並びに下記一般式(3)で示される構成単位を有する高分子化合物を含み、該帯電部材は、その表面から該弾性層に至る亀裂を有し、該亀裂はその縁部が凸状に盛り上がり、それによって該表面が粗面にされている帯電部材。
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新規物質及び熱硬化性組成物
【課題】ポリエステルアミド酸系熱硬化性組成物の硬化物の持つ耐熱性を維持しつつ、平坦性の良い硬化膜を形成することができる熱硬化性組成物を提供すること、ならびに低温硬化性に優れた熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】ジカルボン酸無水物(a1)、下記一般式(1)で表されるアミノ化合物(a2)、アミノ化合物(a2)以外の加水分解可能なケイ素化合物(a3)及び金属アルコキシド(a4)を反応させて得られる反応生成物(A)。
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液状付加硬化性メタロシロキサン
【課題】アウトガスが出ない付加硬化性であり、硬化性樹脂組成物に含有させて硬化した場合に耐熱無黄変性に優れる液状メタロシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】2官能のシラン化合物(S1)と、ジルコニウム化合物又はチタニウム化合物である金属化合物(M)と必要に応じてH2Oとを反応させる第1工程と、該第1工程の反応生成物と単官能のシラン化合物(S2)と必要に応じてH2Oとを反応させる第2工程とを経ることにより得られ、該シラン化合物(S1):該金属化合物(M):該シラン化合物(S2):第1工程のH2O:第2工程のH2Oを特定のモル比で反応させて製造され、1分子中にSi−H結合又はC2-10アルケニル基を少なくとも1つ有することを特徴とするメタロシロキサン化合物を提供する。
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透明な無機複合樹脂組成物の製造方法
【課題】高い透明性を有し、長期の耐久性に優れ400ナノメートル以上の厚膜の形成が可能で、さらに屈折率が1.6以上である新規な透明樹脂を光学材料および電子材料の分野に提供する。
【解決手段】下記式(1):
(Mはジルコニウム又はチタンである。R1は有機基。R2はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基である。)で示される少なくとも1種の化合(A)と、下記式(2)(式中、R3は水素原子又はメチル基を側鎖に有し、ケイ素―水素結合基の活性水素基が40〜500グラム/当量の割合で含有する)で表されるシリコーン樹脂である(B)と、無機塩類である(C)と、水(D)とを、(A)100モルに対して(B)を活性水素のモル数に換算して10〜200モル、(C)を0.01〜5モル、(D)を80〜300モルの割合に混合し反応させることを特徴とする樹脂組成物の製造方法。
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発光素子および粒子含有層形成用組成物
【課題】発光効率および耐久性が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子10は、基板11と、第1電極13と、発光層15と、第2電極17と、粒子含有層18を備えている。粒子含有層18は、シロキサン系重合体、チタノキサン系重合体およびこれらの共重合体から選ばれる少なくとも一種の重合体、および、金属酸化物粒子を含有する組成物の硬化物である。粒子含有層18は、基板11と第1電極13の間に形成することもできる。
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硬化性樹脂組成物
【課題】塗膜やパターン上に対する配向膜溶液のはじきを低減させる硬化性樹脂組成物。
【解決手段】樹脂、チタン化合物及び溶剤を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、炭素数2〜4の環状エーテル及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体に由来する構造単位とを含む付加重合体であり、該炭素数2〜4の環状エーテル及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体に由来する構造単位の含有量が、樹脂を構成する構造単位全量に対して、2モル%以上95モル%以下である硬化性樹脂組成物。
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低誘電率材料形成用原料
【課題】 耐水性に優れた低誘電率材料を得る。
【解決手段】 化学式(1―1)
【化1】
で示されるボラジン系原料を有機溶媒に分散または溶解させたものを低誘電率材料形成用原料とする。式中のホウ素原子もしくは窒素原子が備える手が結合手となってボラジン環が結ばれたボラジン骨格系構造を形成し、上記ボラジン骨格系構造が繰り返されたオリゴマーまたはポリマーとして低誘電率材料を生成する。ただし式中、上記結合手以外のR1〜R6は、水素原子、炭素原子数1〜2のアルキル基の少なくともいずれかであって、少なくとも1つは水素原子ではなく、少なくとも1つは水素原子である。
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