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Fターム[4J036DC35]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | 活性水素化合物(N含有化合物) (7,273) | N−N結合含有化合物 (232) | ヒドラジン、ヒドラジド (187)

Fターム[4J036DC35]に分類される特許

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【課題】硬化性樹脂組成物に配合させても経時での粘度上昇が抑制され且つ、耐衝撃性、接着強度を向上させるグラフト共重合体を含有する硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供すること
【解決手段】ゴム質重合体に、グリシジル基を有するビニル単量体0.1〜5質量%(グラフト共重合体(A)100%中)及び架橋性単量体0.1〜2質量%(グラフト共重合体(A)100%中)を共重合させたグラフト共重合体(A)及び硬化性樹脂(B)を含む硬化性樹脂組成物 (もっと読む)


【課題】
耐熱性と硬化性に優れた特定のポリグリセリン構造を有するエポキシ樹脂と、それを用いて硬化させた際、硬化後の着色が小さく柔軟性に優れた硬化物が得られるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
トリグリセリン濃度とテトラグリセリン濃度の合計が60重量%以上であるポリグリセリンとエピハロヒドリンとの反応により得られるエポキシ樹脂、及び該化合物を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】従来のエポキシ基や(メタ)アクリル基を分子中に有し、反応性の官能基が含まれない(メタ)アクリル重合体を添加した組成物では困難であった、ITOガラスに対する密着性および促進試験後の密着力を維持し、またガラス転移点を高く保つ新規組成の液晶滴下工法用シール剤を提供する。
【解決手段】(A)〜(C)成分を含む、熱硬化および光硬化する液晶滴下工法用シール剤。(A)成分:エポキシ樹脂。(B)成分:(メタ)アクリル樹脂。(C)成分:水酸基を有するが、(メタ)アクリル基およびエポキシ基を有さない(メタ)アクリル重合体。 (もっと読む)


【課題】優れた力学特性と導電性を兼ね備えた炭素繊維強化複合材料を提供すること。
【解決手段】少なくとも、[A]連続した炭素繊維、[B]エポキシ樹脂組成物、[C]熱可塑性樹脂の粒子、および[D]導電性の粒子を含むプリプレグであって、[A]連続した炭素繊維が、X線光電子分光法で測定した全炭素原子と全酸素原子との原子数比[O/C]が0.12以下、[B]エポキシ樹脂組成物が180℃で2時間加熱せしめて得られる硬化物のガラス転移温度Tgが150℃以上であり、かつ、前記Tg以上の温度領域におけるゴム状平坦部剛性率G’(R)と30℃でのガラス状平坦部剛性率G’(30℃)が100≦G’(30℃)/G’(R)を満たすプリプレグである。 (もっと読む)


【課題】良好な硬化性を有し、また耐湿性に優れる新規ヒドラジド化合物、および耐湿信頼性等の特性に非常に優れる硬化物を実現できる樹脂組成物、さらには該樹脂組成物を用いた接着剤、液晶シール剤用途の提案を課題とする。
【解決手段】下記式(1)で表されるヒドラジド化合物。
【化1】


(式中nは0〜6の整数を表し、mは1〜4の整数を表す。)
また、当該ヒドラジド化合物を用いた樹脂組成物とその接着剤、液晶シール剤用途。 (もっと読む)


【課題】熱硬化剤として用いた場合に、ポットライフの長い硬化性樹脂組成物を得ることができるシリル化剤処理ヒドラジド化合物を提供する。また、該シリル化剤処理ヒドラジド化合物の製造方法、該シリル化剤処理ヒドラジド化合物を用いてなる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物からなり、保存安定性に優れ、液晶汚染を引き起こすことがほとんどない液晶滴下工法用シール剤、該液晶滴下工法用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるシリル化剤処理ヒドラジド化合物。
[化1]


式(1)中、R〜Rは、炭素数1〜2のアルキル基、イソプロピル基、tert−ブトキシ基、又は、フェニル基を示し、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、Rは、炭素数0〜18の置換若しくは非置換のアルキレン基、オキソ基、又は、置換若しくは非置換の芳香環を示す。 (もっと読む)


【課題】耐水性と耐酸性に優れた塗膜を形成できる常温硬化性の一液型水性塗料組成物、及び該水性塗料組成物に適用できる変性エポキシ樹脂を提供すること。
【解決手段】カルボニル基及びチオエーテル基を含有する変性エポキシ樹脂と、該カルボニル基と反応性を有する架橋剤としてヒドラジン誘導体とを含有する水性塗料組成物は、常温で硬化することができ、塗料の貯蔵安定性に優れることから1液型として使用可能である。上記水性塗料組成物は、耐水性と耐酸性に優れた塗膜を形成できる。 (もっと読む)


【課題】接着剤の設計の自由度、高接着強度を実現できる(メタ)アクリル樹脂、及び樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される(メタ)アクリル樹脂。
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【課題】低温でウェハー裏面にラミネートでき、熱時接着力が高く、基板表面の凹凸埋め込み性及び耐リフロー性に優れた接着フィルム及びこれを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】重量平均分子量が10万以上である官能基を含む高分子量成分(A);エポキシ樹脂(b1)と、フェノール樹脂とを含む熱硬化性樹脂成分(B);BET比表面積が30m/g以上である第1のフィラー(D);及びBET比表面積が30m/g未満である第2のフィラー(E)を含む接着剤組成物2を用いた接着フィルム1。 (もっと読む)


【課題】押出成形法等により容易に成形可能であり、耐熱性と強靱性とを両立でき、二次加工性に優れ、かつ、金属電極又は基板に強力に接着できる配線基板を製造することができる熱硬化性成形材料を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、非晶性熱可塑性樹脂、エポキシ硬化剤、及び、無機フィラーを含有する熱硬化性成形材料であって、前記熱硬化性成形材料全体に占める無機フィラーの割合が20〜60体積%であり、前記熱硬化性成形材料中の樹脂成分の全体積に占めるエポキシ樹脂の割合が40〜95体積%であり、前記無機フィラーは、モース硬度が4〜8である無機フィラーを含有し、かつ、前記熱硬化性成形材料中の無機フィラーの全体積に占める前記モース硬度が4〜8である無機フィラーの割合が50〜100体積%である熱硬化性成形材料。 (もっと読む)


【課題】
第一に低温硬化性に優れ、同時に低液晶汚染性でポットライフが長く、良好な基板への塗布作業性、貼り合わせ性、接着強度を有する液晶シール剤を提供すること。第二に熱硬化液晶滴下工法に有効な液晶シール剤を提供すること。
【解決手段】
( a ) ジヒドラジド化合物、( b ) 硬化性樹脂としてエポキシ樹脂、( メタ) アクリル化エポキシ樹脂及び部分( メタ) アクリル化エポキシ樹脂から選択される1種もしくは2種以上、及び(
c ) 硬化促進剤として多価カルボン酸を含有することを特徴とする液晶シール剤。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた硬化物を得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、1種またはそれ以上のエポキシ樹脂(A)と、エポキシ当量220g/eq以上400g/eq以下のエポキシ樹脂に、両末端にカルボキシル末端とアミノ基との何れか一方又は両方を有するアクリロニトリル−ブタジエンゴムを反応させて得られるゴム変性エポキシ樹脂(B)と、1種またはそれ以上の硬化剤(C)と、を含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】フレキシブルプリント基板等の分野における接着に使用するアクリル系熱硬化性接着組成物であって、ポリイミドフィルム等の樹脂基板と、ポリイミドフィルム、金属板あるいはガラスエポキシ基板との間を良好に接着でき、しかも数ヶ月という長期に亘って良好な常温保管特性を示すことができるアクリル系熱硬化性接着組成物を提供する。
【解決手段】熱硬化性接着組成物は、アクリル系共重合体(A)、エポキシ樹脂(B)、エポキシ樹脂用硬化剤(C)及びシランカップリング剤(D)を含有する。アクリル系共重合体(A)は、エポキシ基非含有(メタ)アクリル酸エステルモノマー(a)65〜75質量%、アクリロニトリルモノマー(b)20〜35質量%及びエポキシ基含有(メタ)アクリル酸エステルモノマー(c)1〜10質量%を共重合させたものである。エポキシ樹脂用硬化剤は、平均粒子径0.5〜15μmの有機酸ジヒドラジド粒子である。シランカップリング剤(D)は、ビニルトリアルコキシシランである。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた硬化物を得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、エポキシ樹脂(A)と、ウレタンプレポリマー末端のイソシアネートがε−ポリカプロラクタム、オキシム類、ピラゾール類の少なくとも1つでブロックされ、前記ウレタンプレポリマーの骨格にビスフェノールAが含まれているウレタン樹脂(B)と、硬化剤(C)と、を含むエポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、かかる従来技術の欠点を改良し、優れた弾性率と靭性を併せ持つ樹脂硬化物を形成し、かつ低粘度で強化繊維間への含浸性に優れたエポキシ樹脂組成物、および該エポキシ樹脂組成物を用いたプリプレグ、繊維強化複合材料を提供することを課題とする。
【解決手段】下記に示す[A]〜[D]を含んでなるエポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂エポキシ樹脂[A]〜[C]が全エポキシ樹脂成分100質量部に対して、以下の配合比を満たす、エポキシ樹脂組成物。
[A]軟化点90℃以上のビスフェノール型エポキシ樹脂 20〜50質量部
[B]3官能以上のアミン型エポキシ樹脂 30〜50質量部
[C]数平均分子量450以下のビスフェノールF型エポキシ樹脂 10〜40質量部
[D]硬化剤 (もっと読む)


【課題】無機物としての金属を多量に含有した場合において、十分に高い透明性を呈する硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体と、一般式M(OR)n(1)で表わされる金属アルコキシドとを含むことを特徴とする、硬化性組成物(式中、Mは、Al,Si,Ti,Y,Zr,Nb,Cd,Ba,Ta及びCeからなる群より選ばれる少なくとも一種であり、Rは一般式(2)を有する特定の基であり、Rはビニル基又は水酸基で置換されていてもよいアルキル基であって、nは2〜5の整数)。
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【課題】絶縁接着剤として、ガラス転移温度(Tg)が高く、低弾性率(応力緩和性)及び低熱膨張率の各特性に優れた低弾性熱硬化性樹脂用エポキシ樹脂組成物、及び、電気部品等に好適な絶縁接着剤を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)コアシェル型低弾性フィラー及び(C)ポリアミド樹脂を含有して得られるエポキシ樹脂組成物、及び、該組成物を含有する熱硬化性絶縁接着剤で、前記ポリアミド樹脂(C)の含有量が、エポキシ樹脂(A)100質量部に対し50〜150質量部であり、コアシェル型低弾性フィラー(B)の含有量が全配合物中の20〜50質量%である。 (もっと読む)


【課題】ワニス粘度が低く、作業性に優れたリン含有エポキシ樹脂の提供。
【解決手段】エポキシ樹脂類(a)と、(a)のエポキシ基と反応する反応性官能基を有する化合物類(b)とを反応して得られるリン含有エポキシ樹脂であって、反応性官能基を有する化合物類(b)は一般式(1)で表されるリン含有フェノール化合物を必須成分とし、かつ得られるリン含有エポキシ樹脂のエポキシ当量が理論エポキシ当量の60%から95%の範囲であることを特徴とするリン含有エポキシ樹脂。


(式中Aは炭素数6から20のアリーレン基及び/またはトリイル基を表し、nは0または1を表す。また、式中R及びRは炭素数1から6の炭化水素基を表し、同一であっても異なっていてもよく、リン原子と共に環状になっていてもよい。) (もっと読む)


【課題】スピンコート法により半導体ウェハー表面に塗布した場合において、厚みが均一な塗布膜を形成可能な、ウェハレベルアンダーフィル工法に用いられるプリアプライド用封止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のプリアプライド用封止樹脂組成物は、半導体チップと基板との間隙を封止する封止樹脂層を得るために用いられる。当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しB−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。当該プリアプライド用封止樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)無機充填剤と、(D)溶剤と、(E)アミノ基を含有するシランカップリング剤と、を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】スピンコート法により半導体ウェハー表面に塗布した場合において、厚みが均一な塗布膜を形成可能な、ウェハレベルアンダーフィル工法に用いられるプリアプライド用封止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のプリアプライド用封止樹脂組成物は、半導体チップと基板との間隙を封止する封止樹脂層を得るために用いられる。当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しB−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。当該プリアプライド用封止樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)無機充填剤と、(D)溶剤と、を含んでなり、粘度a/粘度bで表されるチキソ比が1.5以下である。
粘度a:ブルックフィールド型粘度計を用い、0.5rpm、25℃で測定。
粘度b:ブルックフィールド型粘度計を用い、2.5rpm、25℃で測定。 (もっと読む)


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