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【課題】パッケージ内部のボイドが極めて少なく、従来以上に流動性を向上させつつ、耐半田性、及び硬化性のバランスに優れた封止用樹脂組成物、ならびに、それを用いた信頼性に優れた半導体装置を経済的に提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)と、一般式(1)で表されるフェノール樹脂系硬化剤(b1)及び一般式(2)で表されるフェノール樹脂系硬化剤(b2)とを含むフェノール樹脂系硬化剤(B)と、無機充填剤(C)と、硬化促進剤(D)と、を含むことを特徴とする封止用樹脂組成物、ならびに、その封止用樹脂組成物の硬化物で素子が封止されていることを特徴とする電子部品装置。 (もっと読む)


【課題】フィルム状である絶縁材料の強度を高くすることができるか又は絶縁層の強度を高くすることができ、更に絶縁材料の溶融粘度を低くして、接続構造体における導通性を良好にすることができる絶縁材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る絶縁材料は、突出した複数の第1の電極2bを表面2aに有する第1の接続対象部材2において、複数の第1の電極2b上と複数の第1の電極2b間の隙間X上とに、複数の第1の電極2bを覆うように積層される絶縁層6Aを形成するために用いられる絶縁材料である。本発明に係る絶縁材料は、数平均分子量が10000以上、250000以下であるポリマーと、分子量が1000以上、10000未満である第1の硬化性化合物と、分子量が1000未満である第2の硬化性化合物と、熱硬化剤とを含む。 (もっと読む)


【課題】高コントラストなカラーフィルタを製造可能な着色硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、着色剤が、キサンテン染料とアントラキノン染料とを含む着色剤である着色硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】接着剤を使用せず、またゴム層とフッ素樹脂層の各層に表面処理を施すこともなく、ゴム層とフッ素樹脂層が強固に接着されている加硫積層体を提供する。
【解決手段】ゴム層とフッ素樹脂層を備える積層体であって、ゴム層は、加硫用ゴム組成物から形成され、加硫用ゴム組成物は、エピクロルヒドリンゴム、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7及びその塩、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)−ノネン−5及びその塩から選択される化合物、エポキシ樹脂、水担持物質、エピクロルヒドリンゴム100質量部に対して1質量部を超えるN−シクロヘキシルチオフタルイミド、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケルを含有し、フッ素樹脂層は、フッ素ポリマー組成物から形成される層であり、フッ素ポリマー組成物は、クロロトリフルオロエチレンに由来する共重合単位を有するフッ素ポリマーを含有することを特徴とする積層体。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜に対するドライエッチング速度の選択比が大きく、ArFエキシマレーザーのような短波長でのk値が低く且つn値が高い値を示し、レジストパターンが所望の形状に形成されるレジスト下層膜を形成するための組成物を提供することを課題とする。その組成物を製造する際及び使用する際、原料モノマーに起因する臭気が問題にならないことを要する。
【解決手段】硫黄原子を主鎖に有するポリマー及び溶剤を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物によって、上記課題は解決される。前記ポリマーは、2つのエポキシ基を含む少なくとも1種の化合物(ジエポキシ化合物)と、硫黄原子を含む少なくとも1種のジカルボン酸との反応生成物である。 (もっと読む)


【課題】耐熱、耐UV性、貯蔵安定性が良好な硬化物を与える樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)の構造を有するシリコーン変性エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。


[式中、R1、R2は特定の有機基、Yは環状エーテル基を含有する有機基。] (もっと読む)


【課題】良好な透明性、優れた耐光性、優れた耐熱変色性、優れた密着性を有する発光素子用封止材として好適に用いられる硬化性樹脂組成物、並びに、該樹脂組成物を用いて形成された発光部品を提供する。また、射出成形に適し、硬化後において硬質であり寸歩安定性にも優れた、レンズ材料として好適な硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】[A]ヒドロシリル化触媒の存在下、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加して得られるエポキシ変性シリコーン、100質量部、[B]エポキシ樹脂用硬化剤含有量が0.1質量部以上1,500質量部以下、[C]酸化防止剤成分の含有量が0.001質量部以上10質量部以下、[D]硬化触媒の含有量が0.001質量部以上10質量部以下であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】一液性エポキシ樹脂で、保存安定性が良好であり、かつ比較的低温で硬化性が良好で接着強度にも優れている熱硬化型粘接着剤組成物を提供する。
【解決手段】1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)として特定の固体状トリアジン誘導体(T)、及びイオン性液体(C)を含むことを特徴とする熱硬化型粘接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】成形性に優れ、無機充填材と複合化させた場合の熱伝導率が高く、かつ低熱膨張性で耐熱性に優れた成形物を与えるエポキシ樹脂組成物と、それを用いた成形物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂及び硬化剤、またはこれらと無機充填材を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成分として、アミド基を持つエポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分中50wt%以上用い、硬化剤成分として、二官能フェノール性化合物を硬化剤成分中50wt%以上用いて得られるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】メソゲン基を含有する特定のエポキシ樹脂と高い熱伝導率の窒化ホウ素、窒化アルミナ、窒化ケイ素などの窒化系無機充填材などを組み合わせることにより、その硬化物が高い熱伝導性、優れた耐熱性を有するエポキシ樹脂組成物を提供。
【解決手段】特定の化合物とヒドロキシベンズアルデヒド類との反応によって得られるフェノール樹脂とエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂(A)、硬化剤としてアミノ基を少なくとも2つ有するアミン系化合物(B)を含有してなるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】成型性良好で、強靭性値が高く、半導体素子及び基板の表面との密着性に優れ、耐熱衝撃性に優れた硬化物を与える液状エポキシ樹脂組成物及び該組成物の硬化物で半導体素子を封止した半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)下記(D)成分以外のエポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)無機充填剤、(D)特定の構造式で示されるシリコーン変性エポキシ樹脂、及び(E)特定の範囲の重合度を有するジメチルシリコーン、を含む液状エポキシ樹脂組成物;上記液状エポキシ樹脂組成物の硬化物と、該硬化物で封止された半導体素子とを有する半導体装置。 (もっと読む)


【課題】(1)エピクロロヒドリンを使用せずに製造されることができ、(2)調節可能な熱機械的特性に適合した広範囲の硬化剤と共に使用されることができ、(3)抽出可能なハロゲン化物を少ししか〜全く含まず、(4)低い粘度を維持しつつ高い添加量で充填剤を含むことができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)少なくとも1種のビニルアレーンオキシド、(b)少なくとも1種の硬化剤、および(c)少なくとも1種の伝導性充填剤を含む伝導性硬化性樹脂組成物;上記硬化性樹脂組成物を製造する方法;並びにこの組成物から製造される硬化した樹脂組成物。硬化性樹脂組成物は、硬化されると、類似の先行技術の組成物よりも硬化後に高い耐熱性を有する熱硬化物質を生じる。本発明の硬化性組成物は、例えば、半導体パッケージング材料熱硬化材料のためのダイアタッチ接着剤として有利に有用である。 (もっと読む)


【課題】エポキシ樹脂組成物に求められる基本特性を悪化させることなく、難燃性を付与した樹脂組成物、及びこれを用いた接着フィルム、プリプレグ、多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】シアネートエステル系硬化剤、活性エステル系硬化剤から選択される硬化剤の1種又は2種以上と、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物及びこの樹脂組成物を含有する接着フィルム、プリプレグ、多層プリント配線板。 (もっと読む)


【課題】優れた硬化性を維持しつつ、ガラス転移点の高い熱硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と、硬化剤として下記式(I)で表されるスルホニウム塩化合物及びその類似体の二種とを含有する熱硬化性エポキシ樹脂組成物。


[式(I)中、Rは、同一または異なって、水酸基、脂肪族又は芳香族のエーテル残基、カルボン酸エステル残基、カルバミン酸エステル残基からなる群から選ばれる1種であり、Rは、同一または異なって、水素原子又はアルキル基であり、Xはペンタフルオロフェニルボレートである。] (もっと読む)


【課題】 AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性、流動性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)下記一般式(III)で示されるシリコーン化合物を含有し、(A)エポキシ樹脂が、(A1)一般式(I)で示されるアラルキルノボラック型エポキシ樹脂と(A2)一般式(II)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂を含有し、エポキシ樹脂(A2)の含有量がエポキシ樹脂(A1)とエポキシ樹脂(A2)の総和に対して、5〜70質量%である封止用エポキシ樹脂組成物。
【化1】
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【課題】 AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性、流動性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)リン酸エステルを含有し、(A)エポキシ樹脂が、(A1)一般式(I)で示されるアラルキルノボラック型エポキシ樹脂と(A2)一般式(II)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂を含有し、エポキシ樹脂(A2)の含有量がエポキシ樹脂(A1)とエポキシ樹脂(A2)の総和に対して、5〜70質量%である封止用エポキシ樹脂組成物。(C)リン酸エステルを(A)エポキシ樹脂100質量部に対して5〜30質量部含有すると好ましい。 (もっと読む)


【課題】保存安定性に優れている硬化性組成物、及び該硬化性組成物を用いた接続構造体を提供する。
【解決手段】本発明に係る硬化性組成物は、エポキシ基及びチイラン基の内の少なくとも1種を有する化合物と、リン酸エステル及び亜リン酸エステルの内の少なくとも1種のエステルと、フェノール性化合物、アスコルビン酸、アスコルビン酸の誘導体、アスコルビン酸の塩、イソアスコルビン酸、イソアスコルビン酸の誘導体及びイソアスコルビン酸の塩からなる群から選択された少なくとも1種の成分とを含む。接続構造体1は、第1の接続対象部材2と、第2の接続対象部材4と、該第1,第2の接続対象部材2,4を接続している接続部3とを備える。接続部3は、上記硬化性組成物により形成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子や基材と剥離が生じず、真空下に置かれても発泡しない高信頼性なエポキシ樹脂組成物及び半導体装置の提供。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂:100質量部、(B)アミン系硬化剤:[(A)成分中のエポキシ基のモル量/(B)成分中のエポキシ基と反応性を有する基のモル量]が0.7〜1.2となる量、(C)平均粒径が0.1〜2μmかつ最大粒径が24μm以下の無機充填剤:50〜300質量部、及び(D)平均粒径が0.1〜10μmかつ最大粒径が24μm以下であり、シリコーンゴム球状微粒子にポリオルガノシルセスキオキサン樹脂を被覆してなるシリコーン微粒子:1〜20質量部を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、100〜200Paの減圧下で100℃、30分加熱した後の減少量が3質量%以下であり、表面張力が25mN/m以上であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】過酷な環境下で使用されてもクラック又は剥離が生じ難い光半導体装置用封止剤を提供する。
【解決手段】本発明の光半導体装置用封止剤は、環状エーテル含有基及びフェニル基を有するシリコーン樹脂と、単官能のカルボン酸、フェノール、リン酸及びモノアルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基を1つ有するアミン化合物からなる群から選択された少なくとも1種の成分と、上記環状エーテル含有基と反応可能な熱硬化剤とを含む。上記シリコーン樹脂は、平均組成式が下記一般式(1)で表される樹脂を含み、かつフェニル基の含有比率が15〜60モル%である。
【化1】


一般式(1)中、a、b及びcは、a/(a+b+c)=0〜0.3、b/(a+b+c)=0.5〜0.9、及びc/(a+b+c)=0.1〜0.4を満たし、R1〜R6は、少なくとも1個が環状エーテル含有基又はフェニル基を表す。 (もっと読む)


【課題】1種類の感放射線性樹脂組成物で層間絶縁膜、保護膜及びスペーサーを形成することが可能であり、層間絶縁膜、保護膜においては高感度、高平坦性、高密着性、高透過率、スペーサーにおいては高解像度、高感度を達成できる、さらに、その形成工程においては、昇華性が低い光重合開始剤を使用することにより、べーク炉の汚染や露光時のフォトマスクの汚染を防止することができる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】(A)カルボキシル基を有し、かつエポキシ基または(メタ)アクリロイル基から選ばれる少なくとも一種を有する重合体、
(B)重合性不飽和化合物、
(C)一般式(1)で示される感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性組成物。 (もっと読む)


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