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Fターム[4J038PC02]の内容

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Fターム[4J038PC02]に分類される特許

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【課題】 防錆性、耐食性、耐候性を有する塗膜を提供する。
【解決手段】 ビヒクルとしてフェノキシ樹脂を、防錆顔料として亜鉛粉末を含み、揮発性の高い溶剤を希釈溶剤して用いた一液型のジンクリッチプライマーを下塗りに用い、前記ジンクリッチプライマーを塗布し、次いで粉体塗料を塗り重ね、その後焼付けを行う高耐食性粉体塗装方法である。 (もっと読む)


【課題】 空調費の低減あるいは内容物の蒸発減耗の低減を図り、エネルギーの節約に顕著な効果を期待し得るとともに、長期耐久性に優れ、環境衛生上の問題もなく、着色可能で美観も兼ね備える太陽熱遮蔽塗料で、膜厚をそれほど大きくしなくとも所定の太陽熱遮熱効果を発揮でき、また、有機系顔料を使用することで色彩に幅を持たせることができ、さらに、黒、グレ−に限定されることなく任意の色に、しかも濃彩色でも、また、冴えた色調も実現可能なものである。
【解決手段】 上塗、中塗、下塗もしくは電着の全塗装系の全てを、または、上塗、中塗、下塗もしくは電着の全塗装系のうち、中塗塗料を、または、上塗を除いた一部塗料を、顔料とビヒクルとを主成分とし、顔料は近赤外領域で反射を示し、JIS A5759に定義される日射反射率が15%以上であって、かつCIE 1976 L*a*b*色空間におけるL*値が20以下の有機系または有機系および無機系の太陽熱遮蔽顔料である太陽熱遮蔽塗料で塗装する。 (もっと読む)


【解決手段】 第1耐食被膜形成樹脂組成物[グリシジルエーテル型エポキシ樹脂(EPX;A)の基本成分とフェノ−ル−ホルムアルデヒド重合体(B)との樹脂成分(R)を揮発分(V)に溶解](T1)及び第2耐食被膜形成樹脂組成物[EPX(A)とメラミン−ホルムアルデヒド樹脂(C;MELMNP)又はポリイミド樹脂(D;PIP)の組合わせを揮発分(V2)に溶解](T2)とを両者中の樹脂成分比(R1/R2)が特定範囲の耐蝕被膜形成性樹脂組成物(Z)溶液、これを用いて形成される耐食樹脂被膜、並びにこの耐蝕樹脂被膜付き金属製のチューブ状又は缶状容器。
【効果】 上記の耐蝕樹脂被膜は耐薬品性、耐染毛剤性等に優れ、それが胴部内壁に形成された金属製のチューブ状又は缶状容器も各種薬品、化粧品、食品等への耐食性に富む。 (もっと読む)


【課題】硬度、低温加工性が良好であって、耐汚染性の優れた塗膜を形成できる、塗装鋼板用に適した塗料を得る。
【解決手段】(A)数平均分子量10,000〜30,000、ガラス転移温度−21〜−35℃、水酸基価3〜50mgKOH/gの水酸基含有ポリエステル樹脂60〜80重量部及び(B)メチルエーテル化メラミン樹脂とブチルエーテル化メラミン樹脂との混合メラミン樹脂硬化剤20〜40重量部の合計量100重量部に対して、(C)硬化触媒として、スルホン酸化合物又はスルホン酸化合物の中和物を該スルホン酸化合物の量に換算した値で0.1〜2.0重量部及び(D)沸点30〜250℃の2級アミン化合物0.3〜10重量部、を含有する塗料組成物及び該塗料組成物の硬化塗膜が形成されてなる塗装金属板。 (もっと読む)


【課題】 エポキシ樹脂特有の高い接着性、耐薬品性、強靱性を生かし、耐水性、耐食性の低下をもたらす乳化剤等を使用することなく、造膜性、平滑性、耐水性、耐食性、柔軟性に優れ、ピンホールの発生のないエポキシ樹脂系の水性塗料を得ること。
【解決手段】 (a)下記一般式(1)
1-(CH=CH−CH2)m -(CH2)n-COO-R2 (1)
(式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基であり、R2は少なくとも1個の第一級ヒドロキシル基を有するモノアルコール又はポリオールのヒドロキシル基の1を除いた残基である。m及びnはそれぞれ1ないし20から選ばれる整数であり、m個及びn個の各基の結合順序は任意である。)で表される不飽和脂肪酸エステルの炭素−炭素二重結合が酸化反応により、完全もしくは部分的にエポキシ化されてなるエポキシ化合物、(b)カルボキシル基及びヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、(c)メラミン樹脂、及び(d)中和剤を水に含有させてなる水性塗料組成物。 (もっと読む)


【課題】 耐食性に優れた防錆層を形成することができる金属表面用防錆処理剤および耐食性に優れた表面処理金属製品を提供する。
【解決手段】 水性樹脂および水を主成分とする組成物で、かつ樹脂固形分に対してチオ硫酸イオン、亜硫酸イオンおよび亜硫酸水素イオンから選ばれる少なくとも1種類以上を0.1〜10wt%含有する金属表面用防錆処理剤を、塗布、乾燥する。これにより耐食性に優れた表面処理金属製品が得られる。 (もっと読む)


無機又は有機基体上の強力接着性被覆の製造方法であって、a)無機又は有機基体上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を行い、b)無機又は有機基体上に、1つ以上の光開始剤、又は光開始剤と少なくとも1個のエチレン性不飽和基を含むモノマー若しくは/及びオリゴマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液又は乳濁液を適用し、そして場合により、c)適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ/又は電磁波で照射する方法において、式(I)、(II)、(III)及び/又は(IV):IN−L−RG (I)、IN−L−RG1−L1−H (II)、IN−L−RG1−L1−IN1 (III)、IN−L−RG1−L1−RG2−L2−IN1 (IV)[式中、IN及びIN1は、それぞれ他と独立に、モノアシルホスフィン、モノアシルホスフィンオキシド又はモノアシルホスフィンスルフィド光開始剤基であり;L、L1及びL2は、単結合又はスペーサー基であり;RGは、少なくとも1個のエチレン性不飽和なC=C結合を有する1価ラジカルであり;そしてRG1及びRG2は、それぞれ他と独立に、少なくとも1個のエチレン性不飽和なC=C結合を有する2価ラジカルである]で示される化合物を使用するのが有利であると判明した。 (もっと読む)


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