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Fターム[4J100AB00]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 芳香族オレフィン (7,664)

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【課題】任意に重合体の末端に位置することができる直接結合したヒドラゾンラジカルを含む官能化重合体を提供する。
【解決手段】官能化重合体は、該重合体の末端に位置することができ、式−NH−NR12[式中、R1及びR2は、独立して置換若しくは未置換のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アルカリール基若しくはアルキニル基であるか、又は一体となって置換若しくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基若しくはアリーレン基を形成する]により規定される直接結合した部分を含む。上記官能化重合体は、リビング重合体をヒドラゾンと反応させることにより提供できる。かかる重合体は、粒子状充填剤を含む組成物の生産に使用できる。 (もっと読む)


【課題】 脂肪族炭化水素を主成分とする溶媒に溶解したアニオン重合開始剤を提供すること。
【解決手段】 一般式
(A)Li(SOL)
[式中、yは、1〜3であり、SOLは、可溶化成分であり、そしてAは、一般式
【化1】


を有する環状アミンから成る群から選ばれる]
を有する可溶化されたリチオアミンを含有して成る、脂肪族炭化水素を主成分とする溶媒に溶解したアニオン重合開始剤。 (もっと読む)


【課題】 50℃以上の高温保存や0℃以下の低温保存を繰り返し行う温度変化(ヒートショック試験)条件でのバインダーの密着性に優れたカーボンバインダーを提供すること。
【解決手段】 共役ジエン系化合物由来の構造単位と芳香族ビニル系化合物由来の構造単位とエチレン性不飽和カルボン酸系化合物由来の構造単位とを含有するポリマーと酸化防止剤とを含有するカーボンバインダーであって、前記ポリマーが動的粘弾性測定の損失角正接(tanδ)が最大となる温度が−10〜60℃であり、且つ損失角正接(tanδ)の最大値が0.3〜1.5であることを特徴とするカーボンバインダー、前記バインダーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、光学特性に優れ、機械強度が高い環状オレフィン/スチレン類共重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 環状オレフィンとスチレン類とを、ハロゲン系有機溶剤中、周期表第4族遷移金属化合物の共存下で共重合する環状オレフィン/スチレン類共重合体の製造方法。好ましくは、前記周期表第4族遷移金属化合物が、下記式(1)で示されるものである。
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【課題】熱安定性アニオン交換体を提供する。
【解決手段】一般式(I):


[式中、Ak、Ak’、Ak’’は、互いに独立して、同一のまたは異なるC〜C18アルキル基であり;nは5〜18の間の偶数であり;x+y=2であり;且つXはCl、Br、OH、HCO、HSO、1/2(SO)、1/2CO、NO、F、HPO、1/2HPO、1/3POである]の構造を有する芳香族モノマー及び架橋剤に基づくアニオン交換体であって、OH形態で少なくとも60℃の作業温度に比較的長時間にわたって耐性があるアニオン交換体、その作製方法及びその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】新規熱硬化性重合液及びそれを用いた熱硬化性樹脂の提供。
【解決手段】本発明は、(メタ)アリル基と脂環式エポキシ基を1個ずつ持つ化合物(a)を主成分とする化合物群を重合することにより、25℃における粘度を10 mPa・sから2,000,000mPa・sとしたことを特徴とする液状硬化性重合液を提供する。 (もっと読む)


【解決手段】ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト保護膜材料による保護膜を形成し、露光を行った後、現像を行うリソグラフィーによるパターン形成方法において用いる前記レジスト保護膜材料であって、カルボキシル基及び/又はスルホ基を有する繰り返し単位と炭化水素からなる繰り返し単位とを共重合した高分子化合物をベースとするレジスト保護膜材料。
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を適用することによって、真空中の露光におけるレジスト膜からのアウトガスの発生を抑えることができる。本発明のレジスト保護膜材料は、アルカリ現像液に可溶なためにレジスト膜の現像と同時に剥離が可能である。更に、レジスト膜を溶解することが無く、ミキシング層を形成することも無いので、現像後のレジスト形状に変化を与えることがない。 (もっと読む)


【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示される置換可ヒドロキシスチレンの繰り返し単位および置換可ヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位を有することを特徴とする高分子化合物。
【化61】
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【課題】従来のヒドロキシスチレン系、ノボラック系のネガ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式(1)で示されるヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位を有する高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化47】
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【課題】復元性及び耐クリープ性に優れ、硬化後の表面タックが短期間でほとんどなく、長期にわたって表面の汚れが少なく、屋外で長期使用下においても表面にクラックや変色が生じない、耐候性に優れた硬化物を与えうる硬化性組成物の提供。
【解決手段】(A)一般式(1)で示される架橋性シリル基を少なくとも1個有するビニル系重合体、(B)カルボン酸金属塩、及び/又は、(C)カルボン酸及び/又はカルボン酸誘導体、並びに、(D)アミン化合物を含有してなり、当該(D)アミン化合物は少なくとも2種からなり、そのうち少なくとも1種は融点が20℃以上の第1級及び/又は第2級アミン化合物であることを特徴とする硬化性組成物。 (もっと読む)




【課題】 193nmドライリソグラフィのための上面反射防止コーティング及び障壁層として用いるのに適切な組成物を提供すること。
【解決手段】 本発明は、193nmリソグラフィのための上面反射防止コーティング及び障壁層として用いるのに適切な組成物を開示する。本発明の組成物は、塩基水溶液に可溶であり、193nmにおいて低い屈折率を有する。本発明の組成物は、主鎖及びフッ素化半エステル部分を有する塩基水溶液に可溶なポリマーを含む。フッ素化半エステル部分は主鎖からのペンダント基である。本発明はまた、本発明の組成物をリソグラフィに用いることによって基板上にパターン付けされた層を形成する方法を開示する。 (もっと読む)




【課題】 湿式現像可能な反射防止膜組成物及びその使用方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、基板表面とポジ型フォトレジスト組成物の間に塗布する反射防止膜組成物を開示する。反射防止膜組成物は、水性アルカリ性現像液中で現像可能である。この反射防止膜組成物は、ラクトン、マレイミド、及びN−アルキルマレイミドから成る群から選択される1つ又は複数の部分を含む少なくとも1つのモノマー単位と、1つ又は複数の吸光性部分を含む少なくとも1つのモノマー単位とを含むポリマーを含む。このポリマーは酸に不安定な基を含まない。本発明はまた、フォトリソグラフィにおいて本発明の反射防止膜組成物を用いて、レリーフ像を形成し転写する方法を開示する。 (もっと読む)


官能化ポリマーと微粒子充填剤とを含む組成物を提供する。該組成物は少なくとも3つの成分を含む:(1)第一級または第二級アミン官能性を含む官能基等の第一タイプの官能性を有するポリマー、(2)アルコキシシランまたは他のシリカ相互作用官能性等の第二タイプの官能性を有するポリマー、および(3)少なくとも2種の微粒子充填剤。一方の官能化ポリマーは他方の官能化ポリマー存在下で作製することができる。 (もっと読む)


【課題】外殻内に疎水性塗料用添加剤を高濃度で含有するエマルションを提供すること。
【解決手段】本発明のエマルションは、水性媒体中に樹脂粒子が分散されている。樹脂粒子は、樹脂で構成された外殻と外殻に内包された塗料用添加剤とを含み、その平均粒子径が100nm〜500nmである。塗料用添加剤の水に対する溶解度は1g/100g未満である。好ましくは、塗料用添加剤は、硬化触媒、消泡剤、表面調整剤、レベリング剤、紫外線吸収剤および酸化防止剤からなる群から選択される少なくとも1つである。 (もっと読む)


【課題】 安価で入手し易いモノマーを用いて安価に製造でき、耐熱性および接着性に優れ、高い透明性を有する樹脂およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の重合体環化物またはその水素添加物は、スチレン誘導体単位および共役ジエン誘導体単位を含有する共重合体(A)のオレフィン性二重結合をハロゲン化および/または水酸基化した共重合体(B)を環化してなる重合体環化物またはその水素添加物であって、ガラス転移温度が105℃〜200℃である。 (もっと読む)


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