【課題】外観や光学特性に優れ、高生産性を兼ね備えた光学用成形体、特にフィルム及びそのようなフィルムを製造する為の樹脂組成物を提供する事を目的とする。
【解決手段】耐熱性、位相差発現性、高生産性を兼ね備え、かつゲル発生およびフィルムの発泡が抑制された負の配向複屈折性を有する光学フィルムを提供することを目的とする。具体的には（メタ）アクリル酸エステル単位と芳香族ビニル単位を含む共重合体（Ａ）をイミド化剤により反応させて得られる共重合体であって、当該共重合体中に含まれる芳香族ビニル単位の割合が２５〜５０ｍｏｌ％、かつカルボン酸基量が０．０１〜０．１５ｍｍｏｌ／ｇ、かつイミド化率／カルボン酸基量が１７０を超えることを特徴とする樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】カップリング共重合体とその製造方法に関し、良好なゴム機械物性を有するカップリング共重合体を提供する。
【解決手段】該カップリング共重合体は共役ジエン及びアロマチックビニルモノマーにより重合された共重合体を一含アルケニル官能基のアルコキシシランカップリング剤と反応して得られ、情況に応じて水素化反応を経由して水素化カップリング共重合体を得ることができる。このカップリング剤は式（１）に示された化学式を有する。


その中Ｒ^１及びＲ^４は同一又は不同一のアルキル、Ｒ^３は含アルケニル官能基、Ｒ^５はアルキル又はアルケニル、ｑは１又は０であり；ｑ＝０の時、ｋ＝ｊ＝０、Ｒ^２はアルコキシ、１≦ｎ≦３、０≦ｍ≦２、ｍ＋ｎ＝３であり；ｑ＝１の時、ｋ＋ｊ＝３、Ｒ^２は−（ＣＨ_２）ｒ、ｒ＝１〜６、ｍ＋ｎ＝３であり；このカップリング剤は高効率のカップリング効率が有り、カップリング共重合体は高含量の４アーム重合体を有する。 （もっと読む）

【解決手段】分子中に極性を持ちポリマーに密着性を与える単位と、酸不安定基で保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位を含有する化学増幅型レジスト用ポリマーとして、フッ素置換されたアルキル鎖を持つスルホン酸スルホニウム塩を側鎖に有する繰り返し単位の含有量が５モル％未満で、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が６０モル％以上のポリマーを用いる化学増幅型レジスト材料。
【効果】クロム化合物による膜表面のようなパターン形成が難しい基板上でも、パターン剥がれやパターンの崩壊を発生しにくいレジスト材料を提供できる。 （もっと読む）

【課題】２種の複屈折部材が積層された構成、あるいは特定の光学特性を有する微粒子が添加された構成をとらずとも、例えば単層でありながら、少なくとも可視光領域において波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性（逆波長分散性）を示す、可とう性に優れた新規な光学フィルムを提供する。
【解決手段】共役ジエン単量体を重合して構築される共役ジエン単量体構造単位を必須成分として有する弾性有機微粒子（Ｇ）と、複素芳香族基を有するα，β−不飽和単量体単位を構成単位として有する重合体とを含む樹脂（Ａ）からなる。前記樹脂（Ａ）は主鎖に環構造を有するアクリル重合体を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン樹脂と極性基をもつ熱可塑性樹脂の相溶性を改善し、安定なドメイン分散構造をとり、有機溶剤耐性、機械的強度および外観に優れる樹脂組成物を与える相溶化剤、該相溶化剤を含有する樹脂組成物、その成形体を提供する。
【解決手段】α−オレフィンモノマーと下記一般式（１）：
【化１】


（式中、Ｘは重縮合系樹脂の連結基とエステル交換反応またはアミド交換反応し得る官能基を示し、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜１０の整数を示し、ｏは１〜４の整数を示す。）
で表される化合物との共重合体からなることを特徴とする熱可塑性樹脂用相溶化剤、該相溶化剤とポリオレフィン樹脂と極性基をもつ熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及びこれに用いるネガ型化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する
【解決手段】（ア）架橋反応によりネガ化する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、（Ａ）ヒドロキシスチレンに由来する繰り返し単位を含有しない樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いるネガ型化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の視野角特性改善に有用であり、またリワーク性に優れ、かつ、粘着剤を介して偏光板やガラスセルなど他の部材と積層し液晶表示装置として使用したときの耐久性に優れる位相差フィルムを提供する。
【解決手段】２層の外層の間に内層を有する位相差フィルムであって、両外層はそれぞれ非スチレン系重合材料からなり、内層は負の固有複屈折値を有する重合材料からなり、該位相差フィルムの固有複屈折値が負であり、かつＨａｚｅが０〜１％である位相差フィルムであって、内層を構成する重合材料が、下記の群（Ａ）から選択された化合物、群（Ｂ）から選択された化合物、および群（Ｃ）から選択された化合物を共重合して得られた共重合体を含む重合体を含有する位相差フィルム。
群（Ａ）：炭素原子数２以上のα−オレフィン
群（Ｂ）：芳香族ビニル化合物
群（Ｃ）：環状オレフィン （もっと読む）

【課題】重合時におけるモノマー残存量の低減及び、生産効率の向上を目的とする。
【解決手段】少なくとも不飽和カルボン酸エステル（ａ）、芳香族ビニル化合物（ｂ）及び不飽和カルボン酸無水物（ｃ）を、下記一般式（３）で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの存在下で共重合させる、共重合体の製造方法。
【化１】


（式中、Ｒ^４は、水素、ハロゲン、水酸基、アルコキシ基、ニトロ基、直鎖状又は分岐状の炭素数１〜１２のアルキル基を表す。ｍは１〜３の整数、ｎは０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】加硫物とするときの加工性が良好で、加硫物とした場合には、優れたウェットスキッド抵抗性を示しつつ低ヒステリシスロス性も良好で両者のバランスに優れており、実用上十分な耐摩耗性や破壊特性をも満足し、さらには生産性にも優れる分岐状共役ジエン−芳香族ビニル共重合体、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】ランダム共重合体である、共役ジエン−芳香族ビニル共重合体（Ｃ）であり、前記共役ジエン−芳香族ビニル共重合体（Ｃ）中の芳香族ビニル結合量が３８〜４５質量％であり、共役ジエン全結合単位中のビニル結合量が４３モル％を超えて５０モル％以下であり、前記共役ジエン−芳香族ビニル共重合体（Ｃ）の重量平均分子量（Ｍｗ−Ｃ）が７００，０００〜１，０００，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ−Ｃ）に対する重量平均分子量（Ｍｗ−Ｃ）の比（（Ｍｗ−Ｃ）／（Ｍｎ−Ｃ））が１．７〜３．０であり、１２０℃で測定されるムーニー粘度（ＭＬ−Ｃ）とムーニー緩和率（ＭＳＲ−Ｃ）とが、下記式（１）の関係を満たす、分岐状共役ジエン−芳香族ビニル共重合体（Ｃ）。

｛１９５−（ＭＬ−Ｃ）｝／３００≦（ＭＳＲ−Ｃ）≦｛２３５−（ＭＬ−Ｃ）｝／３００・・・（１）
（ここで、式（１）において、９０≦（ＭＬ−Ｃ）≦１２５である。） （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス及びアウトガス低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】繰り返し単位（Ａ）〜（Ｃ）を含有する樹脂（Ｐ）及び沸点１５０℃以下の溶媒を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法。
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｂ）酸の作用により分解してカルボン酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｃ）炭素−炭素不飽和結合を含有する繰り返し単位 （もっと読む）

【課題】冬用タイヤのウエット操縦安定性能及びドライ操縦安定性能を低下させることなく、氷上性能を向上し得るゴム組成物及びそれをトレッドに用いた冬用タイヤを提供する。
【解決手段】変性前の重量平均分子量が１５×１０⁴を超え２００×１０⁴以下である高分子量変性共役ジエン系重合体を含むゴムマトリックス１００質量部に対して、変性前の重量平均分子量が２．０×１０³〜１５×１０⁴である低分子量変性共役ジエン系重合体５〜５０質量部及び補強性充填材２０〜２００質量部を配合してなるゴム組成物であって、加硫後のゴムマトリックス中に気泡を気泡率として５〜５０体積％有することを特徴とするゴム組成物及びそれをトレッドに用いてなる冬用タイヤである。 （もっと読む）

【課題】電圧保持率に優れ、かつ、カラーフィルターとＩＴＯ膜との密着性が高いＩＴＯ膜付きカラーフィルターを提供すること、また、該ＩＴＯ膜付きカラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ膜付きカラーフィルターは、インクジェット方式によってカラーフィルター用インクを吐出して形成された着色部を備えたカラーフィルターと、カラーフィルターの着色部が形成されている側の面に設けられ、ケイ素化合物で構成された中間膜と、中間膜の前記カラーフィルターとは反対側の面に設けられ、酸化インジウムスズで構成されたＩＴＯ膜とを有し、ＩＴＯ膜の平均膜厚が、１０００〜２０００Åであり、前記カラーフィルター用インクは、着色剤と、着色剤が溶解および／または分散する液性媒体と、下記式（１４）で表される重合体Ｍとを含むことを特徴とする。
（もっと読む）

【課題】感度、解像力、ラインウィズスラフネスに優れるレジストパターン形成方法およびそれに用いる現像液の提供。
【解決手段】 架橋反応によりネガ化する、ネガ型化学増幅レジスト組成物を用いて膜を形成する工程（１）、該膜を露光する工程（２）、露光後にアルカリ現像液を用いて現像する工程（４）、現像後に有機溶剤からなる現像後処理液を用いて処理する工程（５）をこの順番で有することを特徴とする、レジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】電圧保持率に優れ、かつ、カラーフィルターとＩＴＯ膜との密着性が高いＩＴＯ膜付きカラーフィルターを提供すること、また、該ＩＴＯ膜付きカラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ膜付きカラーフィルターは、インクジェット方式によってカラーフィルター用インクを吐出して形成された着色部を備えたカラーフィルターと、前記カラーフィルターの前記着色部が形成されている側の面に設けられた酸化インジウムスズで構成されたＩＴＯ膜とを有し、前記ＩＴＯ膜の平均膜厚が、１０００〜２０００Åであり、前記カラーフィルター用インクは、着色剤と、前記着色剤が溶解および／または分散する液性媒体と、下記式（１４）で表される重合体Ｍとを含むことを特徴とする。
（もっと読む）

【課題】補強用充填材として配合されるシリカ、あるいはシリカとカーボンブラックなどとの相互作用に優れる変性共役ジエン系重合体を含み、特に低発熱性を向上させ得ると共に、良好な破壊特性、耐摩耗性などを有し、かつ上記共役ジエン系重合体の効果を高めと共に簡便に製造し得るゴム組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合体中に（ｉ）プロトン性アミノ基及び／又は脱離可能な官能基
で保護されたプロトン性アミノ基と、（ｉｉ）加水分解能を有するケイ素含有官能基とを
有する変性共役ジエン系重合体を含むゴム成分に、（Ｂ）周期律表（長周期型）の２族から１５族のうちのいずれかに属する金属元素のアルコキシド又はアセチルアセトナート錯塩である金属元素含有化合物からなる縮合促進剤及び（Ｃ）充填材を混練工程において配合することを特徴とするゴム組成物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高解像度でラインエッジラフネスが小さく、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すレジスト膜を与えるポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、Ｃ６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基。ＲはＨ、Ｃ１〜１２のアルキル基、Ｏ又はＳを有していてもよく、Ｃ２〜１２のアルケニル基、Ｃ２〜１２のアルキニル基、又はＣ６〜１０のアリール基。Ｒ³〜Ｒ⁶はＨ、あるいはＲ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、又はＲ⁵とＲ⁶が結合してベンゼン環を形成してもよい。ｍ、ｎは１〜４の整数。） （もっと読む）

【課題】従来の反射防止膜として種々の要求性能は維持しつつ、膜形成時（焼成時）に昇華物の発生を抑制できる、新たな下層膜形成組成物、並びに該層膜形成組成物を用いるフォトレジストパターン形成法を提供する。
【解決手段】下記式（ａ）で表される構造単位を有するポリマー、架橋剤、並びに溶媒を含む、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
（もっと読む）

【課題】単一でありながら逆波長依存性を有するフィルムを作製できる重合体、該重合体により作製したフィルム、およびその他の光学材料を提供すること。
【解決手段】エチレンまたは炭素原子数が３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（Ａ）を３０〜７０モル％、
所定の化学式で表される環状オレフィンから導かれる構成単位（Ｂ）を２０〜５０モル％、
芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位（Ｃ）を０．１〜２０モル％含み、
下記要件［１］〜［３］を同時に満たすことを特徴とする、環状オレフィン系重合体。
［１］移動粘度計によりＡＳＴＭ Ｊ１６０１に準じた測定方法にて測定を行った場合の１３５℃のデカリン中での極限粘度［η］が０．４〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
［２］^１Ｈ−ＮＭＲにおいて６．０〜６．８ｐｐｍの範囲にピークが存在する。
［３］示差走査熱量計（ＤＳＣ）より求められるガラス転移温度が１００℃〜２００℃の範囲にある。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基又はアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。ｍは１〜４の整数である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】重合溶液から回収した炭化水素化合物溶媒を重合溶媒に再使用する共役ジエン系重合体の製造方法であって、回収した炭化水素化合物溶媒中のビニル結合含有量調整剤をより高割合で除去した共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属触媒を重合開始剤として用いて、共役ジエンと必要に応じて他の単量体とを炭化水素化合物溶媒中で重合する共役ジエン系重合体の製造方法であって、ルイス塩基性化合物を用いて重合を行った重合溶液から炭化水素化合物溶媒を分離精製し、該炭化水素化合物溶媒を重合溶媒として重合反応器に再供給する工程を有し、該工程において、ルイス塩基性化合物を、炭化水素化合物溶媒から抽出蒸留によって除去する共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）