【課題】共役ジエンゴムの保存安定性を改善し、シリカ化合物との高い反応性を維持すると共に、よりよい物性を保つ、変性共役ジエンゴムの製造方法の提供。
【解決手段】本発明の共役ジエンゴムの製造方法と該共役ジエンゴムの組成物は、前記方法が、共役ジエンまたは共役ジエンとビニル芳香族炭化水素を炭化水素溶液中で有機アルカリ金属化合物を使用したアニオン重合により重合して、高分子鎖末端にアルカリ金属を含む共役ジエンゴムを取得し、高分子鎖末端にアルカリ金属を含む共役ジエンゴムを少なくとも１つの有機シラン化合物と反応させて変性共役ジエンゴムを取得する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、スカムの低減、及び、現像欠陥の低減を同時に満足したパターンを形成できるネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスクを提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（ａ）、及び、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位（ｂ）を有する高分子化合物、並びに、（Ｂ）架橋剤を含有する、ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】コア／シェル型イオン交換樹脂のコアを選択的に架橋させ、これによりその後のスルホン化等の変換がシェルに限定的となるシェル官能化イオン交換樹脂を製造する方法を提供する。
【解決手段】高度に架橋されたコアを有するコア／シェルコポリマーから、改良されたシェル官能化イオン交換樹脂を製造する。 （もっと読む）

【課題】熱黄変しにくく、レオコン性、仕上がり性および耐ハジキ性に優れた水性塗料組成物を提供すること。
【解決手段】ウレタン結合を有するエチレン性不飽和モノマー、イミド結合を有するエチレン性不飽和モノマー、及びウレア結合を有するエチレン性不飽和モノマーの中から選ばれる一種以上の水素結合性を持つ含窒素不飽和モノマー（Ａ）及び該不飽和モノマー（Ａ）以外の不飽和モノマー（Ｂ）を共重合モノマーとして含有していることを特徴とする熱硬化性アクリル樹脂組成物、及び該アクリル樹脂組成物と疎水性相互作用を示す増粘剤を含有することを特徴とする水性塗料組成物による。 （もっと読む）

【課題】高い放射線感度を有し、低温での硬化が可能な感放射線性樹脂組成物から絶縁膜を形成してアレイ基板を提供し、そのアレイ基板を用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】［Ａ］同一または異なる重合体分子中に下記式（１）の基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、および［Ｂ］光酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物を用いて低温の加熱硬化によって絶縁膜１２を形成し、低温硬化により配向膜１０を形成してアレイ基板１を製造する。アレイ基板１から液晶表示素子を構成する。
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【課題】体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高く、電気的安定性の高い層間絶縁膜を形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）で表される構成単位と、式（ａ２）で表される構成単位と、式（ａ３）で表される構成単位及び／又は式（ａ４）で表される構成単位とを有する共重合体、（成分Ｂ）発生酸のｐＫａが４以下である光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】ＫｒＦ光、電子線及びＥＵＶ光を用い、高解像かつ高エッチング耐性を有し、更に現像残渣欠陥が低減されたネガ型のパターンを形成可能なパターン形成方法、その方法に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位を含有し、且つ、芳香族基を含有する、酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する非イオン性化合物、及び、（Ｃ）溶剤を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像することによりネガ型パターンを形成する工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低温での離型性に優れ、フィルミングの発生が少なく、低温定着性と耐熱保存性とを両立し、長期使用においても高画質が得られる、小粒径かつ粒度分布の狭いトナー。
【解決手段】少なくともポリエステル樹脂とスチレン／アクリル樹脂とアクリル樹脂とを含むトナー粒子のトナーであって、前記樹脂のフローテスターにおけるダイ穴径およびダイ長さが１．０ｍｍ、せん断応力が７．３５５×１０^５Ｐａ、昇温速度が３．０℃／ｍｉｎでのＴ１／２法温度が下記式（１）乃至（３）を満たし、且つ、該トナー粒子は前記ポリエステル樹脂粒子の外側に前記スチレン／アクリル樹脂微粒子から成る層Ａと、前記アクリル樹脂微粒子から成る層Ｂを含み、前記樹脂微粒子層Ａが層Ｂの外側にあるトナー。７０℃≦ポリエステル樹脂≦１００℃・・・（１）１２０℃≦スチレン／アクリル樹脂≦２００℃・・・（２）１２０℃≦アクリル樹脂≦１５０℃・・・（３） （もっと読む）

【課題】 密着性、硬度、耐熱性・耐光性に優れた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物の少なくとも１種、ならびに、（ａ２）オキセタニル基を含む不飽和化合物の少なくとも１種を共重合して得られる共重合体（Ａ）と蛍光体（Ｘ）を含む、硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、保存安定性及び硬化膜の透明性に優れ、現像寛容度が広い感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるオキシムスルホネート化合物、酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位を有する樹脂、及び、溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ａｒ¹はｏ−アリーレン基又はｏ−ヘテロアリーレン基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表す。２以上存在するＲ²のうち、少なくとも１つはアルキル基、アリール基又はハロゲン原子である。
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【課題】シリカ系無機充填剤等の各種無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、実用上十分な耐摩耗性及び破壊強度を満足する変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を使用して測定された分子量分布が１．２〜３．５の範囲である多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって共役ジエン系重合体を得る工程と、
前記共役ジエン系重合体の重合活性末端に、シリル基に結合したアルコキシ基の総数が４個以上であり、１つ以上の窒素原子を有する化合物を、反応させる工程と、
を有する、変性共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能をバランス良く向上できるゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤの各部材（特に、トレッド）に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及びアルコキシ置換スチレンを共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体を含むゴム成分と、シリカと、ガラス転移温度−４０〜−１０℃の、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含み、前記ジエン系ゴムゲルの含有量が前記ゴム成分１００質量部に対して、１０〜３０質量部であるゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、未露光部における残渣の低減を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、現像液、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、ナノインプリント用モールド、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、酸の作用により前記高分子化合物を架橋する、２個以上のベンゼン環と４個以上のアルコキシメチル基とを有するフェノール性化合物、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、露光後に、炭素数７又は８のエステル系溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順番で有する、レジストパターン形成方法。
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【課題】制電性に優れる熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】〔Ａ〕ゴム質重合体の存在下、芳香族ビニル化合物及びシアン化ビニル化合物を含む単量体を重合して得られた、グラフト樹脂、〔Ｂ〕芳香族ビニル化合物に由来する単位（ｂｙ）を含み、シアン化ビニル化合物に由来する単位（ｂｘ）を、０質量％以上ｒ_１質量％以下で含む（共）重合体と、単位（ｂｙ）を含み、単位（ｂｘ）を、ｒ_１質量％を超えてｒ_２質量％以下で含む重合体と、単位（ｂｙ）を含み、単位（ｂｘ）を、ｒ_２質量％を超えて６０質量％以下で含む重合体とからなる重合体、〔Ｃ〕プロピレンに由来する構造単位を含むプロピレン系重合体、〔Ｄ〕芳香族ビニル化合物に由来する単位を含む重合体ブロックと、共役ジエン化合物に由来する単位を含む重合体ブロックとを備えるブロック共重合体並びに〔Ｅ〕ポリエーテル系ブロックを含むブロック共重合体を含む。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れたゴム組成物の原料に好適な変性共役ジエン系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】炭化水素溶媒中で有機アルカリ金属化合物を用いて共役ジエン化合物を含む単量体を重合させて共役ジエン系重合体を得、共役ジエン系重合体を含む炭化水素溶媒にカルボニル基と置換アミノ基とを有する化合物及び以下の化合物を添加する方法。
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【課題】現像後のレジストの解像性及び金属めっき耐性が良好であり、かつレジスト剥離性の良好な光重合性樹脂組成物、光重合性樹脂積層体、レジストパターンの形成方法、並びに回路基板、リードフレーム及び半導体パッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（Ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、及び（Ｃ）光重合開始剤：０．０１〜２０質量％を含有する光重合性樹脂組成物であって、該（Ａ）バインダー用樹脂が特定構造の化合物を含むモノマー成分の重合生成物である、光重合性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】熱可塑による成形が可能であり、耐ケミカルクラック性や機械強度が高く、さらには表面硬度にも優れているメタクリル系樹脂組成物及びこの成形体が得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：８０〜９８．５質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも１種の他のビニル単量体単位：１．５〜２０質量％と、を含むメタクリル系樹脂（Ａ）：１００質量部と、
以下の（ｉ）及び（ｉｉ）の条件を満たすテトラフルオロエチレン樹脂（Ｂ）：０．０１〜１０質量部と、
を、含有する
メタクリル系樹脂組成物。
（ｉ）数平均分子量（Ｍｎ）が０．５万以上５０万未満
（ｉｉ）平均粒子径が０．５μｍ以上８μｍ以下 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 酸分解性基を有する樹脂（Ａ）と、
式（Ｂ３）


［式（Ｂ３）中、
Ａ_ａ^＋は、酸分解性基を有し、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｂ３）と、
式（Ｅ１）


［式（Ｅ１）中、
Ａ_Ｎ^＋は、窒素原子を有する有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｅ１）と
を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】成形流動性に優れ、成形体の表面硬度が高く、成形体を熱板溶着する際にも糸曳きが発生せず、さらには成形体の耐溶剤性や衝撃強度も高いメタクリル系樹脂組成物を得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位８０〜９８．５（質量％）と、
少なくとも１種のメタクリル酸エステルに共重合可能な他のビニル単量体単位１．５〜２０（質量％）と、を含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量が６００００〜２５００００であり、ＧＰＣ溶出曲線から得られるピーク分子量（Ｍｐ）の１／５以下の分子量成分が７〜４０％含まれているメタクリル系樹脂（Ａ）と、
フッ素系樹脂（Ｂ）と、
を、含有するメタクリル系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
汎用プラスチックと比較して非常に高い熱伝導率を有しながら、押出成形性やブロー成形性にも優れた熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
熱可塑性ポリエステル系樹脂、単体での熱伝導率が５Ｗ／ｍ・Ｋ以上を示す高熱伝導性無機化合物、メタクリル酸メチル３０〜１００重量％、メタクリル酸メチルを除く（メタ）アクリル酸エステルの単量体０〜７０重量％、およびこれらと共重合可能なビニル系単量体０〜２０重量％を共重合して得られる、１００ｃｃのトルエンに０．４ｇを溶解して３０℃で測定した比粘度が０．５〜７である共重合体（Ｃ）、よりなることを特徴とする、高熱伝導性熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）