【課題】電子線やＥＵＶを露光源とする光リソグラフィー技術により、優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンの製造できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物に含有される新規な化合物を提供すること。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、
Ｘは、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基などを表すが、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して脂肪族炭化水素基を形成していると好ましい。］
〔２〕前記化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】導電率、耐熱性及び耐光性に優れる有機導電膜を形成可能な導電膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］共役系高分子、及び［Ｂ］式（１）で表される構造単位（Ｉ）を含む共重合体を含有する有機導電膜形成用組成物である。式（１）中、Ｒ^１はメチレン基、炭素数２〜１２のアルキレン基、炭素数４〜２０の２価の脂環式基、フェニレン基又はナフチレン基である。Ｒ^２は、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基又はこれらの基の塩である。
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【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 酸分解性基を有する樹脂（Ａ）と、
式（Ｂ３）


［式（Ｂ３）中、
Ａ_ａ^＋は、酸分解性基を有し、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｂ３）と、
式（Ｅ１）


［式（Ｅ１）中、
Ａ_Ｎ^＋は、窒素原子を有する有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｅ１）と
を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリアクリル酸を含むバインダを用いると、負極活物質への被覆性が高いためバインダ自体が抵抗となり、負荷特性が悪化する。
【解決手段】アクリル酸とスチレンスルホン酸のアルカリ金属塩との共重合体を負極用バインダとする。スチレンスルホン酸のアルカリ金属塩はイオン伝導性が高いため、電極内部抵抗が低減され負荷特性が向上する。またスチレンスルホン酸のアルカリ金属塩は中和型モノマーであるので、Liイオンと反応するカルボキシル基が減少し不可逆容量が低減されるため初期効率と充放電容量が向上する。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ａは−（ＣＲ²₂）_m−、Ｂは−（ＣＲ⁵₂）_n−を示し、Ｒ²、Ｒ⁵は水素原子又はアルキル基、Ｒ²同士又はＲ⁵同士が互いに結合して環を形成してもよい。ｍ、ｎは１又は２、Ｒ⁶はアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基、Ｒ³はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であり、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。ｐは０〜４の整数。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素を溶媒とし、少なくとも１種の単量体成分を含有する溶液に、重合開始剤成分として下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）の順に添加して、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹はケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有していてもよい炭素原子数３〜２０のヒドロカルビレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｒ¹は、メチル基等を表す。Ｘ^１は、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Ａ^１は、単結合又は結合置換基を表し、Ｘ^２は、単結合または酸素等を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜３６の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】ナノエッジラフネスを低減することができ、かつ焦点深度に優れるフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される化合物、及び［Ｂ］下記式（２−１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物である。
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【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
（ａ）分散度が１．２以下
（ｂ）重量平均分子量が２０００以上６５００以下
（ｃ）ガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃以上 （もっと読む）

【課題】インキの保存安定性ならびに吐出性安定性に優れ、低温乾燥で良好な塗膜耐性（耐擦性、耐水性、耐溶剤性）を発現する水性インクジェットインキ用バインダー樹脂組成物の提供。
【解決手段】イオン性官能基を有さない芳香族エチレン性不飽和単量体（Ａ）０〜２０重量％；
スルホン酸基含有エチレン性不飽和単量体（Ｂ）またはリン酸基含有エチレン性不飽和単量体（Ｃ）０．５〜３．０重量％；
非イオン性の水溶性エチレン性不飽和単量体（Ｄ）０．１〜３．０重量％；
架橋性エチレン性不飽和単量体（Ｅ）０．１〜１０重量％；
を含むエチレン性不飽和単量体を乳化重合してなる樹脂微粒子（Ｆ）を含む水性インクジェット用バインダー樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ドライエッチング耐性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード（ＥＬ）のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）多環芳香族基を有する繰り返し単位（ａ）及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ａ）、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
（イ）該膜をＡｒＦエキシマレーザーにより露光する工程、及び
（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能をバランス良く向上できるゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤの各部材（特に、トレッド）に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及びアルコキシスチレンを共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体を含むゴム成分と、窒素吸着比表面積が１００ｍ^２／ｇ以下であるシリカ（１）と、窒素吸着比表面積が１８０ｍ^２／ｇ以上であるシリカ（２）とを含有し、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカ（１）及び（２）の合計含有量が３０〜１５０質量部であることを特徴とするゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】高い耐刷性を有し、且つ耐網絡み性の良好なネガ型感光性平版印刷版を与える。
【解決手段】支持体上に、側鎖に重合性二重結合基を有する繰り返し単位と側鎖にシラノール基を有する繰り返し単位を有する重合体、および光重合開始剤を含有する感光層を有するネガ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能をバランス良く向上できるゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤの各部材（特に、トレッド）に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及び下記式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体を含むゴム成分と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含むゴム組成物に関する。
［化１］


（式中、Ｒ^１は、炭素数が１〜１０の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】高感度、良好なラフネス特性、良好なパターン形状、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含有する繰り返し単位を含む樹脂（Ａａ）と、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂であって、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位（Ｂ）を含む樹脂（Ａｂ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高解像性であり、且つ、ラフネス特性及びパターン形状が良好な感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位（Ａ）と、プロトンアクセプター基を有する繰り返し単位（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する基を有する繰り返し単位（Ｃ）を含み、且つ、繰返し単位（Ａ）として、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される少なくとも１つの繰返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は炭素数２〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基のうち、環Ｗと結合するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わらない。環Ｗは、炭素数２〜３６の複素環を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中の各符号は、特許請求の範囲及び明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にＫｒＦ露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び溶剤（Ｃ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂（Ａ）中の全繰返し単位に対して、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位の含有量が２０モル％未満で、かつ一般式（Ｉ）以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。
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