【課題】低発熱性と耐摩耗性と貯蔵弾性率とを鼎立させることができるゴム組成物を提供する。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、変性共役ジエン系重合体、及び共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、並びに充填材を含むゴム組成物であって、該変性共役ジエン系重合体は、その分子鎖中に該充填材と親和性を持つ官能基を有する。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
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【課題】印刷特性に優れた受容層を形成するためのアクリレート系共重合体を提供する。
【解決手段】アクリレート系共重合体は、式（１）のモノマー単位を１〜３０ｍｏｌ％と、式（２）または式（３）のいずれか一方もしくは両方のモノマー単位を５〜４０ｍｏｌ％とを含み、式（１）中のＸは、Ｎ（ＣＨ₃）₂またはＮ⁺（ＣＨ₃）₃Ｃｌ^-であり、式（１）および式（３）中のＲは、ＨまたはＣＨ₃である。
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【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂、レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す；Ｌ^１は、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^１−^＊、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−^＊、−Ｂ^１−^＊又は−Ｂ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４−^＊を表す；Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルカンジイル基、炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基、炭素数１〜８のアルカンジイル基と炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基とが組み合わさった基又はフェニレン基を表す；Ｂ^１及びＢ^２は、フェニレン基を表す；＊は−Ｏ−との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】溶液から金属、特にパラジウムを除去するスカベンジャー担体を提供する。
【解決手段】スカベンジャー担体を、リンカーを介して担体に結合した、ヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基を有する1,3-ケトエステル類又は1,3-ケトアミド類又はこれらの混合物から選択されるペンダント基を含む官能性化担体と、置換されているヒドラジン又はそれらの塩又は特定の化学構造を有するアミンとの反応により得る。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン単位、（４）インデン単位の繰り返し単位を含有し、（１）の繰り返し単位は０．５〜１０モル％、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は５０〜９９．５モル％を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン類単位、（４）インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、ＬＥＲの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】長寿命な有機発光素子を低コストで製造すること。
【解決手段】陽極と陰極間に、第１の発光層と第２の発光層を含む積層された複数の有機化合物層を有し、前記第１の発光層が、第１の電荷輸送性化合物および第１の発光性化合物を含み、前記第２の発光層が、第２の電荷輸送性化合物および第２の発光性化合物を含み、前記第１の発光性化合物は発光スペクトルにおいて４４０〜５００ｎｍの波長範囲に発光極大波長を有し、前記第２の発光性化合物は発光スペクトルにおいて５１０〜６５０ｎｍの波長範囲に発光極大波長を有し、前記第１の電荷輸送性化合物中に含まれる、特定の不純物に由来する塩素原子等の濃度が５０ｐｐｍ未満であり、前記第２の電荷輸送性化合物中に含まれる、特定の不純物に由来する塩素原子等の濃度が５０〜５００ｐｐｍである有機発光素子。 （もっと読む）

【課題】解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、不飽和カルボン酸に由来する構造単位を有する付加重合体に、オキシラニル基を有する不飽和化合物を反応させた樹脂を含み、
重合性化合物が、デンドリマーおよびハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合性化合物である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】母粒子表面に樹脂微粒子を固着させてなる表示用粒子において、所望の組成を有する樹脂微粒子を短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】重合性モノマー及び架橋性モノマーを含む重合成分を重合させて樹脂微粒子を形成後、重合を停止させる樹脂微粒子作製工程を有し、得られる樹脂微粒子における重合成分由来の構成単位全体に対する架橋性モノマー由来の構成単位の割合が２０ｍｏｌ％以上であり、重合成分に占める架橋性モノマーの割合をＡ₁ｍｏｌ％、目標組成の樹脂微粒子における重合成分由来の構成単位全体に対する架橋性モノマーに由来する構成単位の割合をＡ₂ｍｏｌ％とすると、樹脂微粒子作製工程で不等式（１）を満たす間に重合を停止させる樹脂微粒子の製造方法。
（Ａ₁／Ａ₂）×７４−２７≦前記重合成分の重合転化率
≦（Ａ₁／Ａ₂）×９０−２０ （１） （もっと読む）

【課題】高感度及び高解像度であり、さらに、高透明性、高接着性、高バリア性を有する感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成される透明絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂、（Ｂ）重合性多官能化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂が、（ａ１）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び／又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、（ａ２）エチレン性不飽和結合を有し、かつ、オキセタン環を有するオキセタンモノマーと、（ａ３）エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマー（前記（ａ１）及び（ａ２）のモノマーを除く）と、の共重合体からなる樹脂である感光性樹脂組成物及びこの樹脂組成物を用いて形成された透明絶縁膜。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジスト膜、該レジスト膜を用いたレジスト塗布マスクブランクス及びレジストパターン形成方法、並びに、化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される基により、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により形成されたレジスト膜であって、膜厚が１０〜２００ｎｍであるレジスト膜。


（式中、Ｒ_１は、炭化水素基を表す。Ｒ_２は、水素原子又は炭化水素基を表す。Ａｒは、アリール基を表す。Ｒ_１は、Ａｒと結合して、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成していてもよい。＊は前記フェノール性水酸基の酸素原子との結合位置を表す。） （もっと読む）

【課題】優れた加工性、作業性を有し、低燃費性、耐摩耗性、ウェットグリップ性能を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及び該タイヤ用ゴム組成物をタイヤの各部材（特に、トレッド）に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物及び下記式（ＩＩ）で表される化合物によりシリカ表面に化学処理が施された表面処理シリカを含むタイヤ用ゴム組成物。


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【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を重合開始剤成分として用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は置換基を有してもよい炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基を表す。） （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する。
［化１］


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、炭化水素基を表す。ｒは整数を表す。） （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、少なくとも一方の末端が窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する変性剤で変性され、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、アミノ基又は炭化水素基を表し、そのうち少なくとも１つはアミノ基）。
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【課題】α位にメチル基等の置換基を有するスチレンならびにその誘導体に由来する繰り返し単位をアーム部に有し、かつ単峰性の星型ポリマーを提供する。
【解決手段】アニオン重合法により、下記一般式（１）


で表される化合物を単独重合させた後、あるいは該一般式（１）で表される化合物と共重合可能な化合物と共重合させた後、さらに、グリコールジエーテル類の存在下に多官能性カップリング剤を反応させるポリマーの製造方法。 （もっと読む）