【解決手段】本発明は、化学増幅型レジスト材料のベース樹脂が酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物及びポリスチレン換算重量平均分子量が１００，０００〜５００，０００のアルキルビニルエーテルもしくはアルキルビニルエーテル共重合体の両者を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法に関する。
【効果】本発明によれば、基板上に塗布した膜厚が５〜１００μｍと厚い場合のパターン形成において、基板付近、パターン底部の抜け性（溶解性）に優れ、感度を向上させることができ、更には、５〜１００μｍと厚い場合、現像時間の短縮が可能になるといった特徴を有した化学増幅ポジ型レジスト材料を提供できる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】α位にメチル基等の置換基を有するスチレンならびにその誘導体に由来する繰り返し単位をアーム部に有し、かつ単峰性の星型ポリマーを提供する。
【解決手段】アニオン重合法により、下記一般式（１）


で表される化合物を単独重合させた後、あるいは該一般式（１）で表される化合物と共重合可能な化合物と共重合させた後、さらに、グリコールジエーテル類の存在下に多官能性カップリング剤を反応させるポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】置換マレイミド基を有する繰り返し単位と、第１の官能基を含有する繰り返し単位とを有し、該第１の官能基が、電磁波の照射もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する官能基である高分子化合物（Ａ）を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】電子線又は極紫外線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたアニオン交換膜を提供することにある。
【解決手段】熱可塑性重合体マトリックス中に、１μｍ未満の粒径の架橋アニオン交換体粒子が分散している複合均質アニオン交換膜であって、該架橋アニオン交換体が、下記一般式（１）；


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は同一または異なって、炭素数１〜８の炭化水素基を示す。Ｘはアニオンを示す。ｎは４〜１２の整数を示す。）で表される構成単位と、一分子中に少なくとも二つのビニル基を有する架橋性モノマーから誘導される構成単位とを有するものであることを特徴とする複合均質アニオン交換膜。 （もっと読む）

【課題】解像性および耐久性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）を含む着色感光性樹脂組成物。
（Ａ）着色剤
（Ｂ）下記（ａ）と（ｂ）を共重合させて得られる共重合体に、（ｃ）を反応させて得られる樹脂
（ａ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤
（Ｅ）多官能チオール化合物
（Ｆ）溶剤 （もっと読む）

【課題】反応性官能基が導入されたポリスチレン系樹脂粒子の表面が多孔質であるポリスチレン系樹脂粒子の製造方法及び該製造方法により得られたポリスチレン系樹脂粒子を提供する。
【解決手段】ハロアルキルスチレン系モノマーと芳香族多官能ビニル系モノマー、及び重合開始剤を含むモノマー混合物を、分散安定剤を含有する水中で懸濁重合させることによって得られる多孔質樹脂粒子の製造方法であって、樹脂粒子表面に細孔を有し、その平均孔径が０．１〜５０μｍであリ、かつ反応性のハロゲン基を持つ多孔質樹脂粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】オルガノボランとビニル芳香族化合物とを含む重合開始剤系を提供すること。
【解決手段】この重合開始剤系は、２液型の硬化性結合性組成物、特に、硬化してアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物、さらに特に、硬化して低表面エネルギー基材を結合しうるアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物を調製するのに特に有用である。オルガノボランと、少なくとも１種の重合性モノマーと、少なくとも１種のビニル芳香族化合物とを含む結合性組成物も記載される。 （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及び下記式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する。
［化１］


（式中、Ｒ^１は、炭素数が１〜１０の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】高反射基板や段差基板に対するリソグラフィ工程において、良好なパターン形状を得ることができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性組成物において、ヒドロキシスチレン由来の構造単位（ＨＳ１）と、下記式（ａ−１）で表される基を有する構造単位（ａ１）とを含有し、かつ酸の作用により解離して酸性官能基を生じる酸解離性基を実質的に有していない重合体［Ａ１］と、ヒドロキシスチレン由来の構造単位（ＨＳ２）を含有し、かつ前記酸解離性基を有する重合体［Ａ２］と、を含むものとする。
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【課題】導電性ポリマーの原料として有用な新規高分子化合物の提供。
【解決手段】


〔Ｒ¹は、−ＳＯ₂−Ｏ−、−Ｏ−又は−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−を示し、Ｒ²は、重合性官能基を示し、ｎは、１〜６の整数である。〕を重合させて得られる高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。
【化１】
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【課題】繊維に対する柔軟性付与効果に優れる柔軟剤組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）で表される単量体（ａ）を構成単位とする高分子化合物（Ａ）を含有してなる柔軟剤組成物。
【化１】


式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基である。Ｘは−ＣＯＮ（Ｒ^２）Ｒ^３、−ＣＨ_２ＮＨＣＯＮ（Ｒ^４）Ｒ^５又は−ＣＨ_２ＮＨＣＯＯＲ^６で表される基であり、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１及びＬ^２は２価の飽和炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；環Ｗは２価の脂肪族環を表し、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよく、該環に含まれる水素原子はヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ｒ^２は水素原子、アルキル基等を表す；ｓは０〜３の整数；ｔは０〜２の整数；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する共重合体を提供する。
【解決手段】炭素数１〜４のフッ素化アルキル基及び水酸基で置換されたアルキル基を有する繰返し単位（ＨＯ−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−）、炭素数１〜４のフッ素化アルキル基を有するスルホンアミド基を有する繰返し単位（Ｒ^３−ＳＯ_２−ＮＨ−）、およびカルボキシル基を有する繰返し単位から選ばれる少なくとも１つの繰返し単位（Ｉ）と、スルホ基を有する繰返し単位（ＩＩ）とを含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００である共重合体。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含む酸発生剤及びこの酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；環Ｗは、２価の脂肪族環、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子等で置き換わっていてもよく、該環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置換されていてもよい；ｓは０〜３の整数；Ｒ^１は、脂肪族炭化水素基；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】リンの酸を含むモノマーから懸濁重合プロセスによって形成された新規ポリマービーズ組成物を提供する。
【解決手段】１）少なくとも２０〜９９．９重量パーセントのリン含有有機モノマー；および２）３０〜１０００μｍの平均サイズ；を有するポリマービーズ組成物。 （もっと読む）

【課題】短工程で重合性光酸発生モノマーを製造する方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）のスルトンを、重合性基を有する求核試薬と反応させて得たカチオン塩を第２のカチオンと交換する。


（式中、各Ｒは独立してＦ、Ｃ_１−１０アルキル、フッ素置換Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０シクロアルキル、もしくはフッ素置換Ｃ_１−１０シクロアルキルであって、ただしＲの少なくとも１つはＦであり；ｎは０〜１０の整数であり、並びにｍは１〜４＋２ｎの整数である。） （もっと読む）