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Fターム[4J100AB10]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 芳香族オレフィン (7,664) | 置換基を有する芳香族オレフィン (2,235) | 芳香族環がF及び/又はF含有アルキル基のみで置換されている芳香族オレフィン (68)

Fターム[4J100AB10]に分類される特許

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【課題】ポリフルオロアルキルアルコール(メタ)アクリル酸誘導体を共重合単位として含有する含フッ素共重合体であって、それを表面改質剤の有効成分として用いたとき、表面改質剤の耐熱性をさらに改善せしめたものを提供する。
【解決手段】一般式
CnF2n+1(CH2CF2)a(CF2CF2)b(CH2CH2)cOCOCR=CH2 (ここで、Rは水素原子またはメチル基であり、nは1〜6の整数であり、aは1〜4の整数であり、bは1〜3の整数であり、cは1〜3の整数である)で表されるポリフルオロアルキルアルコール(メタ)アクリル酸誘導体およびスチレンまたはその誘導体の共重合体よりなり、重量平均分子量Mwが2,000〜20,000,000である含フッ素共重合体およびそれを有効成分とする表面改質剤。 (もっと読む)


【課題】電子線あるいは極紫外線(EUV光)を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、優れたパターン形状、高解像性(高い限界解像性など)、高ラインウィズスラフネス(LWR)性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】(A)酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物と、(C)フッ素原子、フッ素原子を有する基、珪素原子を有する基、炭素数が6以上のアルキル基、炭素数が6以上のシクロアルキル基、炭素数が9以上のアリール基、炭素数が10以上のアラルキル基、少なくとも1個の炭素数3以上のアルキル基で置換された芳香環基、及び、少なくとも1個の炭素数5以上のシクロアルキル基で置換された芳香環基からなる群より選択される1つ以上の基を有する樹脂と、(D)溶剤とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程(1)、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程(2)、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程(4)をこの順番で有するパターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】押出機内でのサージングの発生を抑制できるSPSペレットの製造方法を提供する。
【解決手段】重合器において、重合触媒を用いてスチレンモノマーを重合して、シンジオタクチック構造を主に有するスチレン系重合体を含む粉体状物を製造し、前記粉体状物を押出機で押出溶融するスチレン系重合体ペレットの製造方法であって、前記粉体状物を重合器から前記押出機に供給する前に、前記粉体状物に前記重合触媒の失活剤を添加するスチレン系重合体ペレットの製造方法。 (もっと読む)


【課題】熱導電性が向上した定着器部材を提供する。
【解決手段】定着器部材100の熱導電性を向上させるため、コア−シェル粒子を定着器部材100の層に分散させる。コア−シェル粒子は、シェル層に囲まれたグラフェンコアを含む。シェル層は、ポリペンタフルオロスチレン、ポリスチレンおよびポリジビニルベンゼンからなる群から選択されるポリマーを含む。コア−シェル粒子は、定着器部材100の中間層120または剥離層130に分散させることができる。 (もっと読む)


【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】(A)分子内にビニルオキシ基を含有する低分子化合物及び/又は分子内にビニルオキシ基及び活性水素と反応しうる第2の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第1の官能基を含有する高分子化合物と、(B)分子内にN−マレオイルアミノ基を含含有する低分子化合物及び/又は分子内にN−マレオイルアミノ基及び活性水素と反応しうる第2の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第1の官能基を含有する高分子化合物とを、含有し、前記2種類の高分子化合物のうちの少なくとも一方の高分子化合物を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 (もっと読む)


【課題】混練することなく、材料の表面等の必要な場所に限定して存在させることが可能で、溶出、揮発等することなく、有効成分の含有が低濃度であっても、抗菌性を抗菌性、防カビ性、抗ウィルス性に優れた効果を持続的に発揮する抗菌剤を提供する。
【解決手段】一般式(1):


(式(1)中、R、Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のフルオロアルキル基である。CとAは共有結合またはイオン結合で結合し、Aは水素原子または陽イオンである。)で表される有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤。 (もっと読む)


【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1):


(式中、R、Rはフルオロアルキル基を、Rは水素原子等を、R6は単結合、2価の有機基を表す。)で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 (もっと読む)


【課題】粉体床重合により芳香族ビニル化合物重合体を製造する場合において、高い転化率を示し、かつ生成物が攪拌翼や反応器へ付着することなく安定に運転することができる、芳香族ビニル化合物重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】特定の触媒溶液を反応器に連続的または段階的に供給しながら、前記反応器内で芳香族ビニル化合物を重合させる工程を含む、粉体重合による芳香族ビニル化合物重合体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】高Tg及び高い透明性を有し、汎用モノマーであるメチルメタクリレート主成分とする光ファイバーを提案することを目的とする。
【解決手段】コア部及び該コア部の外周に配置されたクラッド部からなる光ファイバーであって、前記コア部が、(a)メチルメタクリレート75〜98重量%及び2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン2〜25重量%由来の共重合体、(b)メチルメタクリレート75〜95重量%及び4−トリフルオロメチル 2,3,5,6,テトラフルオロスチレン5〜25重量%由来の共重合体又は(c)メチルメタクリレート50〜80重量%及び2−トリフルオロメチルスチレン20〜50重量%由来の共重合体を主たる構成成分としてなり、前記クラッド部が、前記コア部の屈折率以下の屈折率を有する重合体からなることを特徴とする光ファイバー。 (もっと読む)


【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式[RSiX4−a]で表されるシラン化合物、及び式[SiX]で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも1種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つGPCによる重量平均分子量が1000〜200000であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるRはフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数1〜20のアルキル基を示し、Xは塩素原子、臭素原子又はOR(R:1価の有機基)を示し、aは1〜3の整数を示す。〕。 (もっと読む)


【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超LSI製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位aを含む、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化1】
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【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の有機薄膜トランジスタゲート絶縁層用樹脂組成物は、フッ素原子を含む基を有する繰り返し単位を有する高分子化合物(A)、及びフッ素樹脂である活性水素化合物(B)を含有する。 (もっと読む)


【課題】望ましくない分離を生ずることなく水中に分散され得るかまたは水で容易に希釈され得るコナゾール殺菌剤、特にエポキシコナゾールの配合剤を提供する。
【解決手段】α)少なくとも1個のスルホン酸基を有する少なくとも1つのタイプのモノエチレン性不飽和モノマー、β1)20℃の温度での水溶解度が30g/l未満の少なくとも1つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、及びβ2)20℃の温度での水溶解度が50g/l以上の少なくとも1つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、を含む少なくとも3つの異なるモノエチレン性不飽和モノマーからなる新規コポリマー。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも1つ含有する含フッ素化合物、および(F)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。(x)アルカリ可溶性基、(y)アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、(z)酸の作用により分解する基。 (もっと読む)


【課題】難燃性に優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂(A)と、芳香族ビニル単量体(b1)0.5質量%以上99.5質量%以下、下記一般式(I)で表される単量体(b2)0.5質量%以上99.5質量%以下、シアン化ビニル単量体(b3)0質量%以上15質量%以下を含む単量体混合物[但し、単量体(b1)、(b2)及び(b3)の合計は100質量%である。]を重合した、重量平均分子量が5000〜200000の範囲の芳香族骨格を有する重合体に、硫黄成分が0.001質量%以上1.4質量%以下の範囲となるように前記芳香族骨格にスルホン酸基及びスルホン酸塩基の少なくとも1種が導入されてなる流動性向上剤(B)と、を含有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。


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【課題】タイヤ用ゴム組成物として用いた際に、低温域および高温域の双方において優れたグリップ性能を発揮する樹脂およびゴム組成物、ならびに該ゴム組成物を用いて得られる高性能なタイヤを提供する。
【解決手段】本発明の樹脂は、下記式(I)で表されるモノマー(I)と下記式(II)で表されるモノマー(II)とを共重合させて得られることを特徴とする。
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【課題】タイヤ用ゴム組成物として用いた際に、低温域および高温域の双方において優れたグリップ性能を発揮する樹脂およびゴム組成物、ならびに該ゴム組成物を用いて得られる高性能なタイヤの提供。
【解決手段】下記式(I)で表されるモノマー(I)と下記式(II)で表されるモノマー(II)とを共重合させて得られることを特徴とする。
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【課題】核酸合成の固相合成用担体として有用な多孔質樹脂ビーズを提供すること。
【解決手段】第一の芳香族モノビニル化合物−ジビニル化合物−(メタ)アクリロニトリル−第二の芳香族モノビニル化合物系共重合体からなる多孔質樹脂ビーズであって、第二の芳香族モノビニル化合物が、脱水縮合反応によりカルボキシル基と結合し得る基を含有し、かつ乾燥体積が2〜3mL/gであることを特徴とする、多孔質樹脂ビーズ。 (もっと読む)


【課題】核酸合成の固相合成用担体として有用な多孔質樹脂ビーズを提供すること。
【解決手段】第一の芳香族モノビニル化合物−ジビニル化合物−(メタ)アクリロニトリル−第二の芳香族モノビニル化合物系共重合体からなる多孔質樹脂ビーズであって、第二の芳香族モノビニル化合物が、脱水縮合反応によりカルボキシル基と結合し得る基を含有し、かつ膨潤体積が3〜6mL/gであることを特徴とする、多孔質樹脂ビーズ。 (もっと読む)


コポリマーが4個から7個までの炭素原子を有するイソオレフィンとアルキルスチレンから生成される。そのコポリマーは実質的に均一な組成分布を有する。そのコポリマーは約8質量%から約12質量%までのアルキルスチレン及び少なくとも85質量%のイソオレフィンを有する。そのコポリマーは約1.1質量%から約1.5質量%までのハロゲンでハロゲン化されることが好ましい。そのコポリマーは弾性ナノ複合材料中にあってもよい。配合コンパウンド中のナノクレーの良好な分散を得るために、少なくとも一種の硬化促進剤がメルカプトベンゾチアゾールジスルフィド、メルカプトベンゾチアゾール、シクロヘキシルベンゾチアゾールジスルフィド、ジブチルチオ尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、4,4-ジチオジモルホリン、亜鉛ジメチルジチオカルバメート、及び亜鉛ジブチルホスホロジチエートからなる群から選ばれる。 (もっと読む)


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