【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明の酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、即ち溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する効果が非常に高い特徴を有する。このレジスト膜を用いてドットパターン又は格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】
常温乾燥型又は比較的低温での焼付け乾燥型の水性塗料組成物に使用したときに、形成される塗膜の耐水性を向上させることのできる変性ビニル系樹脂、及び該樹脂を用いた水性塗料組成物を提供すること。
【解決手段】
カルボキシル基とケトン性カルボニル基とを有する変性ビニル系樹脂であって、該変性ビニル系樹脂が、１級アミノ基、２級アミノ基及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基とケトン性カルボニル基とを有する化合物（Ａ）と、酸無水物基含有ビニル系樹脂（Ｂ）とを反応させることにより得られたものであることを特徴とする変性ビニル系樹脂、及びヒドラジン誘導体とを含む水性塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】樹脂の使用時あるいは成型加工時における熱分解温度を高めることにより樹脂の耐熱性を向上させ、かつ、イオウのような臭気発生へテロ元素を有しない熱分解温度向上剤並びに当該熱分解向上剤を含有する重合性組成物及び樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アントラセン誘導体を側鎖に保持する特定のジ（メタ）アクリレート単量体からなる熱分解温度向上剤であり、熱分解温度向上剤及び重合性化合物からなる重合性組成物をを熱又は活性エネルギー線により重合させる。 （もっと読む）

【課題】紫外線露光と現像とによりパターンを作製するために用いられる感光性組成物であって、作製したパターンに熱処理を行うことによって平滑性に優れた順テーパー形状のパターンに変化させることができ、かつ耐熱性と耐候性とに優れた塗膜を形成できる感光性組成物の提供。
【解決手段】カルボキシル基を有しない式量７０〜１２０のエチレン性不飽和モノマー（ａ）１０〜９０重量％、カルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー（ｂ）１０〜７０重量％を含むエチレン性不飽和モノマー（Ｍ）をラジカル重合してなる共重合体（Ｉ）中のカルボキシル基１モルに対し、
エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマー（ｃ）中のエポキシ基を０．２〜０．９モル反応させてなる感光性樹脂を含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外線露光と現像とによりパターンを作製するために用いられる感光性組成物であって、作製したパターンに熱処理を行うことによって平滑性に優れた順テーパー形状のパターンに変化させることができ、かつ耐熱性と耐候性とに優れた塗膜を形成できる感光性組成物の提供。
【解決手段】水酸基とカルボキシル基とを有しない式量７０〜１２０のエチレン性不飽和モノマー（ａ）１０〜５０重量％、水酸基含有エチレン性不飽和モノマー（ｂ）４０〜６０重量％、およびカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー（ｃ）１０〜３０重量％を含むエチレン性不飽和モノマー（Ｍ）をラジカル重合してなる共重合体（Ａ）中の水酸基１ｍｏｌに対し、
イソシアネート基含有エチレン性不飽和モノマー（ｄ）中のイソシアネート基を０．５〜１ｍｏｌ反応させてなる感光性樹脂（Ｂ）を含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】接着力、凝集力に優れるビニルエーテル共重合体およびこれを用いた粘着剤組成物を提供することであり、特に、皮膚刺激性が低く安全性の高いビニルエーテル共重合体およびこれを用いた医療用粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するビニルエーテル共重合体は、接着力、凝集力に優れており、かつ皮膚刺激性が低いため粘着剤用途に好適である。 （もっと読む）

【課題】流体可視化装置用トレーサー、フローサイトの精度管理用標準粒子、免疫診断薬用担体等での使用に際して蛍光染料の逸脱による退色変化が抑制されており、従来のものに比べて微細な粒径を有する水溶性蛍光染料を内包したビニル系重合体粒子の製造に適した製造方法及び、スケールダウンされたマイクロ流体デバイス等への利用に適したビニル系重合体粒子を提供する。
【解決手段】ビニル系単量体と水溶性蛍光染料とを水性媒体に分散させてビニル系単量体を重合させることにより前記水溶性蛍光染料を含むビニル系重合体粒子を作製するビニル系重合体粒子の製造方法であって、前記重合が、界面活性剤及び重合開始剤存在下に行われる乳化重合であり、ビニル系単量体として、カルボキシル基を有するビニル系単量体と、該ビニル系単量体の前記カルボキシル基と結合可能な官能基を備えたビニル系単量体とを前記水性媒体に分散させて前記乳化重合を実施する。 （もっと読む）

【課題】 低揮発性、低粘度で、基板を高精度に加工する光ナノインプリント技術に利用可能な、エッチング耐性に優れる光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体を提供する。
【解決手段】 （Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有し、２５℃における粘度が２０ｍＰａ・ｓ以下である光硬化性樹脂組成物であって、前記（Ａ）光重合性化合物が、（Ａ１）２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓ以下であり、沸点が２４０℃以上である光重合性化合物を（Ａ）成分全体の質量に対して３０〜９９質量％、及び（Ａ２）環状構造を含む多官能（メタ）アクリレート化合物を（Ａ）成分全体の質量に対して０．１〜５０質量％含有する、光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

変性ポリビニルラクタムおよびその使用。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂と混和性のよい新規重合体と熱可塑性樹脂を含む樹脂の提供。
【解決手段】（ａ）下記式（１）で表される末端修飾重合体および（ｂ）熱可塑性樹脂を含有する熱可塑性樹脂組成物。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は１価の有機基を示すか、又はＲ¹とＲ²が結合して隣接する炭素原子と共に環構造を形成してもよい。Ｒ⁴は水素原子またはメチル基であり、Ｒ⁵は１価の有機基を示す。Ｒ⁶は１価の有機基を示す。ｌは１〜１０の数を示し、ｍは１０〜１０００の数を示し、ｎは１〜５の数を示す。） （もっと読む）

【課題】良好なインプリント性と光硬化性を有し、機械的特性や各種耐久性、中でも光硬化性、耐熱性および弾性回復率に優れたインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。
【解決手段】光重合性単量体と、光重合開始剤と、酸化防止剤と、含有する光インプリント用組成物であって前記光重合性単量体の含有量が８０〜９９質量％であり、前記酸化防止剤の含有量が０．３〜７．質量％であり、前記酸化防止剤が、ヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、セミヒンダードフェノール系酸化防止剤のみ、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とセミヒンダードフェノール系酸化防止剤の混合物、またはヒンダードアミン系酸化防止剤のみ、のいずれかであることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式（２）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化８４】
（もっと読む）

【課題】β−ピネン系重合体を水素化する際に、時間あたり、容積あたりの生産効率の高い手法を用いても、高い水素化反応率を達成し、なおかつ望まない副反応を進行させない方法を提供すること。
【解決課題】β−ピネン単位を３０質量％以上含有する重合体の主鎖および／または側鎖にある不飽和結合を水素化反応により飽和結合に変換し、β−ピネン系重合体を得る反応において、水素化反応に供給する重合体溶液を反応工程に供給する前に１ＭＰａ以上の加圧条件下において水素ガスで処理した後、水素化反応を、金属を担持した水素化触媒を含む水素化反応条件下に該重合体を連続的に供給する連続反応方式もしくはセミ連続方式で反応させる水素化方法、並びに該水素化方法により得られるβ−ピネン系重合体。 （もっと読む）

【解決すべき課題】アリールボレート化合物と酸性化合物との組み合わせを用いる歯科用化学重合触媒において、重合活性のみならず、保存安定性にも優れた化学重合触媒を提供する。
【解決手段】（Ａ）アリールボレート化合物；（Ｂ）酸性化合物；（Ｃ）＋IV価または＋Ｖ価のバナジウム化合物；（Ｄ）下記一般式（１）：
【化２２】


式中、Ｘ^１，Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ、水素原子、または、水酸基、アル
コキシ基及びアルキル基からなる群より選択された置換基である、
で表されるフェノール系化合物；からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一つのフッ素化された単位を含む重合体の、平滑剤またはへこみ防止剤を提供する。
【解決手段】式Ｉで表される、少なくとも一つのフッ素化された単位を含む重合体の、平滑剤またはへこみ防止剤としての使用。


［式中、Ｒ^１はＣ_ｎＦ_２ｎ＋１−（ＣＨ_２）_ｍ−、ＡＣ_ｎＦ_２ｎ−（ＣＨ_２）_ｍ−等の基、Ｒ^２は、Ｈ、金属部分、（アルキル）アンモニウム部分、アルキル基、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１−（ＣＨ_２）_ｍ−等の基、Ｒ^３及びＲ^４は独立して、Ｈ、アルキル基又はフェニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】塗膜の硬度・耐汚染性を向上させると同時に、弱溶媒に対する溶解性をさらに向上させることは環境面で重要な課題である。
【解決手段】本発明は、フッ素原子を２以上含むフルオロオレフィンと前記フルオロオレフィンと共重合可能な二重結合含有モノマーとの共重合体であり、フルオロオレフィンに基づくフッ素の含有量が１０質量％以上であり、二重結合含有モノマーのうち、１０〜３０モル％が水酸基を含有し、２０〜８０モル％が炭素数３以上の分岐状アルキル基を含有し、水酸基価が４３〜６０の範囲にある含フッ素共重合体と弱溶剤を含有し、該含フッ素共重合体を７３％〜９０質量％含有する含フッ素共重合体溶液、および、前記含フッ素共重合体溶液と硬化剤とからなることを特徴とする塗料用組成物を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】潤滑油成分として好適に用いられる重合体を提供すること。
【解決手段】重合体が、ビニルエ−テル化合物の重合体又は共重合体であって、重合体の重量平均分子量が３００〜５００００であり、かつ、分子量分布のピ−ク強度の最大値に該当する分子量の３倍以上の分子量を有する重合体の含有量が全重合体の１重量％以下である重合体。 （もっと読む）

【課題】重合反応を阻害する有機溶媒や、人体への悪影響を及ぼす可能性の高い物質を使用することなく、共重合性の低いシリコン含有モノマーと、親水性モノマーの共重合を可能とし、眼用レンズとして必要な含水性、強度、透明性、酸素透過性に優れた眼用レンズを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンマクロマーおよび／あるいはシリコン含有（メタ）アクリレート、親水性モノマー、ビニルエーテルおよびそれらと共重合可能なモノマーから成り、酸素透過係数が８０×１０^−１１（ｃｍ^２／ｓｅｃ）・（ｍＬＯ_２／ｍＬ×ｍｍＨｇ）以上の含水性眼用レンズ。 （もっと読む）