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Fターム[4J100AJ03]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 不飽和カルボン酸 (5,033) | 不飽和モノカルボン酸 (3,277) | 置換基を有するもの (160)

Fターム[4J100AJ03]に分類される特許

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【課題】高い光学特性と耐熱性を有しながら大きな固有複屈折を有するフィルムおよびそのフィルムを延伸してなる位相差フィルムを提供する。
【解決手段】主鎖に環構造を有するアクリル樹脂からなり、ガラス転移温度が120℃以上であり、応力光学係数が1.0×10−9(1/Pa)以上であるフィルム、および、そのフィルムを延伸してなる位相差フィルムである。 (もっと読む)


【課題】鉄イオン沈着防止能を有するアミノ基含有共重合体を提供する。
【解決手段】式(N1)、(N2)、(N3)、(N4)から選ばれる1以上の単量体(N)、カルボキシル基含有単量体(B)、によるアミノ基含有共重合体。
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【課題】低水粉体比のセメント組成物のワーカビリティーの改善ならびに硬化体の性能向上を目的とするセメント分散剤を配合したコンクリート用混和剤セメント組成物を提供する。
【解決手段】セメント分散剤としての、以下の繰り返し単位(A)、(B)からなり、重量平均分子量が5,000〜100,000である共重合体であって、(A)のモル比率が10〜50%であって、(A)は下式で表される2種以上であって、


(B)のモル比率は30〜90%であって、(B)は下式(B−1)等で表されるいずれか1種若しくは2種以上である。
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【課題】塗工紙の重要物性である、ピック強度・湿潤ピック強度・印刷光沢を全て向上させ、加えて耐湿潤ベタツキ性や機械的安定性にも優れて塗工紙生産工程における操業性に優れる共重合体ラテックスを提供する。
【解決手段】特定範囲の組成を有する単量体混合物を乳化重合して得られる共重合体ラテックスであって、前記の乳化重合はその重合温度に関し、降温を行う事を特徴とする製造方法で得られた共重合体ラテックス。 (もっと読む)


本発明は、一般に、分子鋳型ポリマー(MIP)に関する。詳細には本発明は、比較的多量に製造しうる、再使用可能で環境に優しいMIP、それを製造する方法、およびそれを使用する(例えば、標的化合物(例えば、マイコトキシン)を捕捉および/または吸着する)方法に関する。本発明の組成物および方法は、食餌療法、予防、食物および飲料用の加工および製造に加え、研究、品質管理およびトレーサビリティへの適用をはじめとし、様々な適用において用途を見出す。 (もっと読む)


【課題】増粘用油中水型逆相ラテックス、その製造方法、および工業製品における、皮膚および毛髪のためのケア製品におけるまたは化粧料製剤、皮膚薬学的製剤、もしくは薬学的製剤の製造のための増粘剤および/または乳化剤の提供。
【解決手段】a)50〜80重量%の少なくとも1種の直鎖、分枝鎖または架橋された有機ポリマー(P)、b)5〜10重量%の油中水(W/O)型の乳化系(S1)、c)5〜45重量%の少なくとも1種のオイルおよびd)0〜5重量%の水を含む逆相ラテックス組成物、および、その製造方法および使用法。 (もっと読む)


【課題】紫外線露光と現像とによりパターンを作製するために用いられる感光性組成物であって、作製したパターンに熱処理を行うことによって平滑性に優れた順テーパー形状のパターンに変化させることができ、かつ耐熱性と耐候性とに優れた塗膜を形成できる感光性組成物の提供。
【解決手段】水酸基とカルボキシル基とを有しない式量70〜120のエチレン性不飽和モノマー(a)10〜50重量%、水酸基含有エチレン性不飽和モノマー(b)40〜60重量%、およびカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー(c)10〜30重量%を含むエチレン性不飽和モノマー(M)をラジカル重合してなる共重合体(A)中の水酸基1molに対し、
イソシアネート基含有エチレン性不飽和モノマー(d)中のイソシアネート基を0.5〜1mol反応させてなる感光性樹脂(B)を含有する感光性組成物。 (もっと読む)


【課題】
本発明の課題は、優れた機械的物性を有するPTFE樹脂の成形体を提供することにある。
【解決手段】
上記課題は、高分子量架橋性TFE重合体と、低分子量架橋性TFE重合体とを含有する架橋性PTFE組成物から成形されたPTFE樹脂の成形体によって解決される。
なし (もっと読む)


【課題】
多価金属イオンが存在するような無機粒子スラリー中においても、優れた流動特性を付与し、かつその流動性を維持できる流動性改良剤を提供すること。
【解決手段】
エチレン性不飽和カルボン酸(a1)、エチレン性不飽和カルボン酸塩(a2)及びアルコキシポリオキシアルキレングリコールのエチレン性不飽和カルボン酸エステル(a3)を必須構成単量体とする共重合体(A)を含有してなり、
(a1)単位、(a2)単位及び(a3)単位のモル数に基づいて、(a1)単位の含有量が9.9〜79.9モル%、(a2)単位の含有量が0.1〜40モル%、(a3)単位の含有量が20〜90モル%とからなることを特徴とする流動化剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐熱性、光学等方性がいずれも高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮できる、光学用面状熱可塑性樹脂成形体を提供する。
【解決手段】光学用面状熱可塑性樹脂成形体は、ラクトン環含有重合体を主成分として含み、光学用保護フィルム、光学フィルム、あるいは光学シートであり、光学フィルムの面方向の位相差が20〜500nm、光学シートの面方向の位相差が10nm未満となる偏光板を含む液晶表示装置に好適である。 (もっと読む)


【課題】ドープ率が高く、高濃度のポリアニリンを含む水分散体を安定に製造する方法の提供。
【解決手段】ポリアニリンを含む水性媒体中で、酸基含有モノマー(a)を、反応液の全質量の0.5質量%以下の乳化剤の存在下または非存在下で水溶液重合する際に、ポリアニリンに酸基含有モノマー(a)をドープさせてから、水溶液重合を開始することを特徴とするドープされたポリアニリン水分散体の製造方法である。 (もっと読む)


本発明は、80〜99.9重量%の少なくとも1つの非イオン性水溶性モノマーa)と、0.1〜20重量%のアミドまたは尿素基を含有するモノマーb)とを含む沈殿ポリマー(該モノマーは重合により組込まれている)に関する。本発明は更に、特に水性組成物のためのレオロジー改変剤としての、および頭髪用化粧品におけるレオロジー改変性セット剤としての、これらのポリマーの使用に関する。本発明は更に、該ポリマーを含有する水性組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】パターンの現像欠陥及びディスタンス依存性が改善された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)側鎖にノルボルナン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】焦点深度マージン(DOF)、表面荒れ、及び現像欠陥が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】−C(X1)(X2)(OR1)で表される基(X1及びX2は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基を表し、X1及びX2のどちらか一方又は両方に少なくとも1個以上のフッ素原子を含む。R1は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は酸分解性基を表す。)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び、少なくとも1つの極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 (もっと読む)


水性ポリマー分散液の製造方法であって、その際、ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、共役脂肪族ジエン、例えばブタジエン及びエチレン性不飽和カルボン酸ニトリル、例えばアクリロニトリルを水性媒体中で共重合させる方法を記載する。共重合は、分解澱粉及びラジカル形成開始剤の存在下で行われる。エチレン性不飽和カルボン酸ニトリルとは異なるモノマーの少なくとも一部は、前記エチレン性不飽和カルボン酸ニトリルを重合体混合物に添加する前に重合させる。 (もっと読む)


【課題】半導体リソグラフィーに用いられるレジスト膜や、レジスト膜の上層又は下層に形成される反射防止膜、ギャップフィル膜、トップコート膜等において、その膜厚やリソグラフィー特性のばらつきが極めて少ない半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法の提供。
【解決手段】本発明による半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法は、水酸基を有する繰り返し単位(A)、アルカリ現像液への溶解を抑制すると共に酸の作用で解離する基で水酸基を保護した構造を有する繰り返し単位(B)、ラクトン構造を有する繰り返し単位(C)、および環状エーテル構造を有する繰り返し単位(D)からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の繰り返し単位を含む共重合体と、塗膜形成用溶媒とを含む共重合体溶液の製造方法において、同一製造ロットを充填した複数容器における容器毎の共重合体濃度の幅を特定の範囲以下とすること、あるいは、特定の製造工程を含むものである。 (もっと読む)


【解決手段】(A)式(1)の繰り返し単位を有する高分子化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、(C)高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、(D)有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明により、環状アセタール構造を有する新規高分子添加剤を用いたレジスト材料が提供される。この高分子材料は撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 (もっと読む)


【解決手段】式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物。


(R1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Xは一般式(X−1)〜(X−3)で表されるいずれかの構造を表す。(X−1)の中でR2a、R2b、R3a、R3bは一価の有機基、R4はアルキル基、(X−2)の中でR5a、R5b、R6a、R6b、R7a、R7bは一価の有機基、(X−3)の中でR8a、R8b、R9a、R9bは一価の有機基で、繰り返し単位(1)の−(C=O)−O−結合にR2a〜R3b、R5a〜R7b、R8a〜R9bのいずれかが連結する。)
【効果】この高分子材料は波長200nm以下の放射線に対して優れた透明性を有し、樹脂の構造の選択により撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能であり、かつ入手及び取り扱いが容易な原料からの製造が可能である。 (もっと読む)


【課題】露光光に極紫外線を用いるパターン形成において、現像コントラストが高い微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板101の上に、酸不安定基を含まず且つラクトンを含む第1のポリマーと、酸不安定基を含む第2のポリマーと、光酸発生剤とを含むレジスト材料からなるレジスト膜102を形成する。その後、レジスト膜102に、極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜に対して現像を行って、レジスト膜からレジストパターンを形成する。 (もっと読む)


組成物は、前駆体酸コポリマーの中和生成物であるアイオノマーを含む。前駆体酸コポリマーは、2個〜10個の炭素原子を有するα−オレフィンの共重合単位と、前駆体酸コポリマーの総重量に基づき約20〜約30重量%の、3個〜8個の炭素原子を有するα,β−エチレン性不飽和カルボン酸の共重合体単位とを含み、メルトフローレートは約10〜約4000g/10mmであり、そして約40%〜約90%のレベルまで中和され、かつナトリウムカチオンから実質的になる対イオンを含む場合、前駆体酸コポリマーは、約0.7〜約25g/10mmのメルトフローレート、および検出不可能なまたは約30j/g未満の凍結エンタルピーを有するナトリウムアイオノマーを生成する。さらに、上記アイオノマー組成物を含む物品が提供される。
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