本発明は、エチルメタクリレート、少なくとも1種類のα,β-エチレン性不飽和アミド基含有化合物及び少なくとも1種類のモノエチレン性不飽和カルボン酸を重合して含んでいるコポリマーに関する。本発明は、さらにまた、少なくとも1種類のそのようなタイプのコポリマーを含んでいる化粧品及び医薬品、並びに、それらのコポリマーの使用にも関する。 （もっと読む）

本発明は、硬化性のアリールシクロブテン系オリゴマー又はポリマーと、少なくとも２つのジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）部分（各部分は、異なるフェニル基からのペンダントである）を含む化合物を含む溶解抑制剤とを含む組成物である。 （もっと読む）

本発明は、次の式(Ｉ)[該式中：Ｘ及びＹ基は同一又は異なっており、Ｈ又はＦを表し；Ｚ基は、Ｆ又は過フッ化アルキル基を表し；Ｗ基は、ＣＨ_２Ｏ又はＣＦ_２Ｏ又はＣＯ_２を表し；Ａｒ基は、少なくとも一の置換されていてもよい炭素含有芳香環を含む二価の基を表し；Ｑ基は、単結合、１≦ｎ≦１０の(ＣＦ_２)_ｎ、又はＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４を表し；Ｇ基は、好ましくは、Ｒ_１がＯＨ、Ｆ又はＣｌを表すＳＯ_２Ｒ_１；又はＲ_２がＨ又は置換されていてもよいアルキル基を表すＰ(=Ｏ)(ＯＲ_２)_２；又はＣＯ_２Ｈから選択されるカチオン交換基を表す]の少なくとも一の繰り返し単位を含み、０．５ｍｅｑ／ｇポリマー以上のイオン交換能を有するフルオロポリマーに関する。本発明はまた前記ポリマーの合成方法、前記ポリマーから得られる膜、及びこのような膜を含む燃料電池システムに関する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜として好適な、保存中のパーティクルの析出が僅かであるために現像欠陥が極めて少ない半導体レジスト用共重合体を得ることのできる半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法を提供する。
【解決手段】本発明は、極性基を有する繰り返し単位と脂環構造を有する繰り返し単位とを有する半導体レジスト用共重合体を含み、且つ、イオン性添加剤を含まない半導体レジスト用共重合体溶液を、アミノ基及び/又はアミド結合を有する樹脂を含むフィルターに通過させることを特徴とする半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法である。 （もっと読む）

【課題】光通信領域の光に対して吸収が小さく電気光学効果による屈折率の変化の大きい、光制御デバイス材料として有用な新規な光学樹脂材料を提供する。
【解決手段】主鎖に含フッ素脂肪族環を有する含フッ素重合体に電気光学効果を有する化合物が分散または結合されてなる光学樹脂材料。たとえば、下記モノマー単位（Ａ１１）と下記モノマー単位（Ｍ１１）を含む含フッ素重合体を含む被膜からなる電気光学効果を有する光学樹脂材料。
【化１】
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【課題】難脱水性汚泥に対しても非常に優れた脱水性能を発揮する凝集剤を提供することである。
【解決手段】式（１）で表されるビニルモノマーを必須構成単量体としてなるビニルポリマーを含有してなることを特徴とする凝集剤を用いる。
【化１】


ＯＡは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜２００の整数、Ｘは−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ’、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ’₄、−ＣＯＮＲ’₂又は−ＣＮで表される基、Ｍは金属原子、Ｒ及びＲ’は水素原子又は炭素数１〜６の有機基を示す。
Ｘが−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ₄、−ＣＯＮＨ₂又は−ＣＮで表される基であることが好ましい。さらに（メタ）アクリルアミドを必須構成単量体としてなるビニルポリマーが好ましい。 （もっと読む）

【課題】加水分解されにくいポリオキシアルキレン鎖含有ビニルモノマーの提供。
【解決手段】式（１）で表されることを特徴とするビニルモノマーを用いる。
【化１】


ＯＡは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜２００の整数、Ｘは−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ’、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ’₄、−ＣＯＮＲ’₂又は−ＣＮで表される基、Ｍは金属原子、Ｒ及びＲ’は水素原子又は炭素数１〜６の有機基を示す。
Ｘが−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ₄、−ＣＯＮＨ₂又は−ＣＮで表される基であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】加水分解されにくいセメント組成物用添加剤を提供することである。
【解決手段】式（１）で表されるビニルモノマーを必須構成単量体としてなるビニルポリマーを含有してなることを特徴とするセメント組成物用添加剤を用いる。
【化１】


ＯＡは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜２００の整数、Ｘは−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ’、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ’₄、−ＣＯＮＲ’₂又は−ＣＮで表される基、Ｍは金属原子、Ｒ及びＲ’は水素原子又は炭素数１〜６の有機基を示す。
Ｘが−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ₄、−ＣＯＮＨ₂又は−ＣＮで表される基であることが好ましい。さらに（メタ）アクリル酸（塩）を必須構成単量体としてなるビニルポリマーが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ゲル弾性率に優れた吸水性樹脂を提供することである。
【解決手段】式（１）で表されるビニルモノマーを必須構成単量体としてなる吸水性樹脂を用いる。
【化１】


ＯＡは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜２００の整数、Ｘは−ＣＯ₂Ｈ、、−ＣＯ₂Ｒ’、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ’₄、−ＣＯＮＲ’₂又は−ＣＮで表される基、Ｍは金属原子、Ｒ及びＲ’は水素原子又は炭素数１〜６の有機基を示す。
Ｘが−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ’₄又は−ＣＯＮＨ₂で表される基であることが好ましい。さらに（メタ）アクリル酸（塩）を必須構成単量体としてなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】共重合により生成する重合体の分子量を高めることができ、しかも、着色の少ない、所定の分子量の重合体を再現性良く製造することができる方法を提供する。
【解決手段】不飽和ポリアルキレングリコールエーテルと（メタ）アクリル酸（塩）および特定のマレイン酸系単量体からなる群から選ばれる少なくとも一種の不飽和カルボン酸を含む単量体成分を溶媒存在下で共重合することによる重合体の製造方法において、溶存酸素濃度を５ｐｐｍ以下にすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からＰｅｎｇ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ式を用いて算出した臨界定数の換算温度が０．９５以上、換算圧力が０．８０以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式（１）：
Ｒ_f¹・Ｉ_x （１）
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式（２）：
【化１】


で示される化合物および／または、一般式（３）：
ＣＦ₂＝ＣＦ（ＣＸ¹Ｘ²）_p（ＣＸ³Ｘ⁴）_qＩ （３）
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度においても水に容易に分散、溶解が可能なα，β−不飽和カルボン酸系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】α，β−不飽和カルボン酸を不活性溶媒中でラジカル重合開始剤の存在下に反応させるα，β−不飽和カルボン酸系重合体の製造方法において、下記一般式（１）；


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を、ｎは１または２を示す。）
で表される（メタ）アクリル酸誘導体の存在下で反応させることを特徴とするα，β−不飽和カルボン酸系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からＰｅｎｇ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ式を用いて算出した臨界定数の換算温度が０．９５以上、換算圧力が０．８０以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式（１）：
Ｒ_f¹・Ｉ_x （１）
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物、および一般式（２）：
ＣＨ₂＝ＣＨ（ＣＦ₂）_nＩ （２）
で示される化合物を共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法である。 （もっと読む）

油相、水相、少なくとも１の油中水（Ｗ／Ｏ）系の乳化剤、および少なくとも１の水中油（Ｏ／Ｗ）系の乳化剤を含有し、２０重量％乃至７０重量％の、好ましくは２５重量％乃至５０重量％の架橋アニオン性高分子電解質を含有する組成物であって、前記高分子電解質は、部分的もしくは完全に塩化された２−メチル−２−［（１−オキソ−２−プロぺニル）−アミノ］−１−プロパンスルホン酸と少なくとも１の中性モノマーおよび任意に少なくとも１の弱酸性官能基を有するモノマーとが重合したコポリマーであり、部分的もしくは完全に塩化された２−メチル−２−［（１−オキソ−２−プロぺニル）−アミノ］−１−プロパンスルホン酸のモル比は、３０％未満１％以上であることを特徴とする組成物。化粧料における適用。 （もっと読む）

【解決手段】 式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含む重量平均分子量１，０００〜５０，０００の高分子化合物。
【化１】


［Ｒ¹、Ｒ³はＨ又はＣＨ₃、Ｒ⁴はアルキレン基、Ｒ²は式（Ｒ²−１）〜（Ｒ²−４）から選ばれるラクトン構造を有する置換基。
【化２】


（ＹはＣＨ₂又はＯ、ＹがＣＨ₂の場合、Ｒ⁵はＣＯ₂Ｒ⁷、ＹがＯの場合、Ｒ⁵はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁷、Ｒ⁶はＨ又はアルキル基、Ｒ⁷はアルキル基又は該アルキル基の炭素−炭素結合間に酸素原子が挿入された基。）］
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅型ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて、高い感度、解像性、ドライエッチング耐性を与えると共に、基板密着性が良好で、パターン側壁の荒れが防止されたレジストパターンを与える。 （もっと読む）

真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる含フッ素重合体であって、炭素数２または３のエチレン性単量体であって少なくとも１個のフッ素原子を有する含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）に由来する繰り返し単位（Ｍ１）および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体（ｍ２）に由来する繰り返し単位（Ｍ２）を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）をフッ素原子を有する重合開始剤を用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】 式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含む重量平均分子量１，０００〜５０，０００の高分子化合物。
【化１】


［Ｒ¹、Ｒ³はＨ又はＣＨ₃。Ｒ⁴はアルキレン基。Ｒ²は式（Ｒ²−１）〜（Ｒ²−７）から選ばれる酸不安定基。
【化２】


（破線は結合位置及び結合方向を示す。Ｒ⁵はアルキル基、Ｒ⁶、Ｒ⁷はアルキル基。Ｚは結合する炭素原子と共に単環又は架橋環を形成する酸素原子を含んでもよい２価の炭化水素基、ｍは０又は１。）］
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて高い感度、解像性、エッチング耐性を与えると共に、優れた基板密着性、現像液親和性を有する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも３つの型のモノマー単位を含むコポリマーに関し、この３つの型のモノマー単位は、温度感受性単位、親水性単位及び少なくとも１つのｐＨ感受性部分を含む疎水性単位からなり、疎水性モノマー単位は共重合可能な不飽和脂肪酸に由来する。
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新規な不飽和アミノアルコールのアクリル（メタクリル）酸エステル、これらの製造方法、および架橋構造を有する膨潤性のハイドロゲル形成ポリマーの製造へのこれらの使用、ならびに架橋構造を有する膨潤性のハイドロゲル形成ポリマーが開示されている。 （もっと読む）

真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフィープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつ現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。（Ｉ）基板上にフォトレジスト層（Ｌ１）を形成する工程、および（ＩＩ）フォトレジスト層（Ｌ１）上に、親水性基Ｙを有する含フッ素重合体（Ａ）を含むコーティング組成物を塗布することにより反射防止層（Ｌ２）を形成する工程を含むフォトレジスト積層体の形成方法であって、含フッ素重合体（Ａ）が親水性基Ｙを含有する含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位を有し、さらに該含フッ素重合体（Ａ）が、（ｉ）親水性基ＹがｐＫａで１１以下の酸性ＯＨ基を含むこと、（ｉｉ）フッ素含有率が５０質量％以上であること、および（ｉｉｉ）含フッ素重合体（Ａ）１００ｇ中の親水性基Ｙのモル数が０．１４以上であることを特徴とする。
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