【課題】微細な顔料粒子を含有し、しかも分散性および安定性に優れた顔料分散組成物。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位またはその互変異性体構造で表される繰り返し単位を有する高分子化合物と、顔料微粒子とを含む顔料分散組成物。


（Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｊは−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ^４−、−ＯＣＯ−、メチレン基、フェニレン基、または−Ｃ_６Ｈ_４ＣＯ−基、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基、Ｗは単結合または２価の連結基、Ｒ^２は水素原子、あるいは置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基、Ｒ^３は水素原子または置換基） （もっと読む）

【課題】
ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適し、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にラインエッジラフネスに優れる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】
中心核に結合した３個以上の分岐を有し、少なくとも１個の分岐が以下の（１）〜（４）および（９）の繰返し単位からなる群から選ばれた少なくとも１種の繰返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする星型ポリマー。









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