【課題】本発明の目的は、撥水性、耐溶出性及び溶解性についての特性を満たしつつ、剥がれ耐性及び露光余裕度をバランス良く両立することができる液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ１］下記式（ｉ）で表される基を含む構造単位（Ｉ−１）を有する重合体、［Ａ２］上記［Ａ１］重合体と異なる重合体、及び［Ｂ］溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物である。下記式（ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の（ｎ＋１）価の炭化水素基である。ｎは、１〜３の整数である。［Ａ２］重合体の成膜状態での水との後退接触角は、［Ａ１］重合体よりも大きいことが好ましい。
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【課題】
空気中で紫外線照射した場合であっても表面特性に優れた塗膜を形成する事ができ、また、硬化性組成物を塗工した基材を一端保管した後に紫外線照射した場合であっても、表面特性に優れた塗膜を形成する事ができる硬化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、含フッ素（α置換）アクリル化合物を含む硬化性組成物を硬化する方法であり、(iv）該組成物の温度を５０℃以上としてから紫外線を照射して該組成物を硬化する工程を含む方法である。さらに本発明は、該方法が、前記工程（iv）の前に、（i）基材に該組成物を塗工する工程を含む方法、更には、前記工程（i）の後、工程（iv）の前に、（ii）該組成物を乾燥する工程、及び（iii）該組成物の温度を５０℃未満とする工程を含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＥＦ、ＣＤＵ及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する（メタ）アクリレート単位（Ｉ）を有し、重量平均分子量が３，０００以上８，０００以下である重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物。また、［Ａ］重合体は、酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）をさらに有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】現像時における未露光部の溶解を抑制することができるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）無機粒子、（成分Ｂ）酸基を有する分散剤、（成分Ｃ）溶剤、（成分Ｄ）（ａ−１）酸及び／又は熱によって脱離する基を有する構成単位と（ａ−２）架橋性基を有する構成単位とを有する重合体、並びに、（成分Ｅ）光酸発生剤を含有し、成分Ｄの酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】減水性に優れ、凝結遅延がなく、さらにフレッシュコンクリートの粘性が低く練り混ぜが容易であり、施工性に優れたセメント分散剤を提供する。
【解決手段】下記単量体（ａ）、（ｂ）及び必要に応じ（ｃ）を反応して得られる共重合体もしくはその塩であって、単量体（ａ）乃至（ｃ）の共重合比が質量基準で（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝５０〜９５：５〜５０：０〜４０である共重合体もしくはその塩（Ａ）と、（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝０〜４５：５〜３０：３０〜９０である共重合体もしくはその塩（Ｂ）とを含有する水硬性組成物用混和剤。（ａ）下記一般式（１）：Ｒ^１Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ（１）で表される化合物１モルに対し、炭素数２〜４のアルキレンオキサイドを０〜１０モル付加し、さらに該付加物をα，β−不飽和カルボン酸と反応させて得られるエステル化合物、（ｂ）α，β−不飽和カルボン酸又はその塩、及び、（ｃ）その他の共重合可能な単量体。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造し得るレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、樹脂及び酸発生剤を含有し、樹脂が、式（ａ１−０）で表される構造単位を含み、かつ、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であるレジスト組成物。
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【課題】従来技術と比較して、セメント混和剤における各種の性能をより一層改善しうる手段を提供する。
【解決手段】本発明の親水性共重合体の製造方法は、化学式１で表されるカルボン酸単量体と、化学式２で表されるポリエーテル単量体とを必須成分として含有する単量体成分を反応器中、溶媒の存在下で溶液重合させることを含む。そして、初期仕込み液中に存在するナトリウム、マグネシウムおよびカルシウムの合計量が、初期仕込み液中に存在する前記ポリエーテル単量体の質量を基準として１〜３５０質量ｐｐｍである点に特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ａ^Ｉ１は、炭素数１〜４９の４価の炭化水素基を表し、該炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。ｍは２又は３を表し、複数存在する環Ｗ^Ｉ１は、それぞれ独立に炭素数２〜３６の飽和複素環を表す。ｎは１又は２を表す。但し、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす。］ （もっと読む）

【課題】繊維製品などの基材に優れた撥水撥油性を付与し、その加工処理において、ロールへのポリマー付着性防止に優れる撥水撥油剤組成物を提供する。
【解決手段】第１単量体から形成されている第1重合体と、第２単量体から形成されている第2重合体を含んでなる含フッ素重合体であって、第１重合体の存在下で、第２単量体が重合されており、第１単量体および第２単量体の少なくとも一方は、含フッ素単量体（ａ）を含み、第２単量体は、ハロゲン化オレフィン単量体（ｂ）を含む含フッ素重合体。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物に有用な酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^１０１〜Ｒ^１０４はそれぞれ独立にアルキル基またはアルコキシ基であり、ｎ１は１〜５の整数であり、ｎ３およびｎ４はそれぞれ独立に０〜３の整数である。Ｘ⁻はアニオンである。
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【課題】低極性被着体に対する接着性が向上したアクリル系粘着テープを提供する。
【解決手段】アクリル系粘着剤組成物は、アクリル系ポリマー（Ａ）１００質量部と、側鎖にテルペン骨格を有し、重量平均分子量が１０００以上３００００未満の（メタ）アクリル系重合体（Ｂ）１〜７０質量部と、を含む。（メタ）アクリル系重合体（Ｂ）は、粘着性組成物としてのアクリル系ポリマー（Ａ）より重量平均分子量が小さい重合体であり、粘着付与樹脂として機能する。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、又は炭素数２〜１０のアルケニル基で、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。Ｒ³はフッ素原子又はトリフルオロメチル基、ｍは１〜５の整数。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの裾引き形状改善に効果が有り、ＬＥＲ性能が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の全固形分を基準として、１０〜３０質量％含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】集束性および密着性に優れ、かつ工業的に有利に製造できる高分子量ポリオレフィン樹脂の水性分散体を提供する。
【解決手段】重量平均分子量が２万以上であるポリオレフィン樹脂（Ａ）と、不飽和カルボン酸（ｂ−１） ３．５〜９０質量部および（メタ）アクリルアミド単量体（ｂ−２） １０〜９６．５質量部（ただし、（ｂ−１）と（ｂ−２）との合計は１００質量部）を含む単量体成分を共重合して得られる高分子分散剤（Ｂ）と、を含む、水性分散体である。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形成性を維持しつつ、高温処理等を行った場合においても、優れた色相が長期間維持される着色膜を形成可能な着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）染料と、（Ｂ）一般式（１）で表される構造単位及び一般式（２）で表される構造単位から選ばれる少なくとも１種の構造単位（ｂ−１）並びに酸性基を有する構造単位（ｂ−２）を含み、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であるバインダー樹脂と、（Ｃ）有機溶剤と、を含有する着色硬化性組成物。一般式（１）中、Ｒ^１１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３は水素原子又は不飽和二重結合を部分構造として含む炭素数３〜２０のカルボニル基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３の双方が水素原子であることはない。一般式（２）中、Ｒ^２０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２１〜Ｒ^２５は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はアリール基を表す。
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【解決手段】側鎖末端にヘキサフルオロヒドロキシプロピルカルボニルオキシ基を有する（メタ）アクリレート単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。
【効果】上記レジスト保護膜材料は、高撥水性かつ高滑水性性能を有する。そのため水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト成分の水への溶出が抑えられる上、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィーを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】毛髪の容積特性を改善するための新しいやり方の提供。
【解決手段】パーソナルケア用途において有用であるポリマーであって、モノマー単位当たり少なくとも１個の式（Ｉ）（ここで、各Ｒ¹は独立して、Ｈ、メチル又はエチルであり、各Ｒ²は独立して、Ｈ又は（Ｃ₁〜Ｃ₆）アルキルであり、各ｎは独立して、約５から約５００の整数である）によるペンダントポリ（アルキレンオキシ）置換基を含むモノマー単位を、該ポリマーのモノマー単位の総数を基準として５０％より多く含み、且つモル当たり約１，０００から約１，０００，０００グラムの重量平均分子量を示すポリマー。
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【課題】電子線あるいは極紫外線（ＥＵＶ光）を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、かつパターン倒れ性能に優れ、更には、パターン下部に食い込みの生じない形状に優れたパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）電子線又は極紫外線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する低分子化合物とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程（１）、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程（４）をこの順番で有する、パターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス、スカムの低減、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるネガ型化学増幅レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスクの提供。
【解決手段】（Ａ）酸及びアルカリに安定な下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（Ｐ）、及び、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位（Ｑ）を有する高分子化合物、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに、（Ｃ）架橋剤を含有する、ネガ型化学増幅レジスト組成物。


一般式（Ｉ）中、Ｒ_１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌ_１は、酸素原子又は−ＮＨ−を表す。Ｌ_２は、単結合又はアルキレン基を表す。Ａは、多環炭化水素基を表す。 （もっと読む）

【課題】水蒸気透過度を低く抑え、かつ、剥離強度も優れる透明バリア積層体及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の透明バリア積層体に対応する第１の積層体２は、アクリル系共重合体（Ａ）及び架橋剤（Ｂ）を含有する粘着組成物からなる粘着層を介して、２つの透明バリアフィルムが積層される。アクリル系共重合体（Ａ）は、炭素数８以上１５以下の鎖状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル２４．９〜７５質量％と、脂環構造を有する（メタ）アクリレート２４．９〜７５質量％と、官能基含有アクリルモノマー０．１〜１０質量％とを含有し、かつ、上記粘着層２５μｍあたりの水蒸気透過度は、ＪＩＳ Ｋ７１２９Ａ法、４０℃×９０％ＲＨにおいて１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。また、本発明の画像表示装置１は、上記第１の積層体２がディスプレイの表面側に配置されており、上記第１の積層体２の端面２ａが封止未処理である。 （もっと読む）