【解決手段】酸の作用により分解するアセタール保護基で保護されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、スルホン酸を発生するオニウム塩型光酸発生剤と、カルボン酸を発生するオニウム塩型光酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
【効果】酸の作用により分解するアセタール保護基で保護されたヒドロキシ基をアセタール保護した繰り返し単位を含む高分子化合物と、高エネルギー線でスルホン酸を発生する化合物及びカルボン酸を発生する化合物を含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い特徴と、ナノエッジラフネスを低減する特徴を有し、このことにより微細なホールパターンを寸法制御よくかつ高感度で形成することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】感度等の基本性能に加えて、ナノエッジラフネス、解像度、パターン倒れ耐性、ＭＥＥＦ（Ｍａｓｋ Ｅｒｒｏｒ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｆａｃｔｏｒ）等に優れると共に、これらのバランスに優れるレジスト膜を形成するために用いられる化合物、それを用いて得られる重合体及びその重合体を含有するフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物である。
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【課題】耐溶剤性に優れ、低比誘電な硬化膜を形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有するモノマー単位および／またはフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位（ａ１）と、オキセタニル残基を有するモノマー由来の繰り返し単位（ａ２）と、を有する共重合体、ならびに（Ｂ）感放射線酸発生化合物、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】本発明では、硬化後の機械物性および耐候性などにすぐれるとともに、高温焼付けフッ素処理アルミ基材に対して優れた接着性をも実現できる硬化性組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】架橋性シリル基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリル酸エステルを重合して得られる（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）、および、
架橋性シリル基を少なくとも１個有し、特定の（メタ）アクリル酸エステルを重量比で２０％以上を含有するモノマーを重合して得られる、溶解度パラメーターが上記（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）より０．２以上大きい有機重合体（ＩＩ）、
を含有し、（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）と有機重合体（ＩＩ）の重量比（Ｉ）／（ＩＩ）が９９／１〜７０／３０である硬化性組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】
高周波領域での誘電正接が極めて小さく、耐熱性及びピール強度に優れ、さらに、反りが小さい積層体の製造に有用な、重合性組成物、この重合性組成物を用いて得られる樹脂成形体、およびこの樹脂成形体を積層してなる積層体を提供する。
【解決手段】
シクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤、架橋助剤、及び反応性流動化剤を含有する重合性組成物であって、前記シクロオレフィンモノマーが、（メタ）アクリロイル基を有するシクロオレフィンモノマーと（メタ）アクリロイル基を有しないシクロオレフィンモノマーとを、重量比（（メタ）アクリロイル基を有するシクロオレフィンモノマー：（メタ）アクリロイル基を有しないシクロオレフィンモノマー）で、１：９９〜３０：７０の範囲内で含有するものであり、前記反応性流動化剤が、シクロオレフィンモノマー１００重量部に対して、ビニリデン基を１つ有する一官能化合物を１〜２０重量部、及び、ビニリデン基を２つ有する二官能化合物を０．１〜２０重量部含有するものである、重合性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


（式中、Ｒ⁴〜Ｒ⁶はフッ素化１価炭化水素基を示す。）
【効果】本発明により、高撥水性かつ高滑水性の含フッ素環状アセタールを含む繰り返し単位を有するレジスト保護膜材料が提供される。 （もっと読む）

【課題】棒状液晶化合物を配向させたときに得られるフィルムのヘイズを低くすることができる、棒状液晶化合物を含む重合性液晶組成物の提供。
【解決手段】少なくとも１つの重合性基を有する棒状液晶化合物と、少なくとも１種のキラル剤と、少なくとも１種の下記式で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー由来の構成単位を含む（メタ）アクリル重合体と、を含む重合性液晶組成物。


（式中、Ｒ⁰は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは−Ｏ−または−ＮＲ¹−を表し、Ｘ⁰は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｍは１〜６の整数を表し、ｎは１〜１８の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】従来よりも低粘度の星型共重合体の合成が可能なリビングラジカル重合開始剤を提供する。
【解決手段】ハロゲン原子を末端に有する分岐鎖を１分子中に少なくとも３本有するリビングラジカル重合開始剤であって、前記ハロゲン原子のうち最も近接する２個のハロゲン原子間の結合中に少なくとも１個のベンゼン環を有し、かつ前記ハロゲン原子間において結合する原子の最小数が９〜３０個であり、該９〜３０個の原子のうちの前記ベンゼン環に結合する２つ原子が該ベンゼン環のメタ位又はパラ位において結合しているリビングラジカル重合開始剤である。 （もっと読む）

【課題】耐水性や耐洗濯性に加え、剥離性にも優れた皮膜を形成する床用光沢剤に用いられる重合体水性分散液を得ることを目的とする。
【解決手段】芳香族ビニル化合物系単量体（Ａ）と、（メタ）アクリル酸単量体（Ｂ）とを少なくとも含み、全単量体中の（Ａ）成分の含有割合が６５重量％以上９０重量％以下である単量体混合物を、水性媒体中で乳化重合して得られる重合体の重合体水性分散液であって、所定の特徴を有する重合体水性分散液を用いる。 （もっと読む）

【課題】ラジカル分子を用いた二次電池において、高速充放電することができる二次電池を提供する。
【解決手段】二次電池用の正極材又は負極材は、下記構造（１）式によって示されるイオン液体であって、ラジカル分子Rがアルキル鎖を介してカチオン部位に担持され、アルキル鎖の炭素数nが１〜１０であるイオン液体を用いる。
【化１】
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【課題】レンズを加工する工程においても傷を生じることのない十分な硬さを有するコーティング層が得られ、かつ、発色濃度が高く、退色速度が速く、繰り返し耐久性も高いといった優れたフォトクロミック特性を有するフォトクロミック眼鏡レンズが得られるフォトクロミック硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ｉ）分子内に、ケージ状構造のシルセスキオキサン骨格と、ウレタン結合、チオウレタン結合、及びウレア結合から選ばれる少なくとも一つの結合基と、ラジカル重合性基とを有する重合性単量体、並びに（ＩＩ）フォトクロミック化合物を含んでなるフォトクロミック硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、形成されるレジストパターンの耐パターン倒れ性やドライエッチング時におけるレジストパターンに対する高いエッチング選択性を維持しつつ、高い屈折率及び吸光係数を有するレジスト下層膜を形成可能なレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法並びに重合体を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］電子求引性基が結合する芳香族構造を有する構造単位（Ｉ）と、ラクトン構造を有する構造単位、環状カーボネート構造を有する構造単位及び環状イミド構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位（ＩＩ）とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。 （もっと読む）

【課題】耐ブロッキング性、接着性および耐候性に優れた接着剤、前記接着剤からなる接着剤層を有する太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池を提供すること。
【解決手段】ビニル系重合体を含有するビニル系接着剤であって、前記ビニル系重合体が側鎖の末端にエチレン性不飽和二重結合を有するビニル系重合体であることを特徴とするビニル系接着剤、前記ビニル系接着剤からなる接着剤層を有する太陽電池モジュール用バックシート、太陽電池モジュールおよび太陽電池。 （もっと読む）

【課題】溶出が抑制された高解像性のネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程（１）と、液浸媒体を介して浸漬露光する工程（２）と、工程（２）の後にベークを行い、露光部において露光により光塩基発生剤成分から発生した塩基と、レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、未露光部において、レジスト膜に予め供給された酸の作用により、基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）と、アルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法であって、レジスト膜の水に対する後退角が６５°以上であることを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】生体適合性部材を構成する各種基材と膜との密着性が良好で、かつ膜表面に高い生体適合性が付与されると共に、親水性及び耐水性にも優れた新規な生体適合性部材及びその形成方法を提供する。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられ、下記１）及び２）を含む膜とを有する生体適合性部材であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材に最も近い側から前記基材に最も遠い側に向かって１）の比率が大きくなり、かつ２）の比率が小さくなるように１）及び２）の組成が連続的に変化する組成傾斜膜である、生体適合性部材。
１）ホスホリルコリン基を有する化合物。
２）重合性化合物の重合体、又は、オリゴマー若しくはポリマー化合物。但し、前記２）重合性化合物の重合体、又は、オリゴマー若しくはポリマー化合物はホスホリルコリン基を有さない。 （もっと読む）

【課題】エポキシ基含有共重合体に、カルボキシル基及び（メタ）アクリロイル基を有する化合物を付加して得られる、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性共重合体を含有する硬化性樹脂組成物を製造する際に、当該共重合体が増粘及びゲル化等することなく、安定に目的物が得られる製造方法を提供する。
【解決手段】前記エポキシ基含有共重合体は、多官能成分の含有量が０．０１〜０．３質量％であるエポキシ基含有（メタ）アクリレートを３０〜１００質量部含む単量体混合物の重合により得られる。また、前記エポキシ基含有（メタ）アクリレートとしては、グルシジル（メタ）アクリレートが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ハーフトーン露光技術に適した硬化特性を有するネガ型フォトレジスト用ポリマーを提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸ユニットと、エポキシ基含有不飽和化合物ユニットと、Ｎ−置換マレイミドユニットと、オレフィン系不飽和化合物ユニットと、末端ビニル基とを有し、不飽和カルボン酸ユニットの含有率が３〜４０ｍｏｌ％であり、エポキシ基含有不飽和化合物ユニットの含有率が３〜２０ｍｏｌ％であり、Ｎ−置換マレイミドユニットの含有率が３〜２０ｍｏｌ％であり、オレフィン系不飽和化合物ユニットの含有率が３０〜８０ｍｏｌ％であるネガ型フォトレジスト用ポリマー。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性、塗布性及び引き置き安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】構成単位（ａ０−１）と、酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するる樹脂成分（Ａ１）を含有する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、及び含窒素有機溶剤成分（Ｓ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】成膜性に優れた光学フィルム製造用の組成物及び該組成物から形成される光学フィルムの提供。
【解決手段】以下の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む組成物、及び該組成物から形成される光学フィルム。（Ａ）式（Ａ）で表される化合物


［式中、Ｙ^１は芳香族複素環式基などを表す。Ｄ^１及びＤ^２は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−などを表す。Ｇ^１及びＧ^２は脂環式炭化水素基などを表す。Ｌ^１及びＬ^２のうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。］（Ｂ）メルカプト基を有する化合物。（Ｃ）光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】孔径について現像時間依存性を低く抑えながら、真円性に優れる微細な孔径（例えば、６０ｎｍ以下）のホールパターンを形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）窒素原子を有し、かつ活性光線又は放射線の照射により変化しない塩基性化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物（Ｃ）の含有量が１．０質量％以上であり、かつ前記化合物（Ｃ）の前記化合物（Ｂ）に対するモル比率［Ｃ］／［Ｂ］が０．４０以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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