【課題】熱可塑成形が可能で、流動成形加工性、耐ケミカルクラック性に優れ、透明性及び表面硬度にも優れているメタクリル系樹脂及び溶融成形体を提供する。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：６０〜９０質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体単位に共重合可能な、少なくとも１種のフッ素基含有ビニル単量体単位：１０〜４０質量％とを含有するメタクリル系樹脂及び当該メタクリル系樹脂を成形した溶融成形体。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、及びＬＷＲなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式（１）で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は、各々独立に、アリールを表し、Ｒ_１とＲ_２が連結していてもよい。Ｒ_３及びＲ_４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、Ｒ_３とＲ_４が連結していてもよい。Ｒ_５は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。Ｒ_５は、Ｒ_３もしくはＲ_４と連結していてもよい。
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【課題】粘度の発現性が高く、かつせん断速度の増加と共に粘度が低下する粘度特性を有する水性塗料組成物を提供すること、特に、界面活性剤及び／又は親水性有機溶媒を含有しても、粘度を発現し、かつせん断速度の増加と共に粘度が低下する粘度特性を有する水性塗料組成物を提供すること。
【解決手段】ウレア結合を有する重合性不飽和モノマー、ウレタン結合を有する重合性不飽和モノマー及びイミド結合を有する重合性不飽和モノマーから選ばれる少なくとも一種の含窒素重合性不飽和モノマー及び該含窒素重合性不飽和モノマー以外の重合性不飽和モノマーを共重合してなるアクリル樹脂（Ａ）、及び炭素数４〜２４の直鎖状、分岐状又は環状の炭化水素基を有する重合性不飽和モノマーを含有するマクロモノマーと親水基を有する重合性不飽和モノマーとを含有するモノマー成分を共重合してなる共重合体（Ｂ）、を含有することを特徴とする水性塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位（Ｂ）とを含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１−１）又は（１−２）により表される化合物（Ｑ）とを含有している。


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【課題】レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^ｂ１及びＲ^ｂ２は、独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^ｂ１は、２価の飽和炭化水素基；環Ｗ^ｂ１は複素環；Ｒ^ｂ３は、水素原子又は炭化水素基；Ｒ^ｂ４は炭化水素基；ｍは、０〜６の整数；Ｚ^１＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、相互侵入高分子ネットワーク（ＩＰＮ）およびそれに関係する方法および組成物を提供する。
【解決手段】本発明のヒドロゲル素材は、２つ以上の高分子ネットワークの相互侵入ネットワークを含み、その高分子ネットワークの少なくとも１つが、バイオポリマーをベースとする。第１高分子ネットワークと第２高分子ネットワークとを結合することを含む、ヒドロゲル素材を製造する方法であって、第１高分子ネットワークまたは第２高分子ネットワークがバイオポリマーをベースとする、方法も提供される。本出願は、ＩＰＮヒドロゲル素材から製造されるデバイスおよびその使用もまた開示する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高感度、高解像性で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、カルボキシル基及び／又はヒドロキシ基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位ｂとを含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂とすることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基であって、カルボニル基を有していてもよく、環を形成していてもよい。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、又は炭素数１〜４の直鎖状、若しくは分岐状のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を含む構成単位（ａ３）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】経時の影響による寸法変動が抑制されると共に、リソグラフィー特性とレジストパターン形状に優れたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ｇ１）又は（ｇ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｇ）と、一般式（ｈ１）又は（ｈ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｈ）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）樹脂と、（Ｂ）酸発生剤と、（Ｘ）それぞれ式（Ｉ−ａ）及び式（Ｉ−ｂ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物とを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの製造方法の提供。


［式中、
Ｚ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
ｎは０又は１を表す。］ （もっと読む）

【課題】
本発明は、接着性、電気絶縁性、透明性、成形性およびプロセス安定性等の諸特性に優れるとともに、必要に応じて架橋を省略して生産性を改善することができる、エチレン系樹脂組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明のエチレン系樹脂組成物は、以下の要件ａ）〜ｅ）を同時に満たすエチレン系重合体（Ａ）を、（Ｂ１）ビニルトリメトキシシランまたは３−アクロキシプロピルトリメトキシシランから選ばれる少なくとも１種と、（Ｂ２）ビニルトリエトキシシランを含む
エチレン性不飽和シラン化合物で変性して得られる変性体を含有する。
ａ）密度が９００〜９４０ｋｇ／ｍ^３
ｂ）ＤＳＣに基づく融解ピーク温度が９０〜１２５℃
ｃ）ＪＩＳ Ｋ−６７２１に準拠して１９０℃、２．１６ｋｇ荷重にて測定したメルトフローレ−ト（ＭＦＲ２）が０．１〜１００ｇ／１０分
ｄ）Ｍｗ／Ｍｎが１．２〜３．５
ｅ）金属残渣が０．１〜５０ｐｐｍ （もっと読む）

【課題】高収率でレジスト組成物用樹脂を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】溶剤（１）及び溶剤（２）の混合溶剤中で、モノマーを重合させることを特徴とするレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。
溶剤（１）：溶解度パラメーターが１１．４〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤；
溶剤（２）：テトラヒドロフラン。
当該製造方法は、重合開始剤の作用によりモノマーを重合することが好ましく、モノマー、重合開始剤及び溶剤（２）を含む混合液を、溶剤（１）中に滴下して、モノマーを重合させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性、透明性、低吸水性、成形時の離型性に優れ、金型からのバリが少ない硬化性樹脂組成物、その硬化物、光学物品を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリル酸エステル（ａ）、水酸基を含有する単官能（メタ）アクリル酸エステル（ｂ）、２官能（メタ）アクリル酸エステル（ｃ）、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（ｄ）とチオール化合物（ｅ）を含む成分を共重合して得られる共重合体であって、側鎖に（ｃ）由来の反応性の（メタ）アクリレート基を有し、末端に（ｄ）及び（ｅ）由来の構造単位を有する共重合体であり、Ｍｗが２０００〜６００００であり、有機溶媒に可溶である可溶性多官能（メタ）アクリル酸エステル共重合体、（Ｂ）成分：５官能以上の多官能（メタ）アクリレ−ト及び（Ｃ）成分：開始剤を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、式（ｂ１）で表される化合物を含有し、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物の１つ以上を含むレジスト組成物。
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【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】レジスト組成物、パターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖にＯＨ基を含む基を有する環状の飽和炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有し、且つ特定の酸不安定性基を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位の少なくとも１種を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、樹脂成分（Ａ１）の全構成単位の合計に対し構成単位（ａ１１）の割合が３５モル％を超える。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができる樹脂及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す；Ｒ^２は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、単結合等を表す；Ｒ^３は、式（ｂ）で表される基である；---は単結合又は二重結合を表す；ｘ１は１又は２、ｘ２は０又は１、ｘ１＋ｘ２＝２である。］ （もっと読む）

【課題】スカムの発生を低減でき、かつ、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。
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【課題】優れたマスクエラーファクターでのレジストパターン製造用レジスト組成物の提供。
【解決手段】構造単位（ａａ）と、構造単位（ａ１−１）又は構造単位（ａ１−２）の構造単位（ａｂ）とを有する樹脂（Ａ１）；構造単位（ａａ）を有さず、樹脂（Ａ１）が有する構造単位（ａｂ）と同一の構造単位（ａｂ）を有する樹脂（Ａ２）；酸発生剤を含有し、かつ「０．８＜α／β＜１．２、αは樹脂（Ａ１）の全構造単位に対する樹脂（Ａ１）中の構造単位（ａｂ）のモル％；βは樹脂（Ａ２）の全構造単位に対する樹脂（Ａ２）中の構造単位（ａｂ）と同一の構造単位のモル％」の関係を満たすレジスト組成物。
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【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素を表し、Ｒ^３は炭素数２〜１２の炭化水素を表すか、Ｒ^２及びＲ^３は互いに結合して炭素原子とともに炭素数３〜２０の環を形成する。Ｒ^４及びＲ^５は水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は２価の炭素数１〜１７の炭化水素基を表し、前記２価の炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記２価の炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｗ^１は、炭素数４又は５の複素環を表す。Ａ^＋は、有機カチオンを表す。］
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