説明

Fターム[4J100AL31]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 不飽和カルボン酸エステル (19,462) | 1つの不飽和基を持つ不飽和カルボン酸のエステル (15,201) | O含有置換基を有する不飽和モノカルボン酸部分と、置換基を有するアルコール残基からなるエステル (46)

Fターム[4J100AL31]に分類される特許

1 - 20 / 46


【課題】パターンプロファイル及び焦点深度マージンに優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、特に反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いてパターン形成される場合にもこれら性能に優れ、インプランテーション用として好適な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(PG1)、(PG2)、(PG3)と、ラクトン構造を含む少なくとも一種の繰り返し単位を含有する樹脂(A)光酸発生剤(B)と、溶剤(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】現像液への溶解性が高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
バインダー樹脂が、メタクリル酸に由来する構造単位、アクリル酸に由来する構造単位並びにメタクリル酸及びアクリル酸と共重合可能な単量体に由来する構造単位を有する共重合体を含む樹脂である着色感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位(A)を含んだ樹脂(P)を含有している。 (もっと読む)


【課題】 洗浄時に優れた再汚染防止能を発揮することができ、界面活性剤との相溶性にも優れたアリルエーテル系重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有する(i)アリルエーテル系単量体(A)に由来する構造単位(a)と、(ii)アミノ基含有単量体(B−1)、環状N−ビニルラクタム系単量体(B−2)、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート系単量体(B−3)、炭素数1〜20のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル(B−4)、カルボン酸ビニル(B−5)から選ばれる単量体(B)に由来する構造単位(b)とを所定の範囲で含む、アリルエーテル系重合体である。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも1つ含有する含フッ素化合物、および(F)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。(x)アルカリ可溶性基、(y)アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、(z)酸の作用により分解する基。 (もっと読む)


【課題】少なくとも可視光領域において波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性(逆波長分散性)を示すことができ、VAモ−ドの液晶パネルおよび液晶表示装置の光学補償に好適に用いられる、新規な組成を有する偏光子保護フィルムを含む偏光板の提供を目的とする。
【解決手段】少なくとも1枚の偏光子保護フィルムを有する偏光板であって、前記偏光子保護フィルムが、(I)面内位相差Reが30〜80nm、厚み方向位相差Rthが90〜160nmであり、(II)少なくとも可視光領域において、波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性を示し、且つ、(III)特定の分子構造または複素芳香族基を有する樹脂(A)を含む、二軸性を有する偏光子保護フィルムである偏光板である。 (もっと読む)


【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度(DOF)が広く、線幅バラツキ(LWR)が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】(ア)化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、(A)実質的にアルカリ不溶性である樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)架橋剤、(D)溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 (もっと読む)


【課題】貯蔵安定性に優れ、使用時においても製造時と同等の水酸基価を有するビニルピロリドン系重合体を提供する。
【解決手段】少なくともN−ビニルピロリドンと、α−ヒロドキシアルキルアクリル酸エステルとから得られることを特徴とし、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法にて測定される重量平均分子量が1000〜1000000であり、重合体1kg当りの水酸基価が8.6*10−3〜8.5mol/kgである重合体を使用する。 (もっと読む)


【課題】良好な感度などを有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂、下記一般式:M(Mはオニウムカチオン、Zは下記一般式(1−1)または(1−2)で表されるアニオン)で表される感放射線性酸発生剤、及び下記一般式(c1)で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


(R〜Rはフッ素原子置換の炭素数1〜20のアルキル基など、Aは単結合など、R及びRは炭素数1〜25の炭化水素基などである) (もっと読む)


【課題】重合時におけるモノマー残存量の低減及び、生産効率の向上を目的とする。
【解決手段】少なくとも不飽和カルボン酸エステル(a)、芳香族ビニル化合物(b)及び不飽和カルボン酸無水物(c)を、下記一般式(3)で示される芳香族基含有不飽和カルボン酸エステルの存在下で共重合させる、共重合体の製造方法。
【化1】


(式中、Rは、水素、ハロゲン、水酸基、アルコキシ基、ニトロ基、直鎖状又は分岐状の炭素数1〜12のアルキル基を表す。mは1〜3の整数、nは0〜2の整数を示す。) (もっと読む)


【課題】焦点深度マージン(DOF)、表面荒れ、及び現像欠陥が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】−C(X1)(X2)(OR1)で表される基(X1及びX2は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基を表し、X1及びX2のどちらか一方又は両方に少なくとも1個以上のフッ素原子を含む。R1は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は酸分解性基を表す。)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び、少なくとも1つの極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】パターンの現像欠陥及びディスタンス依存性が改善された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)側鎖にノルボルナン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】コンタクトレンズ材などとして有用な共重合体に使用される新規シリコーン化合物およびそれを用いた表面水濡れ性向上添加剤を提供する。
【解決手段】式(1)で表されるシリコーンモノマー及び該シリコーンモノマーを特定割合で含む表面水濡れ性向上添加剤。


(R:−CH2CH(OH)CH2−、−CH(CH2OH)CH2−。m:1〜4、n:0〜3) (もっと読む)


【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式(2)で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化84】
(もっと読む)


【課題】液晶表示素子や有機EL素子に用いられるプラスチックフィルム基板に最適な、水蒸気透過率が低くて、密着性の良好なバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも1層の有機層、および少なくとも1層の金属化合物から成る薄膜の無機化合物層とを有する積層体であって、前記有機層が単官能の(メタ)アクリル系単量体もしくは多官能(メタ)アクリル系単量体を(共)重合して得られる構造単位を有するポリマーを含む層であることを特徴とするバリア性積層体。 (もっと読む)


【課題】臭気成分の種類の選択性が少なく、即時効果と効果の持続性を有する消臭剤を提供することにある。
【解決手段】一般式(1)で示される構成単位を必須構成単位とする両性高分子(A)を含有してなる消臭剤である。
【化6】


式中、R1は水素原子、メチル基又はエチル基、R2は炭素数1〜6のアルキレン基、R3及びR5は炭素数1〜6のアルキル基、R4は炭素数1〜3のアルキレン基、Qは酸素原子又は−NH−、Z-は−COO-又は−SO3-である。 (もっと読む)


【課題】 従来の高分子凝集剤に比べて優れた脱水性能を有し、汚泥に対して少量の添加量で低いケーキ含水率を与える高分子凝集剤を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で示される構成単位を有する水溶性両性高分子(A)を含有する高分子凝集剤である。
【化5】


式中、R1は水素原子、メチル基又はエチル基、R2は炭素数1〜6のアルキレン基、R3及びR5は炭素数1〜6のアルキル基、R4は炭素数1〜3のアルキレン基、Qは酸素原子又は−NH−、Zは−COO又は−SO3である。 (もっと読む)


【解決手段】高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に現像液を用いて上記レジスト膜を現像して第1のレジストパターンを形成し、その後波長180nm以下の高エネルギー線又は電子線の照射によって第1のレジストパターンを架橋硬化させ、その上に高分子化合物を含む第2のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第2のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記第2のレジスト膜を露光し、加熱処理後に現像液を用いて第2のレジスト膜を現像して第2のレジストパターンを形成するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1のレジストパターンのスペース部分に第2のレジストパターンを形成することによってパターンとパターンのピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 (もっと読む)


【課題】皮膜が適度な硬さと柔軟性を有し、かつ、粘着性が少ない両性重合体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】 一般式(1)で示される構成単位を有する両性重合体(A)である。
【化10】


式中、R1は水素原子、メチル基又はエチル基、R2は炭素数1〜6のアルキレン基、R3及びR5は炭素数1〜6のアルキル基、R4は炭素数1〜3のアルキレン基、Qは酸素原子又は−NH−、Zは−COO又は−SO3である。 (もっと読む)


【課題】塗料の放置安定性に優れ、塗料の高せん断時粘度が低く、中せん断時の粘度が高い塗料粘性が得られるためにブレード塗工における塗工作業性に優れ、かつ、吸水着肉性、白紙光沢に優れた紙塗工用共重合体ラテックスの提供。
【解決手段】 脂肪族共役ジエン系単量体30〜70重量%、エチレン系不飽和カルボン酸単量体0.5〜10重量%およびその他の共重合可能な単量体20〜69.5重量%からなる単量体(合計100重量部)を乳化重合してなる共重合体ラテックスで、該共重合体ラテックスフィルム中に含まれるアルカリ金属の含有量が17000〜25000ppmの範囲にあり、かつ、アルカリ金属中に占めるナトリウムの量が下記式(1)の範囲内にある紙塗工用共重合体ラテックス。
ナトリウム/(アルカリ金属の合計)=0.61〜0.85 (1) (もっと読む)


1 - 20 / 46