【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】糖鎖及び／又は糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖及び／又は糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能にする試料調製方法、及びこの方法により得られる分析試料を提供する。
【解決手段】ヒドラジド基を含む物質Ａと、糖鎖および／または糖の誘導体とを、当該物質Ａのヒドラジド基と当該糖鎖および／または糖の誘導体の還元末端との間のヒドラゾン形成によって結合することを特徴とし、糖鎖及び／又は糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖及び／又は糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能とし、前記試料調製方法に用いられる糖鎖捕捉物質の製造に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマー。 （もっと読む）

【課題】糖鎖および／または糖の誘導体を含む生体試料の分析に用いられる糖鎖捕捉物質の製造方法およびこの製造方法に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマーを提供する。また、その試料調製方法の用途を提供する。
【解決手段】下記の（式１３）で表される構造を有するモノマー。


（Ｒ2はＨ，ＣＨ3，または炭素数２〜５の炭化水素鎖，Ｒ6は−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，−ＣＯ−，−ＣＯＮＨ−で中断されてもよい炭素数１〜２０の炭化水素鎖，[P]は保護基を示す。） （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】現像性が高く、耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びにそれを用いた製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、星型ポリマー、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該星型ポリマーが、スルフィド結合を介して中心骨格からポリマー鎖が分岐し、ポリマー鎖の側鎖に酸基及び架橋性基を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ヒドラジド基を含む物質Ａと、糖鎖および／または糖の誘導体とを、当該物質Ａのヒドラジド基と当該糖鎖および／または糖の誘導体の還元末端との間のヒドラゾン形成によって結合することを特徴とする試料調製方法を提供する。
【解決手段】糖鎖および／または糖の誘導体を含む生体試料より分析試料のための糖鎖および／または糖の誘導体を、簡単な操作で分離精製することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】Ｎ−ビニルカルボン酸アミド水溶液の逆相懸濁重合において、乳化状態を発生させず安定な懸濁状態を保ちながら細粒化されたＮ−ビニルカルボン酸アミド重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式ＣＨ_２＝ＣＨＮＨＣＯＲ（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表す。）で示されるＮ−ビニルカルボン酸アミド単量体単独、または共重合可能な他の単量体との混合物を逆相懸濁重合する方法において、炭化水素分散媒に対する界面活性剤の割合が１〜３重量％であり、予め炭化水素分散媒に懸濁させる水の比率が炭化水素分散媒に対する界面活性剤の重量％で表される特定の式を満たす条件とする。 （もっと読む）

【課題】良好な加硫安定性を維持しつつ、機械的強度、耐摩耗性、低燃費性をバランスよく向上できるゴム組成物、及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有する共役ジエン系重合体であって、（メタ）アクリル系化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなるジエン系共重合体と、リン含有量が２００ｐｐｍ以下の改質天然ゴムと、特定構造のイオウ化合物（Ｒ^５−Ｓ−Ｓ−Ｙ−Ｓ−Ｓ−Ｒ^６）を含むことを特徴とするゴム組成物。


［式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立に、特定構造の窒素含有基（−Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）：（Ｉａ）、但し、Ｒ１，Ｒ２は、置換または未置換のヒドロカルビル基、シリル基を表す）、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが、上式（Ｉａ）で表される基又は水酸基である。］ （もっと読む）

【課題】含水率が低いセルロースアシレートフィルムの提供。
【解決手段】セルロースアシレートと、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマーと、を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム（式中、Ｒ¹は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、前記脂肪族基、芳香族基または複素環基は置換基を有していてもよい。Ｒ²は置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）。
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【課題】露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】耐刷性が高く、汚れ難く、現像性に優れるネガ型平版印刷版原版、並びにその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体及び画像記録層をこの順に有する平版印刷版原版であって、支持体と画像記録層との間に、星型ポリマーを含有する層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 ノズルからの吐出性及び活性光線照射による速硬化性に優れる高速印刷可能なインクジェット印刷インク用重合性化合物及びインク組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるインクジェット印刷インク用重合性化合物（Ａ）；並びに該重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤（Ｄ）及び必要により他の重合性化合物（Ｂ）を含有するインクジェット印刷用インク組成物。
【化１】


［式中、Ｒ¹及びＲ³はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、Ｒ²は分岐骨格を有する炭素数７〜２０の２価の脂肪族炭化水素基である。］ （もっと読む）

【課題】オルガノボランとビニル芳香族化合物とを含む重合開始剤系を提供すること。
【解決手段】この重合開始剤系は、２液型の硬化性結合性組成物、特に、硬化してアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物、さらに特に、硬化して低表面エネルギー基材を結合しうるアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物を調製するのに特に有用である。オルガノボランと、少なくとも１種の重合性モノマーと、少なくとも１種のビニル芳香族化合物とを含む結合性組成物も記載される。 （もっと読む）

【課題】 汚泥または廃水の処理において、強固な粗大フロックを形成させて汚泥の脱水処理効率を大幅に向上する等、脱水効果に優れた高分子凝集剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるビニル基含有モノマー（ａ）、または（ａ）および下記一般式（２）で表される（メタ）アクリロイル基含有モノマー（ｂ）を構成単位とする水溶性重合体（Ａ）を含有してなる高分子凝集剤。ＣＨ₂＝ＣＨ−（ＮＲ¹Ｒ²） （１）
ＣＨ₂＝ＣＲ³−ＣＯ−Ｘ−(Ｑ−Ｎ⁺Ｒ⁴Ｒ⁵Ｒ⁶・Ｚ^-) _m(Ｈ)_1-m （２） （もっと読む）

【課題】本発明は、水洗等の特別な作業を伴うことなく、繰返し使用に適した粘着性を示し、かつ特に皮膚に対する刺激の少ない粘着性ハイドロゲル用組成物とその用途（例えば、粘着性ハイドロゲル、ゲルシート及び電極パッド）を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、少なくとも、高分子マトリックス形成材と、水と、多価アルコールとからなる粘着性ハイドロゲル用組成物であって、前記高分子マトリックス形成材は、少なくとも、（ａ）（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸誘導体、クロトン酸及び／又はカルボキシル基を２つ有する炭素数が４〜５のビニル誘導体、（ｂ）（メタ）アクリルアミド及び／又は（メタ）アクリルアミド誘導体、（ｃ）Ｎ−ビニル−２−カプロラクタム、及び／又は、Ｎ−ビニル−２−バレロラクタム並びに（ｄ）架橋性単量体からなり、該粘着性ハイドロゲル組成物における前記（ｂ）の含有率が２〜２０重量％である。 （もっと読む）

【課題】半導体工程のフォトレジストのコンタクトホールパターンの大きさを効率よく減少することによって、微細なフォトレジストパターンを形成することのできる水溶性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の（式１）のように表示される水溶性重合体および第１水溶性溶媒を含み、コンタクトホールパターンが形成されているフォトレジスト膜上に塗布および熱処理することによって、前記コンタクトホールの大きさを減少させる水溶性樹脂組成物。
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【課題】繊維に対する柔軟性付与効果に優れる柔軟剤組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）で表される単量体（ａ）を構成単位とする高分子化合物（Ａ）を含有してなる柔軟剤組成物。
【化１】


式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基である。Ｘは−ＣＯＮ（Ｒ^２）Ｒ^３、−ＣＨ_２ＮＨＣＯＮ（Ｒ^４）Ｒ^５又は−ＣＨ_２ＮＨＣＯＯＲ^６で表される基であり、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】高反射基板や段差基板に対するリソグラフィ工程において、良好なパターン形状を得ることができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性組成物において、ヒドロキシスチレン由来の構造単位（ＨＳ１）と、下記式（ａ−１）で表される基を有する構造単位（ａ１）とを含有し、かつ酸の作用により解離して酸性官能基を生じる酸解離性基を実質的に有していない重合体［Ａ１］と、ヒドロキシスチレン由来の構造単位（ＨＳ２）を含有し、かつ前記酸解離性基を有する重合体［Ａ２］と、を含むものとする。
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【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）として、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。
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