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Fターム[4J100AP01]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | S、P、Se、Te、B、Si、金属等停止オレフィン (878) | S停止オレフィン(アルケニル基がSに直結) (393)

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【課題】水/セメント比の大きな低乃至中強度の高炉スラグコンクリートにおいては、スランプロスが少なく、しかもブリーディング水の発生も少なく、また水/セメント比の小さな高強度の高炉スラグコンクリートにおいては、高炉スラグコンクリートの粘性を小さく抑えて高流動性のものを得ることができる高炉スラグコンクリート用混和剤及びこれを用いた高炉スラグコンクリートの調製方法を提供する。
【解決手段】比較的広範囲の高炉セメントの単位量及び水/セメント比とした高炉スラグコンクリート用の混和剤として、特定の水溶性ビニル共重合体と特定のポリアルキレンオキサイド付加物とを特定割合で含有するものを用いた。 (もっと読む)


【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、一般式(a5−0)で表される構成単位(a5)と、露光により酸を発生する構成単位(a6)とを有する高分子化合物(A1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】従来技術と比較して、セメント混和剤における各種の性能をより一層改善しうる手段を提供する。
【解決手段】本発明のセメント混和剤用共重合体の製造方法は、化学式1で表される不飽和カルボン酸系単量体と、化学式2で表される不飽和ポリアルキレングリコール系単量体とを必須成分として含有する単量体成分を反応器中、溶媒、重合開始剤および連鎖移動剤の存在下で溶液重合させることを含む。そして、製造方法におけるいくつかのプロセスに要する時間を精密に制御する点に特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】高感度かつ露光後焼成が不要で、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた透明膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】アルコキシシリルを有するラジカル重合性モノマー(a1)と、酸性基を有するラジカル重合性モノマー(a2)と、(a1)と(a2)以外のラジカル重合性モノマー(a3)とをラジカル共重合してなるポリマー(A)、光酸発生剤(B)、及び有機溶剤(C)を含有するポジ型感光性組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】EUV用又はEB用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(a5−0−1)又は(a5−0−2)で表される基を含む構成単位(a5)を有する重合体(A1)を含有し、該構成単位(a5)を誘導するモノマー量が、該重合体(A1)に対して100ppm以下であるレジスト組成物。式中、Q及びQは単結合又は2価の連結基である。R、R及びRは有機基であり、RとRとは相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。ただし、式中の基−R−S(R)(R)は全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】本発明の目的は、撥水性、耐溶出性及び溶解性についての特性を満たしつつ、剥がれ耐性及び露光余裕度をバランス良く両立することができる液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A1]下記式(i)で表される基を含む構造単位(I−1)を有する重合体、[A2]上記[A1]重合体と異なる重合体、及び[B]溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物である。下記式(i)中、Rは、炭素数1〜20の(n+1)価の炭化水素基である。nは、1〜3の整数である。[A2]重合体の成膜状態での水との後退接触角は、[A1]重合体よりも大きいことが好ましい。
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【課題】パターン形状に優れるレジストパターンを形成でき、パターン倒れ耐性を向上させ、ブロッブ欠陥及びブリッジ欠陥の発生を低減できる液浸用上層膜形成組成物の提供。
【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体中にカルボキシル基を含む構造単位(I)、スルホ基を含む構造単位(II)、α−トリフルオロメチルアルコール基を含む構造単位(III)、スルホンアミド基を含む構造単位(IV)及び下記式(i)で表される基を含む構造単位(V)からなる群より選ばれる少なくとも1種を有する重合体成分を含有する液浸用上層膜形成組成物であって、この液浸用上層膜形成組成物が[A]重合体成分の同一又は異なる重合体中に、芳香族含窒素複素環を含む構造単位(A)をさらに有するか又は[B]芳香族含窒素複素環を有する化合物をさらに含有するかの少なくともいずれか一方であることを特徴とする。
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【課題】集束性および密着性に優れ、かつ工業的に有利に製造できる高分子量ポリオレフィン樹脂の水性分散体を提供する。
【解決手段】重量平均分子量が2万以上であるポリオレフィン樹脂(A)と、不飽和カルボン酸(b−1) 3.5〜90質量部および(メタ)アクリルアミド単量体(b−2) 10〜96.5質量部(ただし、(b−1)と(b−2)との合計は100質量部)を含む単量体成分を共重合して得られる高分子分散剤(B)と、を含む、水性分散体である。 (もっと読む)


【課題】高分子量のビニルスルホン酸重合体を短時間で製造する方法を提供。
【解決手段】一般式R-C(=O)-NR1R2(Rは水素原子又は低級アルキル基を表す。R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を表す)で表されるアミド化合物の存在下にビニルスルホン酸を光重合させるビニルスルホン酸単独重合体の製造方法であって、前記アミド化合物の量が、ビニルスルホン酸1モルに対し0.4モル以上2.5モル以下である方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた硬化物を形成する樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、1分子中に2つ以上の反応性官能基及び1つ以上の環状骨格を有し、前記反応性官能基の少なくとも1つが硫黄原子を介して前記環状骨格に結合した化合物(A)と、1分子中に1つの反応性官能基及び2つ以上の環状骨格を有する化合物(B)と、重合開始剤(C)とを含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】密着性が良好で、かつ基材表面に、耐水性、防曇性、防汚性、耐候性に優れる親水性表面を付与した組成傾斜構造を有する親水性部材を提供する。
【解決手段】基材2上に設けられ、下記親水性材料1)及び活性エネルギー線硬化型オリゴマー又はポリマー2)’を含む膜とを有する親水性部材1であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材2に最も近い側から最も遠い側に向かって1)の比率が大きくなり、かつ、2)’の比率が小さくなるように、1)及び2)’の組成が連続的に変化する組成傾斜膜3である、親水性部材1。但し、活性エネルギー線硬化型オリゴマー又はポリマー2)’は下記1)の親水性材料とは異なる。1)加水分解性シリル基含有親水性ポリマーを含有し、かつ前記ポリマーが主鎖末端又は側鎖に、加水分解性シリル基を分子中に少なくとも1個有し、親水性基を分子中に少なくとも1個有する親水性材料。 (もっと読む)


【課題】イオン伝導度が高く、耐水性に優れ、寸法変化が小さく、柔軟性を有するプロトン伝導性電解質膜を作製し、出力が高く、かつ、耐久性が高い固体高分子形燃料電池を提供する。
【解決手段】ポリビニルを主鎖とし、プロトン伝導性を有する官能基と、Si又はTiのアルコキシドとを側鎖に有する共重合体を含む電解質材料を用いる。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤現像において溶解コントラストが大きく、かつ高感度なネガティブパターン形成用レジスト組成物及び有機溶剤による現像によってポジネガ反転によるホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】スルホンアミド基が酸不安定基で置換された式(1)の繰り返し単位a1及び/又はa2を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、露光し、有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
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【課題】インキの保存安定性ならびに吐出性安定性に優れ、低温乾燥で良好な塗膜耐性(耐擦性、耐水性、耐溶剤性)を発現する水性インクジェットインキ用バインダー樹脂組成物の提供。
【解決手段】イオン性官能基を有さない芳香族エチレン性不飽和単量体(A)0〜20重量%;
スルホン酸基含有エチレン性不飽和単量体(B)またはリン酸基含有エチレン性不飽和単量体(C)0.5〜3.0重量%;
非イオン性の水溶性エチレン性不飽和単量体(D)0.1〜3.0重量%;
架橋性エチレン性不飽和単量体(E)0.1〜10重量%;
を含むエチレン性不飽和単量体を乳化重合してなる樹脂微粒子(F)を含む水性インクジェット用バインダー樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】セルロース系バイオマスを原料とした加水分解性セルロースの製造の際に、セルロース系バイオマスを含む混合物に好適な粘性を付与すること等により、セルロース系バイオマスの分子レベルの分断を容易に行うことができ、その結果、加水分解性セルロースを効率的に製造することができるポリビニルアルコール系重合体、及びこのポリビニルアルコール系重合体を用いた加水分解性セルロースの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、セルロース系バイオマスを原料とした加水分解性セルロースの製造に用いられるポリビニルアルコール系重合体であって、スルホン酸基を有する構造単位を含み、
このスルホン酸基を有する構造単位の含有率が0.1モル%以上10モル%以下であるポリビニルアルコール系重合体に関する。 (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、式(B1)で表される塩とを含有するレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基;Rは、酸に不安定な基;Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は、単結合又は2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基;Z+は、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】優れたパターン倒れ耐性(PCM)を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。環Wは置換基を有していてもよい炭素数3〜34のラクトン環を表す。] (もっと読む)


【課題】優れたマスクエラーファクター(MEF)を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式中、R1は水素原子又はメチル基;nは1〜3の整数;A1は式(a−g1)で表される基;sは0〜2の整数;A10は脂肪族炭化水素基;A11は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、s=0の時、A11は単結合ではない;X10は、酸素原子を含む基を表す。] (もっと読む)


【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す;環Wは、置換基を有していてもよい炭素数3〜34のスルトン環を表す。] (もっと読む)


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