Fターム[4J100AR09]の内容
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パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(a1)を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位(a1)が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Xが0<X≦5であるパターン形成方法。X=(酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計)/{(炭素原子の数)−(炭素原子でも水素原子でもない原子の数)}
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樹脂微粒子
【課題】耐熱性の良好な樹脂微粒子の提供。
【解決手段】式(1)の環状オレフィン官能性シロキサン、又はこれと重合可能な環状オレフィン化合物とを、下記化合物(A)、(B)及び(C)を含む多成分触媒系の存在下、付加重合することにより得られ、式(1)の構造単位の割合が、付加重合体中5〜100モル%である環状オレフィン付加重合体からなる樹脂微粒子。
(R1は脂肪族不飽和結合を有さない一価有機基、sは0〜2の整数、iは0又は1、jは0又は1〜4の整数。)化合物(A):0価のパラジウム化合物、(B):イオン性ホウ素化合物、(C):炭素数3〜6のアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基から選ばれる置換基を有するホスフィン化合物。
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パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
【課題】高感度、高解像性(高解像力など)、高ラインウィズスラフネス(LWR)性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(1)感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、(2)前記膜を電子線または極紫外線で露光することと、(3)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含み、前記感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物は、(A)電子線又は極紫外線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位(R)を有する樹脂と、(B)溶剤とを含有している。
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パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
【課題】電子線あるいは極紫外線(EUV光)を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、かつパターン倒れ性能に優れ、更には、パターン下部に食い込みの生じない形状に優れたパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】(A)酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)電子線又は極紫外線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する低分子化合物とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程(1)、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程(2)、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程(4)をこの順番で有する、パターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
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ポリマー溶液、キャストフィルム、膜及び繊維
【課題】ノルボルネン、エチレンを重合してなる共重合体を含むポリマー溶液でありながら、キャストフィルム成形法、スピンコート法、溶液紡糸法等による成形に好適なポリマー溶液を提供する。
【解決手段】エチレンと、ノルボルネンと、エチレン及びノルボルネン以外のモノマーとを重合してなる三元共重合体を溶媒に溶解させてなるポリマー溶液を用いる。ここで、三元共重合体中の、エチレンに由来する繰り返し単位の含有量は60mol%以下であり、ノルボルネンに由来する繰り返し単位の含有量と上記モノマーに由来する繰り返し単位の合計量に対する、上記モノマーに由来する繰り返し単位の含有量は0.01mol%以上20mol%以下であり、三元共重合体のガラス転移温度は100℃以上であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出したポリスチレン換算の数平均分子量は、10000以上200000以下である。
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ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク
【課題】高感度、高解像性(例えば、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER))、スカムの低減、及び、現像欠陥の低減を同時に満足したパターンを形成できるネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスクを提供する。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(a)、及び、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位(b)を有する高分子化合物、並びに、(B)架橋剤を含有する、ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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空調システム
【課題】ガス透過膜を用いた空調システムにおいて、ガス透過膜における大気中の浮遊物質の遮断性能および気体透過性能を保ちつつ圧力などの外部応力に対する耐久性を向上させる空調システムを提供する。
【解決手段】空調対象空間への気体の供給及び/又は空調対象空間からの気体の排出が透過膜13を通して行われる空調システムにおける透過膜として、環状オレフィン官能性シロキサン、該環状オレフィン官能性シロキサンと、環状オレフィン化合物とを付加重合することにより得られ、環状オレフィン官能性シロキサンに由来する構造単位の割合が、付加重合体中5〜100モル%であり、テトラヒドロフランを溶媒とするGPCで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が10,000〜2,000,000である環状オレフィン付加重合体によって形成されている非対称膜を用いる。
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ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。
(Aは−(CR22)m−、Bは−(CR52)n−を示し、R2、R5は水素原子又はアルキル基、R2同士又はR5同士が互いに結合して環を形成してもよい。m、nは1又は2、R6はアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基、R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であり、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。pは0〜4の整数。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。
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パターン形成方法及びレジスト組成物
【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有するシクロオレフィンを重合してなる繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含む、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有するシクロオレフィンを重合してなる繰り返し単位とスルホニウム塩の繰り返し単位を含有する高分子化合物と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によるフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高くエッチング耐性が高い特徴を有する。
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パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード(EL)のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(ア)多環芳香族基を有する繰り返し単位(a)及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(b)を有する樹脂(A)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
(イ)該膜をArFエキシマレーザーにより露光する工程、及び
(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。
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透明フィルム並びにその製造方法及び使用方法
【課題】柔軟で、かつイエローシフトの発生を抑制できる透明フィルムを提供する。
【解決手段】鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体エラストマー、青色系無機顔料及び非アミド系滑剤を含む透明フィルムを調製する。前記オレフィン系エラストマーは非晶性であってもよい。前記鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体は、α−鎖状C2−4オレフィンと多環式オレフィンとを重合成分とする共重合体であり、両者のモル比は、α−鎖状C2−4オレフィン/多環式オレフィン=80/20〜99/1程度であってもよい。前記青色系無機顔料の割合は、フィルム全体に対して10〜50ppm程度であってもよい。
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組成物、光学素子、レンズ、前記組成物の製造方法
【課題】 透明性であり、かつ、熱変形しにくい、すなわち、線膨張係数が低い組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 環状オレフィンポリマーと特定の構造を有する、架橋性重合体の架橋体との組成物。
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スルホニウム塩、高分子化合物、該高分子化合物を用いた化学増幅型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
【課題】 適度な強度の酸を発生させ、かつ、発生酸の移動、拡散を適度に制御することが可能であり、また、基板との密着性を損なわない酸発生単位をベースポリマーに導入することができるスルホニウム塩、該スルホニウム塩を用いた高分子化合物、該高分子化合物をベースポリマーとして用いた化学増幅型レジスト組成物および、該化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表される重合性アニオンを有するスルホニウム塩。
【化1】
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重合体及びその製造方法
【課題】耐熱性が高く、吸湿性が低く、しかも金属触媒を用いずに製造できる重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で示される脂環式単量体(A)に由来する構成単位を含むことよりなる。
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エチレン系樹脂組成物、太陽電池封止材およびそれを用いた太陽電池モジュール
【課題】
本発明は、接着性、電気絶縁性、透明性、成形性およびプロセス安定性等の諸特性に優れるとともに、必要に応じて架橋を省略して生産性を改善することができる、エチレン系樹脂組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明のエチレン系樹脂組成物は、以下の要件a)〜e)を同時に満たすエチレン系重合体(A)を、(B1)ビニルトリメトキシシランまたは3−アクロキシプロピルトリメトキシシランから選ばれる少なくとも1種と、(B2)ビニルトリエトキシシランを含む
エチレン性不飽和シラン化合物で変性して得られる変性体を含有する。
a)密度が900〜940kg/m3
b)DSCに基づく融解ピーク温度が90〜125℃
c)JIS K−6721に準拠して190℃、2.16kg荷重にて測定したメルトフローレ−ト(MFR2)が0.1〜100g/10分
d)Mw/Mnが1.2〜3.5
e)金属残渣が0.1〜50ppm
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環状オレフィン付加重合体及びその製造方法
【解決手段】特定の環状オレフィン官能性シロキサン、又はこのシロキサンと特定の環状オレフィン化合物とを付加重合することにより得られ、特定の環状オレフィン官能性シロキサンに由来する構造単位の割合が付加重合体中5〜100モル%であり、THFを溶媒とするGPCで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量が10,000〜2,000,000である高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
【効果】本発明の重合体は、優れた気体透過性、熱安定性、溶解性を有し、更には、機械的強度、特に柔軟性に優れる。また、本発明の重合体は、特定の多成分系触媒を用い、環状オレフィンのビニル付加重合により容易、且つ、高効率で製造することができる。
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ポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法
【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位(A)を含んだ樹脂(P)を含有している。
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化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び/又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、(1)側鎖に酸発生基を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(2)側鎖に縮合芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(3)アセナフチレン単位、(4)インデン単位の繰り返し単位を含有し、(1)の繰り返し単位は0.5〜10モル%、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は50〜99.5モル%を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス(LER)の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。
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化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び/又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、(1)側鎖に酸発生基を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(2)側鎖に縮合芳香環を有する(メタ)アクリル酸エステル類単位、(3)アセナフチレン類単位、(4)インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、LERの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。
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防振性組成物及び架橋体並びにその製造方法
【課題】幅広い温度で高い制振性を有する防振性組成物を提供する。
【解決手段】鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体からなるオレフィン系エラストマーと、このオレフィン系エラストマーと非相容であり、かつ前記オレフィン系エラストマーと異なるガラス転移温度を有するオレフィン系樹脂とを含む組成物で防振性組成物を調製する。前記オレフィン系樹脂は、オレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が高い環状オレフィン系樹脂及び/又はオレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が低い鎖状オレフィン系樹脂であってもよい。前記オレフィン系エラストマーのガラス転移温度が30℃以下であり、オレフィン系樹脂のガラス転移温度との差が10℃以上であってもよい。前記オレフィン系エラストマーとオレフィン系樹脂との割合(重量比)は、前者/後者=98/2〜50/50程度であってもよい。
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