【課題】従来合成が困難であった、新規な構造を有する、高分子量、高剛性の極性基含有アリル共重合体、及びその製造方法の提供。
【解決手段】周期律表第１０族金属錯体を触媒成分として用い、極性基として−ＯＨ、−ＯＣＯＲ2-1（Ｒ2-1は炭素原子数１〜５の炭化水素基を表す。）、−Ｎ（Ｒ2-2）2（Ｒ2-2は水素原子、炭素原子数１〜５の炭化水素基、炭素原子数６〜１８の芳香族残基、または−ＣＯＯＲ2-3（Ｒ2-3は炭素原子数１〜１０の炭化水素基、または炭素原子数６〜１０の芳香族残基を表す。）を表し、２つのＲ2-2は同じでも異なっていてもよい。）、またはハロゲン原子を有するアリルモノマーを、オレフィン化合物及び特定の構造をした炭素−炭素二重結合を２つ有する炭化水素化合物と共に重合することにより、架橋構造を有する高分子量の極性基含有アリルモノマー共重合体、及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】
高周波領域での誘電正接が極めて小さく、耐熱性及びピール強度に優れ、さらに、反りが小さい積層体の製造に有用な、重合性組成物、この重合性組成物を用いて得られる樹脂成形体、およびこの樹脂成形体を積層してなる積層体を提供する。
【解決手段】
シクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤、架橋助剤、及び反応性流動化剤を含有する重合性組成物であって、前記シクロオレフィンモノマーが、（メタ）アクリロイル基を有するシクロオレフィンモノマーと（メタ）アクリロイル基を有しないシクロオレフィンモノマーとを、重量比（（メタ）アクリロイル基を有するシクロオレフィンモノマー：（メタ）アクリロイル基を有しないシクロオレフィンモノマー）で、１：９９〜３０：７０の範囲内で含有するものであり、前記反応性流動化剤が、シクロオレフィンモノマー１００重量部に対して、ビニリデン基を１つ有する一官能化合物を１〜２０重量部、及び、ビニリデン基を２つ有する二官能化合物を０．１〜２０重量部含有するものである、重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】接着強度及び水蒸気バリア性に優れ、かつ高温高湿及び太陽光に長時間晒されても透明性が低下しない太陽電池用接着シートを提供する。
【解決手段】太陽電池モジュール内における太陽電池素子を固定する接着シートであって、ガラス転移温度が５５℃以下である環状オレフィン系共重合体と、有機過酸化物とを含む架橋性組成物をシート状に成形してなることを特徴とする太陽電池用接着シートである。環状オレフィン系共重合体としては、エチレンと環状オレフィンとの共重合体、あるいはエチレンとノルボルネンとのランダム共重合体であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
（ａ）分散度が１．２以下
（ｂ）重量平均分子量が２０００以上６５００以下
（ｃ）ガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃以上 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基が酸不安定基により保護された部分構造を有する繰り返し単位を含有するベース樹脂と光酸発生剤と架橋剤と有機溶剤を共に含み、架橋剤がオキシラン環又はオキセタン環から選ばれる官能基を分子内に２つ以上有する化合物であるレジスト組成物を基板上に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させることを特徴とするネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト組成物は、有機溶剤現像において解像性が高く、露光、加熱処理により酸不安定基が脱保護した状態においても高い耐ドライエッチング性を示す特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、不飽和カルボン酸に由来する構造単位を有する付加重合体に、オキシラニル基を有する不飽和化合物を反応させた樹脂を含み、
重合性化合物が、デンドリマーおよびハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合性化合物である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】幅広い温度で高い制振性を有する防振性組成物を提供する。
【解決手段】鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体からなるオレフィン系エラストマーと、このオレフィン系エラストマーと非相容であり、かつ前記オレフィン系エラストマーと異なるガラス転移温度を有するオレフィン系樹脂とを含む組成物で防振性組成物を調製する。前記オレフィン系樹脂は、オレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が高い環状オレフィン系樹脂及び／又はオレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が低い鎖状オレフィン系樹脂であってもよい。前記オレフィン系エラストマーのガラス転移温度が３０℃以下であり、オレフィン系樹脂のガラス転移温度との差が１０℃以上であってもよい。前記オレフィン系エラストマーとオレフィン系樹脂との割合（重量比）は、前者／後者＝９８／２〜５０／５０程度であってもよい。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および誘電特性に優れた厚板を作成でき、回路基板加工時の基板の反りを低減した成形体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される構造単位Ａならびに特定構造単位を含む組成物を塊状重合して構成された付加型の環状オレフィン系樹脂、を含むことを特徴とする成形体。
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【課題】耐熱性と柔軟性とを両立できるオレフィン系エラストマーを提供する。
【解決手段】鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体で構成されたオレフィン系エラストマーを架橋して架橋オレフィン系エラストマーを調製する。前記鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体は、α−鎖状Ｃ_２−４オレフィンと多環式オレフィンとを重合成分とする共重合体であってもよい。前記オレフィン系エラストマーを構成する鎖状オレフィンと環状オレフィンとのモル比は、鎖状オレフィン／環状オレフィン＝８５／１５〜９７／３程度であってもよい。架橋方法は電子線で架橋する方法であってもよい。 （もっと読む）

【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の２０〜１００モル％の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、第１のレジスト膜上に第１のレジスト膜を溶解させない炭素数３〜８のアルキルアルコールを溶媒とする第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第１と第２のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第２層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】高効率、且つ簡便な工程によって重合体溶液に含まれる金属成分を効果的に除去し、含有金属成分が充分に低減された重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】金属触媒残渣を含む粗重合体より該金属触媒残渣を除去して得られる重合体の製造方法であって、上記粗重合体が溶媒に溶解している粗重合体溶液と、上記溶媒と液液分離が可能なジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、および／またはＮ−メチル−２−ピロリドンからなる非プロトン性極性溶媒とを液液接触させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び光学特性のいずれにも優れる光学基材の提供。
【解決手段】エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物との共重合体を含む基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層が積層されたことを特徴とする光学基材；エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物とを共重合させ、得られた基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層を積層することを特徴とする光学基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜、特には３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜、又は、レジストパターンの側壁に直接珪素酸化膜を形成したり、レジストパターンに珪素酸化膜を形成してポジネガ反転を行う際に用いるレジスト下層膜であり、反射率を低減でき、エッチング耐性が高いレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、少なくともフッ素原子を有するスチレン誘導体単位を、繰り返し単位として含有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

本発明は、ｉ）少なくとも１つの分岐変性ポリマー高分子（ｂ１）および少なくとも１つの直鎖変性ポリマー高分子（ａ１）を少なくとも１つ含む第一組成物を提供し、少なくとも１つの分岐変性ポリマー高分子および少なくとも１つの直鎖変性ポリマー高分子は、それぞれ独立して、式（１Ａ−１Ｆ）、それぞれ上述のように式１Ａ、式１Ｂ、式１Ｃ、式１Ｄ、式１E、式１Ｆ、およびその組み合わせからなる群より選択される少なくとも１つのアミン基を含み、および少なくとも１つの分岐変性ポリマー高分子は、上述のように構造（ｉｂ１−ｉｂ４）の１つをさらに含み、および少なくとも１つの直鎖変性ポリマー高分子は、上述のように構造（ｉｉｂ１−ｉｉｂ２）の１つをさらに含む。 （もっと読む）

【課題】 フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含み、前記組成物は、（ａ）酸の作用により前記現像液に対する溶解度が減少する樹脂であって、酸素原子を含んだ基がエステル結合及び芳香環基の何れも含んでいない２価の連結基又は単結合を介して主鎖と結合している繰り返し単位を備え、前記樹脂に占める前記繰り返し単位の含有率は、前記樹脂中の全繰り返し単位に対して２０ｍｏｌ％乃至１００ｍｏｌ％の範囲内である樹脂と、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｄ）溶剤とを含有している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い耐衝撃強さおよび高い温度耐性のホモポリマーまたはコポリマーを製造するための方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明により、ノルボルネン、メチルノルボルネン、エチルノルボルネン、ブチルノルボルネン、ヘキシルノルボルネン、１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレン、５，５’−（１，２−エタンジイル）ビスビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンおよび１，４，４ａ，４ｂ，５，８，８ａ，８ｂ−オクタヒドロ−１，４：５，８−ジメタノビフェニレンの如き多環式オレフィンを塊状付加重合させるための触媒系および方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】 高分子の固有複屈折率を精度良く計算する。
【解決手段】 固有複屈折率計算方法は、情報処理装置において高分子の複屈折率を算出する方法であって、パラメータの入力を受け付けて、当該パラメータに基づいて複数のモノマーから構成される高分子のモデルを生成して（Ｓ０１）、生成されたモデルの構造を力学的に最適化して（Ｓ０２）、構造最適化されたモデルを用いて、当該モデルを構成するモノマーの主鎖に該当する原子間ベクトルを主軸として当該モノマー各々の分極率を算出して（Ｓ０３）、当該モノマー各々の分極率の総和を当該モデルの分極率を算出して（Ｓ０４）算出された分極率から高分子の固有複屈折率を算出する（Ｓ０５）。 （もっと読む）

【課題】低吸湿性と耐熱性に優れ、光学材料として有用な透明熱可塑性樹脂の提供。
【解決手段】一般式（１）及び一般式（２）を含む脂環式炭化水素共重合体。




［Ｒ¹及びＲ²は、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基］ （もっと読む）

【課題】タッチパネル用の位相差フィルムを提供することを主要な目的とする。
【解決手段】表面に透明導電膜が形成された２つの基板１１０、１２０を透明導電膜１１２、１２２が対向するように所定の間隔をあけて配置してなるタッチパネル１００において、少なくとも一方の基板１１１が、ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が８０：２０〜９０：１０、ＭＶＲ（メルトボリュームレート）が０．８〜２．０ｃｍ³／１０分である、ガラス転移温度が１７０〜２００℃の環状オレフィンの付加（共）重合体よりなるリタデーション１００〜１５０ｎｍの位相差フィルムである。 （もっと読む）

【課題】ゴム組成物およびその用途を提供すること。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、エチレン・α−オレフィン・非共役ポリエン共重合体、軟化剤、充填剤を含有し、該共重合体のエチレン単位の含量が５０〜９０モル％、非共役ポリエン単位の含量が０．１〜５モル％、極限粘度［η］が０．５〜５．０ｄＬ／ｇ、式（Ｉ）で表されるＢ値が１．０５以下、式（ＩＩ）で表される分岐指数が５以上１３未満であり、該共重合体１００重量部に対して、軟化剤０．１〜３００重量部、充填剤１〜３００重量部含有する。
Ｂ値＝（［ＥＸ］＋２［Ｙ］）／（２×［Ｅ］×（［Ｘ］＋［Ｙ］））…（Ｉ）
（［Ｅ］、［Ｘ］、［Ｙ］は、エチレン、α−オレフィン、非共役ポリエンのモル分率、［ＥＸ］はエチレン−α−オレフィンダイアッド連鎖分率を示す）
分岐指数＝［Ｌｏｇ（η０．０１）−Ｌｏｇ（０．１１６×η８）^1.2367］×１０
・・・（ＩＩ） （もっと読む）