【課題】解像性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ前記（Ｂ）成分は、一般式（ｂ−３）、（ｂ−４）および（ｂ−５）で表される群から選択される一種のアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むポジ型レジスト組成物。
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【課題】硬化性及び硬化膜柔軟性に優れる硬化性組成物、インク組成物、該インク組成物を用いたインクジェット記録方法、及び、印刷物を提供すること。また、硬化性に優れるインク組成物を用いた平板印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表されるエチレン性不飽和化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物。


Ｒ₁は水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘ₁は、単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、カルボニル結合、分岐を有していても良い炭素数２０以下のアルキレン基、またはこれらを組み合わせた二価の連結基を表す。
Ｒ₂は多環芳香族基であって、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、シロキサン基、炭素数３０以下の置換基を有していてもよく、ｍは１〜６の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】透明性、低吸水性に優れ、かつ反りの少ない高耐久性を有する紫外線硬化型樹脂組成物である高密度光ディスク用保護コート剤とその硬化物を提供することを可能にしたものであり、青色レーザーを用いて読み取り及び／又は書き込みを行う光ディスクに極めて有用である。
【解決手段】下記一般式（１）
【化１】

（式中Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）
で示される化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び化合物（Ａ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）を含有し、Ｂ型粘度計で測定した２５℃の粘度が１００〜５０００ｍＰａ・Ｓである紫外線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】Ｎ−置換プロリン光学異性体混合物の効率的かつ工業的な分割方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）他の特定の構造を有する光学活性ポリマレイミド誘導体からなる群より選ばれる化合物を含む分取用光学異性体分離剤と、特定の構造を有するＮ−置換プロリンの光学異性体混合物とを接触させる。
【効果】分離能の高い光学活性Ｎ−置換プロリンの分取用光学異性体分離剤、それが充填されている分取用充填カラム及び分離方法が提供される。
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【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる組成物であって、かかる組成物を硬化して得られる重合膜に対し、重合膜を薄膜化しても、均一な膜状態を維持し、耐熱性や配向制御及び光学特性に優れる重合性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される二官能（メタ）アクリレート化合物及び下記一般式（２）で表される単官能（メタ）アクリレート化合物を含有する重合性組成物。


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酸基を有するモノマーを含有するモノマー溶液の液滴の重合によって該液滴を取り囲む気相中で、高い透過性を有する吸水性ポリマー粒子を製造する方法において、前記モノマー溶液が多価カチオンを含有し、かつ前記ポリマー粒子が少なくとも１５０μｍの平均直径を有する方法。 （もっと読む）

【課題】低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位を、分子内に２つ以上含む感光性化合物、該感光性化合物を有機溶剤に溶解させてなる感光性組成物及び該感光性組成物を用いたレジストパターンの形成方法。


（Ｒ₁は水素原子またはアルキル基である。Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆のうち少なくとも１つはニトロ基である。Ｒ₇は置換されていてもよいフェニレン基またはナフチレン基である。） （もっと読む）

モノマー溶液の液滴の重合によって該液滴を取り囲む気相中で、高い透過性を有する吸水性ポリマー粒子を製造する方法において、前記モノマー溶液中に水不溶性の無機塩が懸濁されており、かつ前記ポリマー粒子が少なくとも１５０μｍの平均直径を有する方法。 （もっと読む）

【課題】不溶解分が充分に低減された高分子量の（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体を高生産性で得ることができる（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体含水ゲルを乾燥して（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体を製造する方法であって、上記製造方法は、露点７０℃以下であり、かつ、温度１６０〜２３０℃である熱風が含水ゲル間隙を線速０．１ｍ／ｓ以上で通過するようにして乾燥する工程を含む（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）〜（４）のいずれかで示される構造上β−脱離による酸分解を起こさない重合性酸不安定エステル化合物。


（Ａ¹は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基、Ｒ¹は水素原子又は−Ｃ−（Ｒ⁵）₃、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基、Ｒ⁴は水素原子又はアルキル基、Ｒ⁵は一価炭化水素基、Ｘはアルキレン基、Ｙはメチレン、エチレン又はイソプロピリデン基、Ｚはアルキレン基、両端で結合する３炭素鎖と共に４〜７員環を形成する。ｎ＝１又は２、Ｒ¹〜Ｒ⁵、Ｘ、Ｙ及びＺは炭素原子及び水素原子以外のヘテロ原子を含まない。）
【効果】本発明の重合体を含有するレジスト材料は、高感度で高解像性を有し、特に超ＬＳＩ製造用の微細パターン形成材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、環状オレフィン系ポリマーの製造において、従来法より高収率で、所望の分子量に制御することが容易な環状オレフィン系ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】 環状オレフィンモノマーを、触媒存在下、溶媒中で、マイクロ波を照射して重合する環状オレフィン系ポリマーの製造方法であって、前記溶媒は３以上の誘電率を有するものであることを特徴とする環状オレフィン系ポリマーの製造方法。前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法は、末端二重結合を有するオレフィン化合物を連鎖移動剤として用いるものである。前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法により、環状オレフィンモノマーを反応させて、重合することによって得られた環状オレフィンモノマーの付加重合体。 （もっと読む）

【課題】硬化収縮率が小さい上に、耐熱性、特に耐熱水性に優れた硬化性樹脂組成物および被覆材を提供する。
【解決手段】本発明の硬化性樹脂組成物は、下記（Ａ）〜（Ｆ）成分を含有する。
（Ａ）重合性二重結合を１つ有する単官能モノマー：４０〜６０質量％、（Ｂ）重合性二重結合を２つ以上有する多官能モノマー：１５〜４０質量％、（Ｃ）流動パラフィン：３〜１０質量％、（Ｄ）単官能モノマー（Ａ）に溶解または膨潤可能なポリマー：５〜３０質量％、
（Ｅ）シランカップリング剤：０．１〜５質量％、（Ｆ）重合禁止剤：０．１〜０．２質量部。（ただし、（Ａ）〜（Ｆ）成分の合計は１００質量％である。）
本発明の被覆材は、上述した硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、骨材２００〜７００質量部を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】楕円偏光板の層構造を簡略化することによって、高温、高湿条件下においても剥がれなどの不具合が生じることがない楕円偏光板を提供する。
【解決手段】透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子が、この順に積層されている楕円偏光板であって、該光学異方素子が少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、該配向を固定化したホメオトロピック配向液晶層を含むことを特徴とする楕円偏光板。 （もっと読む）

【課題】酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好な形状のパターンを得ることができる感光性樹脂及び感光性組成物を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するスルホニウム基を置換基として含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、特定の構造を有する基を含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、ヒドロキシスチレンの繰り返し単位と、必要に応じてスチレンの繰り返し単位とを有する感光性樹脂とする。 （もっと読む）

【課題】光学用途への利用可能な、粒子径制御可能かつ粒径の揃った、実質的に分散安定剤を含まない熱硬化性樹脂微粒子を提供する。
【解決手段】単官能および多官能エチレン性不飽和単量体を分散安定剤非存在下、水および／またはアルコール溶媒中で、ラジカル重合性開始剤によって重合してなる樹脂微粒子であって、単官能および／または多官能エチレン性不飽和単量体が、下記構造式の官能基を有するエチレン性不飽和単量体を含む熱硬化性樹脂微粒子。
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【課題】臭気が少なく環境への影響を最小限に抑え、かつ高い反応性、保存安定性を有し、かつ酸素による重合阻害を受けにくい、単官能（メタ）アクリレート化合物を提供すること。
【解決手段】本発明は、下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を提供する。
一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ¹は水素原子、もしくはメチル基を表わし、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基を表わし、Ｌは２価の連結基を表わす。ただしＲ²、Ｒ³は連結して環を形成してもよい。）
本発明の化合物は、従来の単官能性化合物に比べて臭気が非常に少ない。また高い反応性、保存安定性を有し、かつラジカル重合性化合物に特有な酸素による重合阻害を非常に受けにくく、高い光重合性（硬化感度が高い）を示す。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】ＣＦ_２＝ＣＦ−ＣＨ_２ＣＨＲＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ_２（ただし、Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のフルオロアルキル基を示す。）等の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含む重合体であって、繰り返し単位（Ａ）を全繰り返し単位に対して１０モル％以上含む重合体（Ａ）と、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する重合体（Ｂ）とを含み、かつ重合体（Ｂ）に対して重合体（Ａ）を０．１〜３０質量％含む液浸露光用レジスト組成物、および、該液浸露光用レジスト組成物を用いた液浸リソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】新規な化合物、高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物。下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物。式（Ｉ）、（ＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基であり；Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり；ｎは０〜３の整数であり、Ｚは、置換基としてフッ素原子および／またはフッ素化アルキル基を有する炭素数４〜１２の脂肪族環式基である。
［化１］
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【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、かつ良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、下記一般式（ａ０−２）で表される構成単位（ａ０−２）とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基；Ｙ^１、Ｙ^３は脂肪族環式基；Ｚは第３級アルキル基含有基またはアルコキシアルキル基］。
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（パー）フルオロエラストマーとして１００phr；充填剤として、DIN ISO 787−9標準により測定して７より高いｐＨ、好ましくは８より高いｐＨ値を有するシリカ０．５〜５０phr；架橋剤として、一般式（Ｉ）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆は、それぞれ同一または異なってＨまたはＣ₁〜Ｃ₅アルキルであり；Ｚは、酸素原子を任意に含んでいてもよく、好ましくは少なくとも部分的にフッ素化されている、Ｃ₁〜Ｃ₁₈の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレンまたはシクロアルキレン基、あるいは（パー）フルオロポリオキシアルキレン基から選沢される）を有するビス−オレフィン０．５〜１０phrを含む、過酸化物法により硬化し得る（パー）フルオロエラストマー組成物。
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