【解決手段】（Ａ）３，３，３−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルプロピオン酸スルホニウム塩、（Ｂ）式（１−２）で示される酸発生剤、


（式中、Ｒ⁴はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表す。Ｒ⁵は水素原子又はトリフルオロメチル基を表す。Ａｒ’はヘテロ原子を含んでもよい非置換又は置換の炭素数６〜２０のアリール基を示す。）（Ｃ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ現像液不溶又は難溶の樹脂であって、該酸不安定基が脱保護されたときにアルカリ現像液可溶となるベース樹脂、（Ｄ）有機溶剤を必須成分として含有するＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。
【効果】疎水性が高く、液浸水への溶出が低く、酸拡散を制御できるため、高解像性のパターンプロファイルを構築できる。 （もっと読む）

【課題】電子線やＥＵＶを露光源とする光リソグラフィー技術により、優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンの製造できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物に含有される新規な化合物を提供すること。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、
Ｘは、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基などを表すが、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して脂肪族炭化水素基を形成していると好ましい。］
〔２〕前記化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の１つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の面方向における断面形状に関して整形性が良好な（変形度が低い）コンタクトホールを形成できるパターン形成方法、並びに、これを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（１）基板上に、（Ａ）化学増幅型レジスト組成物によって、レジスト膜を形成する工程、（２）露光して、ラインアンドスペースの潜像を形成する工程、（３）第１の加熱処理を行う工程、（４）第２のラインアンドスペースの潜像を、前記第１のラインアンドスペースの潜像におけるライン方向と交差するように形成する工程、（５）第２の加熱処理を行う工程、及び、（６）前記第２の加熱処理が行われたレジスト膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像を行う工程を、この順で有するパターン形成方法、並びに、このパターン形成方法を用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】熱可塑による成形が可能であり、耐ケミカルクラック性や機械強度が高く、さらには表面硬度にも優れているメタクリル系樹脂組成物及びこの成形体が得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：８０〜９８．５質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも１種の他のビニル単量体単位：１．５〜２０質量％と、を含むメタクリル系樹脂（Ａ）：１００質量部と、
以下の（ｉ）及び（ｉｉ）の条件を満たすテトラフルオロエチレン樹脂（Ｂ）：０．０１〜１０質量部と、
を、含有する
メタクリル系樹脂組成物。
（ｉ）数平均分子量（Ｍｎ）が０．５万以上５０万未満
（ｉｉ）平均粒子径が０．５μｍ以上８μｍ以下 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）ヘキサフルオロプロピル酸エステル基を側鎖に有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として、ラクトン環由来の骨格及び／又は水酸基を有する骨格及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
【効果】レジスト保護膜を使うことなく高速スキャンに耐えうる高撥水性かつ高滑水性のレジスト膜を実現し得る。更には、アルカリ現像液による上記ポリマーの加水分解により現像後のレジスト膜表面を親水性に改質し、その結果、ブロッブ欠陥が大幅に抑制できる。 （もっと読む）

【課題】偏光層と、光配向層とが設けられた新規な偏光素子及び該偏光素子を含む円偏光子、並びにそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材上に、光配向層及び偏光層がこの順で設けられた偏光子であり、
該光配向層が光反応性基を有するポリマーから形成されたものであり、
該偏光層が、
重合性スメクチック液晶化合物及び二色性色素を含有する組成物から形成されたものである偏光素子、当該偏光素子の偏光層上にさらに位相差層を設けた円偏光板又は、当該偏光素子の透明基材を位相差フィルムに置き換えた円偏光板の提供。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 酸分解性基を有する樹脂（Ａ）と、
式（Ｂ３）


［式（Ｂ３）中、
Ａ_ａ^＋は、酸分解性基を有し、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｂ３）と、
式（Ｅ１）


［式（Ｅ１）中、
Ａ_Ｎ^＋は、窒素原子を有する有機カチオンを表す。
Ｘ⁻は、窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。］
で表される塩（Ｅ１）と
を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬを用いた照明やディスプレイなどにおいて、回折格子の凹凸を高屈折率の透明材料で埋めた後に平坦化するという複雑な工程を経ることなく、発光層から放出される光を外部に有効に取り出すことができる有機ＥＬ素子を製造するのに適した部材を提供することにあり、また、Ｒ、Ｇ、Ｂの各光源の波長に合わせた構造を形成させることなく、発光層から放出される光を外部に取り出すことができる有機ＥＬ素子を製造するのに適した部材を提供することにあり、さらに有機ＥＬ素子の長寿命化に適した部材を提供することにある。
【解決手段】海島構造からなる相分離構造を有し、ヘーズが１％以上である光学シートであって、不活性ガス中において１０℃／ｍｉｎの昇温速度で熱重量減少測定をしたときにおいて、有機物を含む脱離成分の量が３０℃から２００℃の間において１重量％以下である光学シート。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】複数個の点光源を用いながら、導光板の入光面近傍における輝度ムラ（ホットスポット）の発生がほとんどない面光源装置を液晶表示装置として用いたテレビ受信装置を提供する。
【解決手段】出光面、出光面と対向する対向面、及び、出光面と対向面との間に挟まれた少なくとも１つの入光面を有する導光板、並びに、導光板の少なくとも１つの入光面の近傍に配置された複数の点光源を有する面光源装置と、導光板の出光面と対向するように配置され、光の透過を調整することによって表示をする表示エリア及び表示エリアを画定する遮光枠を有する表示パネルと、放送映像信号を受信するチューナーと、を備えるテレビ受信装置であって、導光板の少なくとも１つの入光面が、開口部又は底面が出光面と垂直な方向に長い異方性形状を有する複数の凹部又は凸部を有する、テレビ受信装置。 （もっと読む）

【課題】新規な光反応性液晶配向剤、及び該光反応性液晶配向剤から形成される光配向層を有する液晶表示素子を提供する。
【解決手段】式(１−１)


で表されるポリマーを含む光反応性液晶配向剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】離型性、型再現性、基板フィルムとの密着性に優れ、耐久性（耐擦傷性、耐スクラッチ性）の高い基材上に成型する光学レンズに適した樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ビフェニル型エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）及び／またはナフタレンを有する（メタ）アクリレート（Ｂ）、フェニルフェノール構造を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）、可塑剤（Ｄ）を、及び、光重合開始剤（Ｅ）を含有するレンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
（ａ）分散度が１．２以下
（ｂ）重量平均分子量が２０００以上６５００以下
（ｃ）ガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃以上 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れる硬化物や重合体を与える含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及びそれを含有する光硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 下記の一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示す。）
で表される含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及び当該含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有する光硬化性樹脂組成物により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｒ¹は、メチル基等を表す。Ｘ^１は、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Ａ^１は、単結合又は結合置換基を表し、Ｘ^２は、単結合または酸素等を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜３６の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有するシクロオレフィンを重合してなる繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含む、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有するシクロオレフィンを重合してなる繰り返し単位とスルホニウム塩の繰り返し単位を含有する高分子化合物と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によるフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高くエッチング耐性が高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れ、欠陥の少ないレジストパターンを製造することのできる化合物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１は、式（ａ−ｇ１）


式（ａ−ｇ１）中、Ｙ^１は、アントラセン環、フルオレン環又はフェナントレン環を含む２価の有機基を表す。Ｒ²は、炭素数１〜１２のフッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】十分な溶解性を示し、使用可能な濃度範囲が広くて、優れたヘイズ低下性を示す材料を提供すること。
【解決手段】下記一般式で表される化合物を含むヘイズ低下剤。


［式中、Ｘは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基；Ｃｙは環状構造を有する二価の基を表し、Ｌは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または炭素数が１〜６のアルキル基）、−ＳＯ₂−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、アルキレン基またはフッ化アルキレン基あるいはそれらを組み合わせてなる基；Ｈｂは炭素数２〜３０のフッ化アルキレン基を；ｎは１または２を表す。］ （もっと読む）

【課題】アクリル樹脂の長所を生かし、かつ欠点を改善し、アルカリ鹸化処理適性、密着性、耐脆性及び光学的透明性を高めた光学フィルムとその製造方法を提供する。また、当該光学フィルムを具備した偏光板を提供する。
【解決手段】アクリル樹脂（Ａ）とセルロースエステル樹脂（Ｂ）とを含有する光学フィルムであって、特定要件を満たすことを特徴とする光学フィルム。 （もっと読む）