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Fターム[4J100BA03]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | O含有基 (18,190) | −OH基 (4,097)

Fターム[4J100BA03]に分類される特許

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【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
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【課題】活性エネルギー線硬化性組成物に添加することで、該組成物の硬化塗膜表面に優れた耐擦傷性を付与することができ、さらに硬化塗膜表面を強アルカリ等の薬品で処理しても低下しない優れた耐擦傷性を付与できるシリコーン系重合性樹脂を提供する。また、該シリコーン系重合性樹脂を用いた活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化物及び該組成物の硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】重合体の構造中にシリコーン基、アダマンチル基及び重合性不飽和基を有する重合体であることを特徴とするシリコーン系重合性樹脂、該シリコーン系重合性樹脂を配合した活性エネルギー線硬化性組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】エチレン性不飽和部分を含有する重合可能なジメチコーンコポリオールマクロマー、およびこのマクロマーから得られるポリマーを提供すること。
【解決手段】ジメチコーンコポリオールポリマーをジメチコーンコポリオールマクロマーから合成する。マクロマー繰り返し単位を含有するポリマーは、柔軟性、潤滑性、固定性、耐湿性、撥水性、光沢、表面改質および界面活性剤特性をもたらすような、パーソナルケア、布地処方物および産業処方物を含む種々の用途に有用である。 (もっと読む)


【解決手段】(A)ヘキサフルオロプロピル酸エステル基を側鎖に有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物、(B)ベース樹脂として、ラクトン環由来の骨格及び/又は水酸基を有する骨格及び/又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、(C)高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、(D)有機溶剤を含有するレジスト材料。
【効果】レジスト保護膜を使うことなく高速スキャンに耐えうる高撥水性かつ高滑水性のレジスト膜を実現し得る。更には、アルカリ現像液による上記ポリマーの加水分解により現像後のレジスト膜表面を親水性に改質し、その結果、ブロッブ欠陥が大幅に抑制できる。 (もっと読む)


【課題】露光ラチチュードが広く、耐熱性に優れ、高温プロセス(250℃以上)を有するパターン形成に適用された場合においても、隣接パターンへの色移りが抑制された着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)重合性基を有する色素多量体、(B)顔料、(C)重合性化合物、及び(D)光重合開始剤を含有する着色硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】ナノエッジラフネスを低減することができ、かつ焦点深度に優れるフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される化合物、及び[B]下記式(2−1)で表される構造単位(I)を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物である。
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【課題】ポリビニルアルコール(PVA)系重合体粒子の熱劣化を抑えつつ、PVA系重合体粒子中のメタノールを従来の方法よりも多く除去すること。
【解決手段】メタノールを含有する溶媒中でビニルエステル系モノマーを少なくとも含むモノマーを重合した後、ケン化してPVA系重合体の粒子を調製する工程と、前記粒子を炭素数2〜3のアルコールを主体とする洗浄液で洗浄する工程とを含む、ポリビニルアルコール系重合体粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性(例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER))、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記(a)〜(c)を同時に満たす高分子化合物(A)を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
(a)分散度が1.2以下
(b)重量平均分子量が2000以上6500以下
(c)ガラス転移温度(Tg)が140℃以上 (もっと読む)


【課題】インキの保存安定性ならびに吐出性安定性に優れ、低温乾燥で良好な塗膜耐性(耐擦性、耐水性、耐溶剤性)を発現する水性インクジェットインキ用バインダー樹脂組成物の提供。
【解決手段】イオン性官能基を有さない芳香族エチレン性不飽和単量体(A)0〜20重量%;
スルホン酸基含有エチレン性不飽和単量体(B)またはリン酸基含有エチレン性不飽和単量体(C)0.5〜3.0重量%;
非イオン性の水溶性エチレン性不飽和単量体(D)0.1〜3.0重量%;
架橋性エチレン性不飽和単量体(E)0.1〜10重量%;
を含むエチレン性不飽和単量体を乳化重合してなる樹脂微粒子(F)を含む水性インクジェット用バインダー樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】フォーカスマージン(DOF)に優れ、欠陥の少ないレジストパターンを製造することのできる化合物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される化合物。


[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。Aは、式(a−g1)


式(a−g1)中、Yは、アントラセン環、フルオレン環又はフェナントレン環を含む2価の有機基を表す。R2は、炭素数1〜12のフッ化アルキル基を表す。] (もっと読む)


【課題】本発明は、アルカリ水溶液に対して十分な耐性を有する被めっき層形成用組成物、および、めっきの均一性に優れた金属層を有する積層体の製造方法、を提供することを目的とする。
【解決手段】熱、酸または輻射線により疎水性から親水性に変化する官能基と、カルボキシル基、ヒドロキシル基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、クロロシリル基、1級アミノ基、2級アミノ基、3級アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、(メタ)アクリルアミド基、アリル基、スチリル基、マレイミド基、およびシンナモイル基からなる群より選択される少なくとも一種の架橋性基とを有するポリマーを含む被めっき層形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式(I)で表される塩とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Lは、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。Yは、芳香族炭化水素基を含む炭素数6〜30の2価の有機基を表す。Rは、炭素数1〜12のフッ化アルキル基を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】耐屈曲性及び絶縁性を損なうことなく、難燃性と耐ブリード性を備えた硬化物を形成できる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】芳香環を少なくとも1つ含み且つリン元素を含有する2価の有機基(X)を側鎖に有するカルボキシル基含有(メタ)アクリル系樹脂(A)と、
分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能性エポキシ化合物(B)と、
塩基性触媒(C)と、を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


(Aは−(CR22m−、Bは−(CR52n−を示し、R2、R5は水素原子又はアルキル基、R2同士又はR5同士が互いに結合して環を形成してもよい。m、nは1又は2、R6はアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基、R3はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であり、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。pは0〜4の整数。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 (もっと読む)


【課題】安定性を有し、かつ硬化物において透明性及び耐熱着色性に優れ、十分なガスバリア性を示し、クラックが生じにくい光学部品用硬化性樹脂原料組成物およびこれを用いた光学部品を提供する。
【手段】下記式(I)で表されるアダマンタン誘導体Aを含有する光学部品用硬化性樹脂原料組成物。


(式中、A及びAは、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基から選ばれる基である。ただしAとAとは異なる。Rは二重結合を含まない置換基を表す。nは0〜8の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】シアノアダマンチル化合物およびポリマーおよびこれを含有するフォトレジスト
【解決手段】シアノアダマンチル化合物、このような化合物の重合単位を含有するポリマーおよびこのようなポリマーを含有するフォトレジスト組成物が提供される。本発明の好ましいポリマーは、250nmよりも短い波長、たとえば248nmおよび193nmで画像形成されるフォトレジスト中に使用される。 (もっと読む)


【課題】フォーカスマージン(DOF)が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される化合物。


[式中、R1は、メチル基等を表す。Xは、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Aは、単結合又は結合置換基を表し、Xは、単結合または酸素等を表す。Rは、炭素数1〜36の炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】耐水性に優れ、高い耐水接着力が要求される水系接着剤に好適なポリビニルアルコール乳化型ポリクロロプレンラテックス及びその製造方法、並びに水系接着剤を提供する。
【解決手段】分子内にカルボキシル基を有するポリビニルアルコールの存在下で、クロロプレン単独又はクロロプレンと他の単量体とを乳化重合して、クロロプレンラテックスとする。そして、このクロロプレンラテックスに、硬化剤や金属酸化物などを配合して、水系接着剤とする。 (もっと読む)


【課題】光及び/又は熱によって硬化する液晶シール剤であって、低液晶汚染性に極めて優れる為、液晶表示素子の高精細化、高速応答化、低電圧駆動化、長寿命化を可能とし、さらには保存安定性にも優れる為、作業性が非常に良い液晶滴下工法用液晶シール剤を提案すること。
【解決手段】(A)硬化性樹脂、(B)熱硬化剤を含有する液晶シール剤において、成分(A)中に、(a)一分子中にアクリル基及びメタクリル基をそれぞれ1つ以上有する化合物を含有する液晶シール剤。 (もっと読む)


【課題】パターンプロファイル及び焦点深度マージンに優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、特に反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いてパターン形成される場合にもこれら性能に優れ、インプランテーション用として好適な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(PG1)、(PG2)、(PG3)と、ラクトン構造を含む少なくとも一種の繰り返し単位を含有する樹脂(A)光酸発生剤(B)と、溶剤(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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