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Fターム[4J100BA03]の内容

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Fターム[4J100BA03]に分類される特許

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【課題】第四級アンモニウム塩を含む組成物を提供すること。
【解決手段】(a)第三級アミノ基を有するマンニッヒ反応生成物であって、上記マンニッヒ反応生成物は、ヒドロカルビル置換フェノールと、アルデヒドと、アミンとの反応より調製される、マンニッヒ反応生成物;および(b)上記第三級アミノ基を第四級窒素に変換するのに適切な第四級化剤の反応の反応生成物より作製される第四級アンモニウム塩清浄剤、および吸気弁デポジットを低減するための上記第四級アンモニウム塩清浄剤の燃料組成物中での使用。 (もっと読む)


【課題】パターン形状に優れるレジストパターンを形成でき、パターン倒れ耐性を向上させ、ブロッブ欠陥及びブリッジ欠陥の発生を低減できる液浸用上層膜形成組成物の提供。
【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体中にカルボキシル基を含む構造単位(I)、スルホ基を含む構造単位(II)、α−トリフルオロメチルアルコール基を含む構造単位(III)、スルホンアミド基を含む構造単位(IV)及び下記式(i)で表される基を含む構造単位(V)からなる群より選ばれる少なくとも1種を有する重合体成分を含有する液浸用上層膜形成組成物であって、この液浸用上層膜形成組成物が[A]重合体成分の同一又は異なる重合体中に、芳香族含窒素複素環を含む構造単位(A)をさらに有するか又は[B]芳香族含窒素複素環を有する化合物をさらに含有するかの少なくともいずれか一方であることを特徴とする。
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【課題】レジスト組成物に有用な酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分(B)が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R101〜R104はそれぞれ独立にアルキル基またはアルコキシ基であり、n1は1〜5の整数であり、n3およびn4はそれぞれ独立に0〜3の整数である。Xはアニオンである。
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【課題】レジストパターン製造時のラインエッジラフネス(LER)が良好なレジスト組成物を構成する酸発生剤の提供。
【解決手段】式(1)で表される基を有するヒドロキシ芳香族誘導体。


[式中、Q及びQは、同一又は相異なり、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Zは、有機カチオンを表す。*は、ヒドロキシ芳香族環との結合手を表す。] (もっと読む)


【課題】高感度で、現像後のパターン倒れの発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスの提供。
【解決手段】(A)下記一般式(A0)で表される部分構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程(1)、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程(2)、及び露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程(4)を有するパターン形成方法。


上記一般式中、Arは樹脂(A)の主鎖と直接又は間接的に結合する芳香環基を表し、Rは水素原子又は酸の作用により脱離する基を表す。 (もっと読む)


【解決手段】側鎖末端にヘキサフルオロヒドロキシプロピルカルボニルオキシ基を有する(メタ)アクリレート単位を含有し、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。
【効果】上記レジスト保護膜材料は、高撥水性かつ高滑水性性能を有する。そのため水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト成分の水への溶出が抑えられる上、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィーを実現することができる。 (もっと読む)


【課題】取扱性に優れ、高い耐水性や耐ブロッキング性を有する皮膜を得ることができるコーティング剤を用いて得られる塗工物、感熱記録材、インクジェット記録材及び剥離紙原紙、並びに塗工物の製造方法を提供する。
【解決手段】式(1)で表される基を有する単量体単位を含み、式(I)を満たすビニルアルコール系重合体(A)、及びポリアミドポリアミンエピクロロヒドリン系樹脂(B)を含有し、(B)の含有量が(A)100質量部に対して0.2質量部以上150質量部以下とする。


370≦P×S≦6,000・・・(I)。P:粘度平均重合度。S:上記単量体単位の含有率(モル%)。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)〜(3)から選ばれる酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 (もっと読む)


【課題】優れた耐熱性、摩擦摺動特性および吸収振動性を有する硬化物が得られるフェノール樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アクリル酸エステル類モノマーとアルケニルフェノール類モノマーとの共重合体(I)およびフェノール樹脂(II)を含むフェノール樹脂組成物であって、共重合体(I)は下記要件(A)、(B)及び(C)を満たす、フェノール樹脂組成物。(A)前記アクリル酸エステル類モノマー/前記アルケニルフェノール類モノマーの重量比が95/5〜65/35である。(B)重量平均分子量が40000以上90000以下である。(C)ガラス転移温度が−10℃以下である。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


(R1、R2は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数2〜10のアルケニル基で、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。R3はフッ素原子又はトリフルオロメチル基、mは1〜5の整数。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超LSI製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、EUV露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】光感度に優れるとともに、光硬化後に得られるレジスト形状を良好に維持することが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)重合禁止剤を含有し、(D)重合禁止剤の含有量が組成物中の固形分全量を基準として20〜100質量ppmである、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】毛髪の容積特性を改善するための新しいやり方の提供。
【解決手段】パーソナルケア用途において有用であるポリマーであって、モノマー単位当たり少なくとも1個の式(I)(ここで、各R1は独立して、H、メチル又はエチルであり、各R2は独立して、H又は(C1〜C6)アルキルであり、各nは独立して、約5から約500の整数である)によるペンダントポリ(アルキレンオキシ)置換基を含むモノマー単位を、該ポリマーのモノマー単位の総数を基準として50%より多く含み、且つモル当たり約1,000から約1,000,000グラムの重量平均分子量を示すポリマー。
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【課題】主鎖に環構造を有するアクリル系重合体と、紫外線吸収剤とを含有するアクリル樹脂組成物の長時間連続生産を可能とする方法を提供する。
【解決手段】上記アクリル樹脂組成物の製造方法であって、アクリル系重合体の環化縮合反応を行う環化工程と、触媒の使用量に対して0.1〜0.7モル当量の塩基性物質または酸性物質によって触媒を中和する中和工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】グリシジル基を高い比率で含有した多孔質ポリマー粒子とそれより得られるイオン交換樹脂粒子を提供しようとするものである。
【解決手段】グリシジルメタクリレート、3官能以上の多官能ビニルモノマー、重合開始剤および有機溶媒を特定の比率で配合した溶液を水中に分散させ懸濁状態とし、懸濁重合法により重合した後に有機溶媒を除去することにより得られることを特徴とする多孔質ポリマー粒子およびそれを用いたイオン交換樹脂粒子並びにそれらの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】パターン倒れの抑制およびラインエッジラフネスの改善を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位および酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位を含む樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する


一般式(1)中、Lは、2価の連結基を表し;Rは、水素原子またはアルキル基を表し;Zは、環状酸無水物構造を表す。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角を示すことにより、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト膜を形成可能なフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]酸解離性基を有する重合体、[B]下記式(1)で表される構造単位(I)を有し、フッ素原子を含む重合体、[C]酸発生体、及び[D]溶媒を含有するフォトレジスト組成物である。R及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。但し、RとRとが互いに結合して、これらが結合している炭素原子と共に炭素数3〜20の環構造を形成してもよい。
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【課題】従来技術と比較して、セメント混和剤における各種の性能をより一層改善しうる手段を提供する。
【解決手段】本発明のセメント混和剤用共重合体の製造方法は、化学式1で表される不飽和カルボン酸系単量体と、化学式2で表される不飽和ポリアルキレングリコール系単量体とを必須成分として含有する単量体成分を反応器中、溶媒の存在下で溶液重合させることを含む。そして、反応系における前記溶媒以外の成分の濃度の反応時間に対する平均値として定義される反応系平均濃度が1〜50質量%である点に特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時にはレジスト膜表面の優れた水切れ性を示すと共に、現像欠陥の発生を抑制できる新規な化合物、この化合物に由来する構造単位を有する重合体、この重合体を含有するフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される化合物に由来する構造単位を有する重合体、さらに、[A]酸解離性基を有する重合体、[B]当該重合体、[C]酸発生体及び[D]溶媒を含有するフォトレジスト組成物。式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。但し、R及びRのうち少なくとも1つの基は、フッ素原子を有する。nは、1〜4の整数である。
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【解決手段】酸の作用により分解するアセタール保護基で保護されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、スルホン酸を発生するオニウム塩型光酸発生剤と、カルボン酸を発生するオニウム塩型光酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
【効果】酸の作用により分解するアセタール保護基で保護されたヒドロキシ基をアセタール保護した繰り返し単位を含む高分子化合物と、高エネルギー線でスルホン酸を発生する化合物及びカルボン酸を発生する化合物を含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い特徴と、ナノエッジラフネスを低減する特徴を有し、このことにより微細なホールパターンを寸法制御よくかつ高感度で形成することを可能とする。 (もっと読む)


【課題】耐溶剤性に優れ、低比誘電な硬化膜を形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)カルボキシル基を有するモノマー単位および/またはフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位(a1)と、オキセタニル残基を有するモノマー由来の繰り返し単位(a2)と、を有する共重合体、ならびに(B)感放射線酸発生化合物、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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