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Fターム[4J100BA03]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | O含有基 (18,190) | −OH基 (4,097)

Fターム[4J100BA03]に分類される特許

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【課題】 焦点深度ラチチュード(Depth Of Focus)が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物(A)として、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−1)、又は、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−2)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、一般式(a5−0)で表される構成単位(a5)と、露光により酸を発生する構成単位(a6)とを有する高分子化合物(A1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】金属イオン不純物濃度が低く、半導体リソグラフィーに好適に用いることができる、半導体リソグラフィー用重合体または重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体リソグラフィー用重合体、または該重合体を含む重合体溶液の製造方法において、原料または生成物と接触する容器として、該容器に対して10体積%のメタノールで還流した時に、該還流後のメタノール中の各金属イオン不純物濃度が10ppb以下である容器を用いる工程を有する、半導体リソグラフィー用重合体または該重合体を含む重合体溶液の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ネガ型パターンを高解像性で、かつ、良好な形状で形成できるレジストパターン形成方法と、これに用いるのに好適なレジスト組成物の提供。
【解決手段】基材成分(A)及び光塩基発生剤成分を含有するレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、レジスト膜を露光する工程、露光後にベークを行う工程、レジスト膜をアルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法、及びこれに用いるレジスト組成物であって、(A)成分は酸分解性基を含む構成単位、−SO−又はラクトン含有環式基を含む構成単位、式(a3−1)で表される構成単位(但し10モル%以下)を有する高分子化合物を含む。
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【課題】矩形性の高い良好な断面形状、高い残膜率及びブリッジ欠陥の低減を鼎立し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成されたレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位と、ラクトン構造又はサルトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位とを有する樹脂、及び
(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


一般式(1)中、
Lは、単結合又は2価の連結基を表し、
は、水素原子又はアルキル基を表し、
Zは、環状酸無水物基を表す。 (もっと読む)


【課題】 酸化ジルコニウム粒子及び有機ケイ素化合物を多量に配合しても低粘度であり、黄変を抑制することができ、透明性、耐熱性に優れた高屈折率の樹脂を形成する光学材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
平均粒子径が1〜30nmである酸化ジルコニウム粒子と、下記式(1)で示される化合物からなる分散剤と、有機ケイ素化合物と、重合性不飽和基を有する化合物とを含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物である。
ただし、式(1)のRは、分岐鎖を有し炭素数が3ないし24のアルキル基および/又はアルケニル基であり、AOは炭素数が1ないし4のオキシアルキレン基であり、nはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す3〜30の範囲の数値であり、Xは炭素原子、水素原子及び/又は酸素原子からなる連結基である。
【化1】
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【課題】表面硬度と帯電防止性とを兼備し、更に透明性、耐カール性にも優れるハードコート層が得られる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、該樹脂組成物を含む塗料、該塗料からなる塗膜、及び該塗膜層を有するフィルムを提供すること。
【解決手段】
平均粒子径が95〜250nmの範囲である無機微粒子(A)、アルカリ金属塩(B)、分子構造中にポリオキシアルキレン骨格を有するオルガノポリシロキサン(C)及び重量平均分子量(Mw)が5,000〜80,000の範囲であり、分子構造中に(メタ)アクリロイル基を有するアクリル重合体(X)を必須の成分として含有し、その不揮発成分100質量部中に前記無機微粒子(A)を35〜60質量部の範囲で含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物及び熱架橋剤を含有する高感度、高解像度な厚膜用の化学増幅ポジ型レジスト材料に関する。
【解決手段】(A)ベース樹脂、(B)光酸発生剤、(C)熱架橋剤、(D)有機溶剤を含有し、(A)成分が100質量部、(B)成分が0.05〜20質量部、(C)成分が0.1〜50質量部、(D)成分が50〜5,000質量部からなり、(A)ベース樹脂が、重量平均分子量1,000〜500,000である高分子化合物を含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 (もっと読む)


【課題】ディフェクトの発生が低減され、リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の製造方法、並びに当該高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、−SO−含有環式基を含むモノマーと、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含むモノマーとを共重合して高分子化合物(但し、該高分子化合物は露光により酸を発生するモノマーから誘導される構成単位を含まない)を製造する方法であって、前記共重合を、前記−SO−含有環式基を含むモノマーに対して、0.001〜1.0モル%の塩基性化合物の存在下で行うことを特徴とする高分子化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低速度剥離領域と高速度剥離領域との粘着力のバランスが優れ、さらに耐久性およびリワーク性にも優れた粘着剤組成物及び表面保護フィルムを提供する。
【解決手段】(A)アルキル基の炭素数がC4〜C10の(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーと、(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含む共重合体からなり、さらに、(E)3官能以上のイソシアネート化合物、(F)架橋遅延剤、(G)架橋触媒、(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を含有してなることを特徴とする粘着剤組成物を提供する。 (もっと読む)


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